CN109622517B - 一种连续双样品室等离子体清洗装置 - Google Patents
一种连续双样品室等离子体清洗装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN109622517B CN109622517B CN201811574687.4A CN201811574687A CN109622517B CN 109622517 B CN109622517 B CN 109622517B CN 201811574687 A CN201811574687 A CN 201811574687A CN 109622517 B CN109622517 B CN 109622517B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- sample
- plasma cleaning
- cleaning chamber
- chamber
- chambers
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B7/00—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B13/00—Accessories or details of general applicability for machines or apparatus for cleaning
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
Abstract
本发明涉及离子体清洗设备技术领域，尤其是一种连续双样品室等离子体清洗装置，包括等离子体清洗室，等离子体清洗室的两侧均设有样品室，样品室内设有样品库，样品库内设有多层样品托，样品室的上方均固定设有样品库升降装置，样品库升降装置的升降输出端固定连接在样品库上，样品室远离等离子体清洗室的一侧均固定设有送样装置，等离子体清洗室、送样装置和样品库升降装置采用全自动控制。本发明可有效减小清洗室尺寸，确保等离子体放电均匀性，获得最佳清洗效果，全自动控制，避免连续开启清洗室导致清洗室气氛变化，从而导致清洗效果的不一致性。
Description
技术领域
本发明涉及离子体清洗设备技术领域，尤其涉及一种连续双样品室等离子体清洗装置。
背景技术
等离子清洗装置(plasma cleaner)也叫等离子清洁机，或者等离子表面处理仪，是一种全新的高科技技术，利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的一种状态，也叫做物质的第四态，并不属于常见的固液气三态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括:离子、电子、原子、活性基团、激发态的核素(亚稳态)、光子等。等离子清洁机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁、涂覆等目的。目前大批量工件清洗均采用多层放置的方式，此种方法有两个缺点：
1、等离子体清洗室体积较大，整体放电面积较大，导致需要大功率电源，极大提高设备成本；
2、由于采用多层结构，影响内部气流分布及电场分布，最终产生的等离子体均匀性受到限制，导致清洗效果的不稳定性。
发明内容
本发明的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种连续双样品室等离子体清洗装置。
为了实现上述目的，本发明采用了如下技术方案：
设计一种连续双样品室等离子体清洗装置，包括等离子体清洗室，所述等离子体清洗室的两侧均设有样品室，样品室通过连接通道与等离子体清洗室相连通，样品室内设有样品库，样品库内设有多层样品托，样品室的上方均固定设有样品库升降装置，样品库升降装置的升降输出端固定连接在样品库上，所述样品室远离等离子体清洗室的一侧均固定设有送样装置，样品室对应等离子体清洗室的一侧均设有导电块，导电块与高频放电电源电性连接，等离子体清洗室、送样装置和样品库升降装置采用全自动控制，全自动控制避免连续开启等离子体清洗室导致等离子体清洗室气氛变化，从而导致清洗效果的不一致性。
优选的，所述等离子体清洗室两侧的样品室上均设有侧开门，在操作前先打开两侧样品室的侧开门，将待清洗工件分别放置在多层样品托上，之后关闭样品室的侧开门并启动等离子体清洗室内的真空泵，对两侧的样品室及等离子体清洗室抽真空，待真空度到达设定值后，等离子体清洗室根据程序设置自动进气，再次达到设定值后，系统抽气与进气进入维持阶段。
优选的，所述送样装置位于样品室的一端设有机械手，一侧的送样装置自动运行到多层样品托中的一个样品托位置，利用其前部设置的机械手夹持住样品托，同侧的样品库升降装置带动样品库自动下降，让出空间，此时送样装置自动运行到等离子体清洗室待清洗位置。
优选的，所述送样装置对应所述导电块的位置均设有伸出杆，伸出杆中间采用绝缘材料，确保前端与壳体绝缘，伸出杆的端部通过送样装置空心内的导线连接到样品托盘上，当送样装置自动运行到等离子体清洗室待清洗位置的同时，伸出杆与导电块接触，脉冲电源给导电块供电，此时在等离子体清洗室内产生等离子体，对工件进行清洗，到达设定时间后，脉冲电源自动断电。
优选的，所述等离子体清洗室两侧的送样装置进行交替送料清洗，其中等离子体清洗室一侧的送样装置自动回退至相应的多层样品托位置后，送样装置前部的机械手放下样品托，在等离子体清洗室一侧的送样装置自动回退过程中，另一侧的送样装置同步进行取样动作，操作流程与对应一侧的送样装置相一致，系统按照此流程进行往复式工作，实现自动、单片、连续式清洗。
本发明提出的一种连续双样品室等离子体清洗装置，有益效果在于：本发明具有结构简单、成本低廉等优点，将多种待清洗工件放置在样品库的样品托上后，通过两侧送样装置和样品库升降装置的作用，方便取送托盘至清洗位置，系统自动抽真空并充气，运动机构根据程序设置自动运行；启动设备后可实现自动、单片、连续式清洗，有效提高清洗效率及清洗稳定性；有效解决等离子体清洗室放置多层待清洗件，导致放电不均匀性，从而导致清洗效果的不一致性。
