CN109628895A - 一种电子束蒸发式真空镀膜机 - Google Patents

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杨佳葳
龚涛
蔡国
龚平
谢俊
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    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
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Abstract

一种电子束蒸发式真空镀膜机，包括腔体组件、伞架组件、高阀组件、深冷系统、管道系统、扩散泵、罗茨泵、机械泵、离子源组件、电子枪组件、电控柜组件、线槽组件和门夹紧组件；所述伞架组件固定在腔体组件上，所述高阀组件与腔体组件相连，所述高阀组件、扩散泵、罗茨泵以及机械泵通过管道系统连接在一起，所述门夹紧组件安装于腔体组件上；所述电子枪组件的电子枪部分、离子源组件的离子源部分均安装在腔体组件内；所述深冷系统包括2根深冷盘管，1根安装在腔体组件内，1根安装在高阀组件内。本发明具有机构简单，镀膜结构均匀重复性高，腔体尺寸可达2700mm，镀膜效率高等特点。

Description

一种电子束蒸发式真空镀膜机
技术领域
本发明涉及一种电子束蒸发式真空镀膜机。
背景技术
目前，现有电子束蒸发式真空镀膜由于设计上存在的不足，其存在机构复杂、镀膜结构均匀重复性低、镀膜效率低的缺陷。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是，提供一种机构简单，镀膜结构均匀重复性高，腔体尺寸可达2700mm，镀膜效率高的电子束蒸发式真空镀膜机。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：一种电子束蒸发式真空镀膜机，包括腔体组件、伞架组件、高阀组件、深冷系统、管道系统、扩散泵、罗茨泵、机械泵、离子源组件、电子枪组件、电控柜组件、线槽组件和门夹紧组件；所述伞架组件固定在腔体组件上，所述高阀组件与腔体组件相连，所述高阀组件、扩散泵、罗茨泵以及机械泵通过管道系统连接在一起，所述门夹紧组件安装于腔体组件上；所述电子枪组件的电子枪部分、离子源组件的离子源部分均安装在腔体组件内；所述深冷系统包括2根深冷盘管，1根安装在腔体组件内，1根安装在高阀组件内。
进一步，所述扩散泵为2个，所述机械泵为2个。
进一步，所述机械泵上安装有油雾过滤组件。
进一步，所述线槽组件、电控柜组件、电子枪组件的电源、离子源组件的电源放置在腔体组件右侧，所述深冷系统的深冷机放置在腔体组件左侧后方。
进一步，还设有脚踏板组件，所述脚踏板组件放置在腔体组件正前方。
进一步，所述腔体组件内同时还安装有卤素灯、防污衬板、修正板等。卤素灯的作用在于镀膜机开始工作时先对炉体内壁加热，防污衬板的作用在于防止工作物资污染炉体内壁（清洗防污衬板比清洗炉体内壁简单），修正板的作用在于修正镀膜厚度的均匀性。
与现有技术相比，本发明具有机构简单，镀膜结构均匀重复性高，腔体尺寸可达2700mm，镀膜效率高等特点。
附图说明
图1 为本发明实施例的结构示意图；
图中：1.腔体组件，2.伞架组件，3.高阀组件，4.深冷系统，5.管道系统，6.油过滤组件，7.扩散泵，8.罗茨泵，9.机械泵，10.离子源组件，11.电子枪组件，12.电控柜组件，13.线槽组件，14.门夹紧组件，15.脚踏板组件。
具体实施方式
以下结合附图及实施例对本发明作进一步说明。
实施例
参照图1，一种电子束蒸发式真空镀膜机，包括1套腔体组件1、1套伞架组件2、1套高阀组件3、1套深冷系统4、1套管道系统5、2个油过滤组件6、2个扩散泵7、1个罗茨泵8、2个机械泵9、1套离子源组件10、1套电子枪组件11、1套电控柜组件12、1套线槽组件13、两个门夹紧组件14和1套脚踏板组件15；所述伞架组件2固定在腔体组件1上，所述高阀组件3与腔体组件1相连，所述高阀组件3、扩散泵7、罗茨泵8以及机械泵9通过管道系统5连接在一起，所述门夹紧组件14安装于腔体组件1上，用于控制腔体组件1上门与腔体的压紧和密封；所述脚踏板组件15放置在腔体组件1正前方，所述线槽组件13、电控柜组件12、电子枪组件11中的电源、离子源组件10中的电源放置在腔体组件1右侧，所述深冷系统4中的深冷机放置在腔体组件1左侧后方，所述电子枪组件11的电子枪部分、离子源组件10的离子源部分均安装在腔体组件1内，所述腔体组件1内同时还安装有卤素灯、防污衬板、修正板等；所述深冷系统4包括2根深冷盘管，1根安装在腔体组件1内，1根安装在高阀组件3内；所述两个机械泵9上均安装有油过滤组件6，用于机械泵9中油雾的回收与重复利用。
所述深冷系统4的作用在于对腔体组件1内的1根深冷盘管和高阀组件3内的1根深冷盘管冷却到一定的温度，利用高低温将腔体组件1内和高阀组件3内水气和油气进行吸附以提高镀膜时腔体内的真空度。
管道系统5将高阀组件3、扩散泵7、罗茨泵8以及机械泵9连接在一起，用于抽真空过程中气体的通道。
离子源组件10用于机器工作过程中，工件表面的清洗；电子枪组件11用 于加工过程中为工件镀膜提供原始镀膜材质。
电控柜组件12用于整个机器的顺序控制和功能监控，线槽组件14用于机器的走线使得线路规整美观，脚踏板组件15用于工件的上下料。
镀膜机开始工作时，操作人员通过脚踏板组件15将摆好的工件伞架放置在伞架组件2上，关闭腔体组件1上的炉门再利用门夹紧组件将炉门夹紧，镀膜机开始工作，先开2个机械泵9（此时2个油雾过滤器6开始工作将工作过程中机械泵9内挥发的油蒸汽回收进入机械泵），当腔体组件1检测到腔体内真空度达到一个数值时，罗茨泵8打开，进一步对腔体组件1中的腔体抽真空，同时深冷组件4开始工作，当腔体内真空度进一步下降到一定数值后，2个扩散泵7打开，进一步对腔体组件1中的腔体抽真空，当腔体内真空度进一步下降到一定数值后，伞架组件2开始工作镀膜正式开始，同时根据要求开离子源组件10和电子枪组件11；
镀膜结束后，先缓慢停止伞架组件2，关闭深冷组件4、离子源组件10和电子枪组件11，再依次关闭扩散泵7、罗茨泵8、机械泵9（机械泵9关闭油雾过滤组件器6自动停止工作）。
该机器工作时工件放置在腔体组件1内伞架系统2上，工作过程中伞架驱动系统带动工件沿着腔体组件1中腔体的中心轴线做稳定的匀速旋转，伞架系统2中还安装有晶振装置用于镀膜过程中镀膜厚度的监控。
工作时先2个机械泵9工作，腔体组件1内真空度达到一定值后，罗茨泵8开启，腔体组件1内真空度进一步下降，达到一定值后，扩散泵7开启，最后真空度达到工作条件后，机器开始镀膜。