附图说明
图1为本发明提出的一种连续双样品室等离子体清洗装置的结构示意图。
图中：送样装置1、样品库升降装置2、样品室3、多层样品托4、导电块5、等离子体清洗室6、连接通道7。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。
参照图1，一种连续双样品室等离子体清洗装置，包括等离子体清洗室6，等离子体清洗室6的两侧均设有样品室3，样品室3通过连接通道7与等离子体清洗室6相连通，样品室3内设有样品库，样品库内设有多层样品托4，样品室3的上方均固定设有样品库升降装置2，样品库升降装置2的升降输出端固定连接在样品库上，样品室3远离等离子体清洗室6的一侧均固定设有送样装置1，样品室3对应等离子体清洗室6的一侧均设有导电块5，导电块5与高频放电电源电性连接，等离子体清洗室6、送样装置1和样品库升降装置2采用全自动控制，全自动控制避免连续开启等离子体清洗室6导致等离子体清洗室6气氛变化，从而导致清洗效果的不一致性。
等离子体清洗室6两侧的样品室3上均设有侧开门，在操作前先打开两侧样品室3的侧开门，将待清洗工件分别放置在多层样品托4上，之后关闭样品室3的侧开门并启动等离子体清洗室6内的真空泵，对两侧的样品室3及等离子体清洗室6抽真空，待真空度到达设定值后，等离子体清洗室6根据程序设置自动进气，再次达到设定值后，系统抽气与进气进入维持阶段。
送样装置1位于样品室3的一端设有机械手，一侧的送样装置1自动运行到多层样品托4中的一个样品托位置，利用其前部设置的机械手夹持住样品托盘，同侧的样品库升降装置2带动样品库自动下降，让出空间，此时送样装置1自动运行到等离子体清洗室6待清洗位置。
送样装置1对应导电块5的位置均设有伸出杆，伸出杆中间采用绝缘材料，确保前端与壳体绝缘，伸出杆的端部通过送样装置1空心内的导线连接到样品托盘上，当送样装置1自动运行到等离子体清洗室6待清洗位置的同时，伸出杆与导电块5接触，脉冲电源给导电块5供电，此时在等离子体清洗室6内产生等离子体，对工件进行清洗，到达设定时间后，脉冲电源自动断电。
等离子体清洗室6两侧的送样装置1进行交替送料清洗，其中等离子体清洗室6一侧的送样装置1自动回退至相应的多层样品托4位置后，送样装置1前部的机械手放下样品托，在等离子体清洗室6一侧的送样装置1自动回退过程中，另一侧的送样装置1同步进行取样动作，操作流程与对应一侧的送样装置1相一致，系统按照此流程进行往复式工作，实现自动、单片、连续式清洗。
以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。
Claims (5)
1.一种连续双样品室等离子体清洗装置，包括等离子体清洗室(6)，其特征在于，所述等离子体清洗室(6)的两侧均设有样品室(3)，样品室(3)通过连接通道(7)与等离子体清洗室(6)相连通，样品室(3)内设有样品库，样品库内设有多层样品托(4)，样品室(3)的上方均固定设有样品库升降装置(2)，样品库升降装置(2)的升降输出端固定连接在样品库上，所述样品室(3)远离等离子体清洗室(6)的一侧均固定设有送样装置(1)，样品室(3)对应等离子体清洗室(6)的一侧均设有导电块(5)，导电块(5)与高频放电电源电性连接，等离子体清洗室(6)、送样装置(1)和样品库升降装置(2)采用全自动控制，全自动控制避免连续开启等离子体清洗室(6)导致等离子体清洗室(6)气氛变化，从而导致清洗效果的不一致性。
2.根据权利要求1所述的一种连续双样品室等离子体清洗装置，其特征在于，所述等离子体清洗室(6)两侧的样品室(3)上均设有侧开门，在操作前先打开两侧样品室(3)的侧开门，将待清洗工件分别放置在多层样品托(4)上，之后关闭样品室(3)的侧开门并启动等离子体清洗室(6)内的真空泵，对两侧的样品室(3)及等离子体清洗室(6)抽真空，待真空度到达设定值后，等离子体清洗室(6)根据程序设置自动进气，再次达到设定值后，系统抽气与进气进入维持阶段。
3.根据权利要求1所述的一种连续双样品室等离子体清洗装置，其特征在于，所述送样装置(1)位于样品室(3)的一端设有机械手，一侧的送样装置(1)自动运行到多层样品托(4)中的一个样品托位置，利用其前部设置的机械手夹持住样品托盘，同侧的样品库升降装置(2)带动样品库自动下降，让出空间，此时送样装置(1)自动运行到等离子体清洗室(6)待清洗位置。
4.根据权利要求1所述的一种连续双样品室等离子体清洗装置，其特征在于，所述送样装置(1)对应所述导电块(5)的位置均设有伸出杆，伸出杆中间采用绝缘材料，确保前端与壳体绝缘，伸出杆的端部通过送样装置(1)空心内的导线连接到样品托盘上，当送样装置(1)自动运行到等离子体清洗室(6)待清洗位置的同时，伸出杆与导电块(5)接触，脉冲电源给导电块(5)供电，此时在等离子体清洗室(6)内产生等离子体，对工件进行清洗，到达设定时间后，脉冲电源自动断电。
5.根据权利要求1所述的一种连续双样品室等离子体清洗装置，其特征在于，所述等离子体清洗室(6)两侧的送样装置(1)进行交替送料清洗，其中等离子体清洗室(6)一侧的送样装置(1)自动回退至相应的多层样品托(4)位置后，送样装置(1)前部的机械手放下样品托，在等离子体清洗室(6)一侧的送样装置(1)自动回退过程中，另一侧的送样装置(1)同步进行取样动作，操作流程与对应一侧的送样装置(1)相一致，系统按照此流程进行往复式工作，实现自动、单片、连续式清洗。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201811574687.4A CN109622517B (zh) | 2018-12-21 | 2018-12-21 | 一种连续双样品室等离子体清洗装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201811574687.4A CN109622517B (zh) | 2018-12-21 | 2018-12-21 | 一种连续双样品室等离子体清洗装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN109622517A CN109622517A (zh) | 2019-04-16 |