Claims (6)

1.一种电子束蒸发式真空镀膜机，其特征在于：包括腔体组件、伞架组件、高阀组件、深冷系统、管道系统、扩散泵、罗茨泵、机械泵、离子源组件、电子枪组件、电控柜组件、线槽组件和门夹紧组件；所述伞架组件固定在腔体组件上，所述高阀组件与腔体组件相连，所述高阀组件、扩散泵、罗茨泵以及机械泵通过管道系统连接在一起，所述门夹紧组件安装于腔体组件上；所述电子枪组件的电子枪部分、离子源组件的离子源部分均安装在腔体组件内；所述深冷系统包括2根深冷盘管，1根安装在腔体组件内，1根安装在高阀组件内。
2.根据权利要求1所述的电子束蒸发式真空镀膜机，其特征在于：所述扩散泵为2个，所述机械泵为2个。
3.根据权利要求1或2所述的电子束蒸发式真空镀膜机，其特征在于：所述机械泵上安装有油雾过滤组件。
4.根据权利要求1或2所述的电子束蒸发式真空镀膜机，其特征在于：所述线槽组件、电控柜组件、电子枪组件的电源、离子源组件的电源放置在腔体组件右侧，所述深冷系统的深冷机放置在腔体组件左侧后方。
5.根据权利要求1或2所述的电子束蒸发式真空镀膜机，其特征在于：还设有脚踏板组件，所述脚踏板组件放置在腔体组件正前方。
6.根据权利要求1或2所述的电子束蒸发式真空镀膜机，其特征在于：所述腔体组件内还安装有卤素灯、防污衬板、修正板。
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Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0617241A (ja) * 1992-07-01 1994-01-25 Jeol Ltd イオンプレーティング装置
JPH06240445A (ja) * 1993-02-15 1994-08-30 Canon Inc イオンビームアシスト蒸着による光学薄膜の製造方法および装置
CN102230157A (zh) * 2011-06-14 2011-11-02 胡永强 含过滤结构的电阻蒸发镀膜机
CN206956138U (zh) * 2017-07-14 2018-02-02 辽宁中蓝电子科技有限公司 一种光学镜片镀膜机
CN207498464U (zh) * 2017-07-20 2018-06-15 深圳市一诺真空科技有限公司 一种真空镀膜机
CN209702843U (zh) * 2019-01-23 2019-11-29 湖南宇诚精密科技有限公司 电子束蒸发式真空镀膜机

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0617241A (ja) * 1992-07-01 1994-01-25 Jeol Ltd イオンプレーティング装置
JPH06240445A (ja) * 1993-02-15 1994-08-30 Canon Inc イオンビームアシスト蒸着による光学薄膜の製造方法および装置
CN102230157A (zh) * 2011-06-14 2011-11-02 胡永强 含过滤结构的电阻蒸发镀膜机
CN206956138U (zh) * 2017-07-14 2018-02-02 辽宁中蓝电子科技有限公司 一种光学镜片镀膜机
CN207498464U (zh) * 2017-07-20 2018-06-15 深圳市一诺真空科技有限公司 一种真空镀膜机
CN209702843U (zh) * 2019-01-23 2019-11-29 湖南宇诚精密科技有限公司 电子束蒸发式真空镀膜机

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