| CN109622517B true CN109622517B (zh) | 2021-05-18 |
Family
ID=66076586
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201811574687.4A Active CN109622517B (zh) | 2018-12-21 | 2018-12-21 | 一种连续双样品室等离子体清洗装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN109622517B (zh) |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2149930C1 (ru) * | 1999-07-30 | 2000-05-27 | Рябков Данила Витальевич | Способ модифицирования поверхности металлических изделий и устройство для реализации способа |
| JP3913646B2 (ja) * | 2002-08-30 | 2007-05-09 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
| US20050279453A1 (en) * | 2004-06-17 | 2005-12-22 | Uvtech Systems, Inc. | System and methods for surface cleaning |
| CN100537836C (zh) * | 2006-09-04 | 2009-09-09 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 化学气相沉积室的清洁方法 |
| WO2016111704A1 (en) * | 2015-01-09 | 2016-07-14 | Illinois Tool Works Inc. | Inline plasma-based system and method for thermal treatment of continuous products |
| US9595448B2 (en) * | 2015-06-29 | 2017-03-14 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Method for cleaning plasma processing chamber and substrate |
-
2018
- 2018-12-21 CN CN201811574687.4A patent/CN109622517B/zh active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN109622517A (zh) | 2019-04-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN202434479U (zh) | 一种原位等离子体清洗和键合晶片的设备 | |
| CN109622517B (zh) | 一种连续双样品室等离子体清洗装置 | |
| CN111589802A (zh) | 一种硬质短管表面自动清洗机 | |
| CN106756850B (zh) | 一种高效紧凑型磁控镀膜装置及方法 | |
| CN108885983B (zh) | 等离子处理装置及方法 | |
| CN109048805A (zh) | 一种玻璃加工装夹平台 | |
| CN112239844A (zh) | 一种低辐射镀膜玻璃生产用镀膜装置及其镀膜方法 | |
| KR100954467B1 (ko) | 웨이퍼카세트 보관장치 및 그 방법 | |
| US5766404A (en) | Methods and apparatus for plasma treatment of workpieces | |
| CN104999783A (zh) | 门框转印机 | |
| CN113725125A (zh) | 单片式射频等离子扫胶设备 | |
| CN113130285B (zh) | 一种陶瓷进气接射频清洗装置 | |
| CN212370736U (zh) | 一种转动式等离子清洗机 | |
| CN210608873U (zh) | 一种用于电机机壳加工的治具 | |
| CN210856323U (zh) | 一种磁控溅射镀膜设备 | |
| CN115321830A (zh) | 一种带自修复功能的导电玻璃镀膜方法和装置 | |
| JP4027088B2 (ja) | プラズマ洗浄装置、及びこのプラズマ洗浄装置を用いて基板を洗浄するプラズマ洗浄方法 | |
| JP2002153832A (ja) | プラズマ洗浄装置 | |
| CN217492040U (zh) | 一种用于处理led料盒的真空等离子放电电极装置 | |
| CN217121120U (zh) | 一种等离子清洗机 | |
| CN117855081B (zh) | 一种多功能晶圆清洗干燥设备 | |
| CN221559213U (zh) | 一种等离子清洗装置 | |
| CN215404490U (zh) | 一种真空镀膜设备 | |
| CN208708019U (zh) | 一种用于线路板的等离子真空清洗机 | |
| CN216145594U (zh) | 单片式射频等离子扫胶设备 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |