CN109554675A - 保护盖及溅射装置 - Google Patents

保护盖及溅射装置 Download PDF

Info

Publication number
CN109554675A
CN109554675A CN201811459031.8A CN201811459031A CN109554675A CN 109554675 A CN109554675 A CN 109554675A CN 201811459031 A CN201811459031 A CN 201811459031A CN 109554675 A CN109554675 A CN 109554675A
Authority
CN
China
Prior art keywords
wall body
sub
face
protruding portion
groove
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201811459031.8A
Other languages
English (en)
Other versions
CN109554675B (zh
Inventor
陆凤喜
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TCL Huaxing Photoelectric Technology Co Ltd
Original Assignee
Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd filed Critical Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority to CN201811459031.8A priority Critical patent/CN109554675B/zh
Publication of CN109554675A publication Critical patent/CN109554675A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN109554675B publication Critical patent/CN109554675B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/35Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/3407Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本发明提供一种保护盖及溅射装置。本发明的保护盖包括盖体及壁体,壁体包括两个对接的半环状的子壁体,两个子壁体的第一端面分别设有第一突出部及第一凹槽,第一突出部与第一凹槽相配合,两个子壁体的第二端面分别设有第二突出部及第二凹槽,第二突出部与第二凹槽相配合,使得该保护盖的密封性大大增强,从而将该保护盖应用于溅射装置时,将两个保护盖分别套设在靶材的两端,在两个保护盖的壁体及靶材之间分别设置两个绝缘件,即使保护盖与靶材发生相对转动,绝缘件中的绝缘块也不会外露,避免由于绝缘块外露导致的保护盖与靶材导通使溅射装置产生电弧放电,提升产品的可靠性。

Description

保护盖及溅射装置
技术领域
本发明涉及显示装置制造技术领域,尤其涉及一种保护盖及磁控溅射装置。
背景技术
液晶显示器(Liquid Crystal Display,LCD)等平面显示装置因具有高画质、省电、机身薄及应用范围广等优点,而被广泛的应用于手机、电视、个人数字助理、数字相机、笔记本电脑、台式计算机等各种消费性电子产品,成为显示装置中的主流。
液晶显示器包括液晶显示面板及背光模组(backlight module)。液晶显示面板的结构是由一彩色滤光片基板(Color Filter Substrate,CF Substrate)、一薄膜晶体管阵列基板(Thin Film Transistor Array Substrate,TFT Array Substrate)以及一配置于两基板间的液晶层(Liquid Crystal Layer)所构成,其中在阵列基板上有许多竖直和水平的细小电线。液晶显示面板的工作原理是通过在两片玻璃基板上施加驱动电压来控制液晶层的液晶分子的旋转,将背光模组的光线折射出来产生画面。
在TFT-LCD产品中,像素电极以及公共电极等膜层的材料一般为氧化铟锡(ITO),ITO层一般通过磁控溅射的方式进行制作。请参阅图1及图2,现有的溅射装置包括筒状的靶材1000、套设在靶材1000两端的两个保护盖2000及分别对应设于两个保护盖2000与靶材1000之间的绝缘件3000。每一保护盖2000包括盖体2100及设于盖体2100靠近靶材1000一侧的环状的壁体2200,盖体2100包括两个对接的子盖体2110,壁体2200包括两个对接的半环状的子壁体2210,两个子壁体2210分别连接于两个子盖体2110靠近靶材1000的一侧,两个子壁体2210之间形成直线状的两个间隙2300。每一绝缘件3000设置在对应的保护盖2000的壁体2200与靶材1000之间,每一绝缘件3000包括间隔设置的多个绝缘块3100。正常安装时,需要将绝缘件3000的多个绝缘块3100与对应的保护盖2000的间隙2300错开设置,但该溅射装置在工作时,靶材1000进行旋转,如图3所示,容易导致保护盖2000与靶材1000之间发生相对的转动,从而出现绝缘件3000中的某一绝缘块3100与保护盖2000的间隙2300相对的问题,导致绝缘块3100外露,使得进行溅射镀膜过程中外露的绝缘块3100上会溅射形成导电膜,将保护盖2000与靶材1000导通,产生电弧放电(arcing),影响装置的稳定性。
发明内容
本发明的目的在于提供一种保护盖,能够避免溅射装置中的绝缘块外露,防止溅射装置产生电弧放电。
本发明的另一目的在于提供一种溅射装置,能够避免绝缘块外露,防止产生电弧放电。
为实现上述目的,本发明首先提供一种保护盖,包括盖体及连接于盖体一侧的环状的壁体;所述盖体包括两个对接的子盖体;所述壁体包括两个对接的半环状的子壁体,两个子壁体分别连接于两个子盖体的一侧;每一子壁体分别具有第一端面及第二端面,两个子壁体的第一端面相对,两个子壁体的第二端面相对;两个子壁体的第一端面分别设有第一突出部及第一凹槽,第一突出部与第一凹槽相配合;两个子壁体的第二端面分别设有第二突出部及第二凹槽,第二突出部与第二凹槽相配合。
两个子壁体中的一个子壁体的第一端面及第二端面于靠近壁体中心线的一侧分别设有第一突出部及第二突出部,使得该一个子壁体的第一端面及第二端面于远离壁体中心线的一侧分别形成第三凹槽及第四凹槽;两个子壁体中的另一个子壁体的第一端面及第二端面于远离壁体中心线的一侧分别设有第三突出部及第四突出部,使得该另一个子壁体的第一端面及第二端面在靠近壁体中心线的一侧形成第一凹槽及第二凹槽;第三突出部与第三凹槽相配合,第四突出部与第四凹槽相配合。
所述盖体为圆形;所述壁体呈圆环状;所述盖体的中心线与壁体的中心线重合。
所述盖体与壁体连接的侧面被壁体所围区域及所述壁体的内侧面均经过抛光处理;
所述盖体与壁体连接的侧面被壁体所围区域及所述壁体的内侧面的表面粗糙度均小于等于0.5。
本发明还提供一种溅射装置,包括筒状的靶材、套设在靶材两端的两个保护盖及分别对应设于两个保护盖与靶材之间的两个绝缘件;
每一保护盖包括盖体及连接于盖体靠近靶材一侧的环状的壁体;所述壁体位于靶材的外侧;所述盖体包括两个对接的子盖体;所述壁体包括两个对接的半环状的子壁体,两个子壁体分别连接于两个子盖体靠近靶材的一侧;每一子壁体分别具有第一端面及第二端面,两个子壁体的第一端面相对,两个子壁体的第二端面相对;两个子壁体的第一端面分别设有第一突出部及第一凹槽,第一突出部与第一凹槽相配合;两个子壁体的第二端面分别设有第二突出部及第二凹槽,第二突出部与第二凹槽相配合;每一绝缘件设于对应的保护盖的壁体与靶材之间。
两个子壁体中的一个子壁体的第一端面及第二端面于靠近壁体中心线的一侧分别设有第一突出部及第二突出部,使得该一个子壁体的第一端面及第二端面于远离壁体中心线的一侧分别形成第三凹槽及第四凹槽;两个子壁体中的另一个子壁体的第一端面及第二端面于远离壁体中心线的一侧分别设有第三突出部及第四突出部,使得该另一个子壁体的第一端面及第二端面在靠近壁体中心线的一侧形成第一凹槽及第二凹槽;第三突出部与第三凹槽相配合,第四突出部与第四凹槽相配合。
所述盖体为圆形;所述壁体呈圆环状;所述靶材呈圆筒状;所述盖体的中心线、壁体的中心线、靶材的中心线重合。
每一保护盖中,所述盖体与壁体连接的侧面被壁体所围区域及所述壁体的内侧面均经过抛光处理;
所述盖体与壁体连接的侧面被壁体所围区域及所述壁体的内侧面的表面粗糙度均小于等于0.5。
每一保护盖的壁体与靶材的间距为2mm。
每一绝缘件包括均匀间隔设置的多个绝缘块。
本发明的有益效果:本发明的保护盖包括盖体及壁体,壁体包括两个对接的半环状的子壁体,两个子壁体的第一端面分别设有第一突出部及第一凹槽,第一突出部与第一凹槽相配合,两个子壁体的第二端面分别设有第二突出部及第二凹槽,第二突出部与第二凹槽相配合,使得该保护盖的密封性大大增强,从而将该保护盖应用于溅射装置时,将两个保护盖分别套设在靶材的两端,在两个保护盖的壁体及靶材之间分别设置两个绝缘件,即使保护盖与靶材发生相对转动,绝缘件中的绝缘块也不会外露,避免由于绝缘块外露导致的保护盖与靶材导通使溅射装置产生电弧放电,提升产品的可靠性。本发明的溅射装置能够避免绝缘块外露,防止产生电弧放电。
附图说明
为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容,请参阅以下有关本发明的详细说明与附图,然而附图仅提供参考与说明用,并非用来对本发明加以限制。
附图中,
图1为现有的溅射装置的主视示意图;
图2为沿图1中的A-A’线的剖视示意图;
图3为现有的溅射装置的保护盖与靶材发生相对旋转的示意图;
图4为本发明的保护罩的主视示意图;
图5为沿图4中的B-B’线的剖视示意图;
图6为本发明的溅射装置的主视示意图;
图7为沿图6中的E-E’线的剖视示意图;
图8为图5及图7中C处的放大示意图;
图9为图5及图7中D处的放大示意图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果,以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
请参阅图4及图5,并结合图8及图9,本发明提供一种保护盖,包括盖体10及连接于盖体10一侧的环状的壁体20。所述盖体10包括两个对接的子盖体11。所述壁体20包括两个对接的半环状的子壁体21,两个子壁体21分别连接于两个子盖体11的一侧。请参阅图8及图9,每一子壁体21分别具有第一端面211及第二端面212,两个子壁体21的第一端面211相对,两个子壁体21的第二端面212相对。两个子壁体21的第一端面211分别设有第一突出部2111及第一凹槽2112,第一突出部2111与第一凹槽2112相配合。两个子壁体21的第二端面212分别设有第二突出部2121及第二凹槽2122,第二突出部2121与第二凹槽2122相配合。
具体地,请参阅图8及图9,两个子壁体21中的一个子壁体21的第一端面211及第二端面212于靠近壁体20中心线的一侧分别设有第一突出部2111及第二突出部2121,使得该一个子壁体21的第一端面211及第二端面212于远离壁体20中心线的一侧分别形成第三凹槽2113及第四凹槽2123。两个子壁体21中的另一个子壁体21的第一端面211及第二端面212于远离壁体20中心线的一侧分别设有第三突出部2114及第四突出部2124,使得该另一个子壁体21的第一端面211及第二端面212在靠近壁体20中心线的一侧形成第一凹槽2112及第二凹槽2122。第三突出部2114与第三凹槽2113相配合,第四突出部2124与第四凹槽2123相配合。
具体地,所述盖体10为圆形,所述壁体20呈圆环状,所述盖体10的中心线与壁体20的中心线重合。
具体地,所述盖体10与壁体20连接的侧面被壁体20所围区域及所述壁体20的内侧面均经过抛光处理,盖体10与壁体20连接的侧面被壁体20所围区域及所述壁体20的内侧面的表面粗糙度均小于等于0.5,从而将该保护盖套设在筒状的靶材两端时,盖体10与壁体20连接的侧面被壁体20所围区域及所述壁体20的内侧面的表面同靶材表面不会产生尖端放电。
需要说明的是,请结合图6及图7,本发明的保护盖应用于溅射装置中,并且套设在溅射装置的靶材1的两端,并且保护盖的壁体20与靶材1之间还设置有包括多个绝缘块51的绝缘件5,请参阅图8及图9,本发明中,通过在两个子壁体21相对的第一端面211分别设置第一突出部2111及第一凹槽2112,第一突出部2111与第一凹槽2112相配合,同时两个子壁体21的相对的第二端面212分别设有第二突出部2121及第二凹槽2122,第二突出部2121与第二凹槽2122相配合,从而在本发明中,由两个子壁体21相对的端面形成的间隙分为不在同一直线的多段,不再是现有技术中的呈直线状的间隙,从而本发明的保护盖的密封性大大提升,即使溅射装置使用时,靶材1与保护盖之间产生相对旋转,但由于本发明中由两个子壁体21相对的端面形成的间隙分为不在同一直线的多段,无论靶材1与保护盖之间的相对位置如何,绝缘件5中的绝缘块51均不会直接被保护盖暴露出来,因此溅射过程中不会在绝缘件5的绝缘块51上形成导电膜,在绝缘块51所在位置不会发生靶材1与保护盖导通的情况,因而消除了由于绝缘块51外露导致的保护盖与靶材1导通使溅射装置产生电弧放电的问题,提升产品的可靠性。
请参阅图6、图7,并结合图8、图9,基于同一发明构思,本发明还提供一种溅射装置,包括筒状的靶材1、套设在靶材1两端的两个保护盖3及分别对应设于两个保护盖3与靶材1之间的两个绝缘件5。
每一保护盖3包括盖体10及连接于盖体10靠近靶材1一侧的环状的壁体20。所述壁体20位于靶材1的外侧。所述盖体10包括两个对接的子盖体11。所述壁体20包括两个对接的半环状的子壁体21,两个子壁体21分别连接于两个子盖体11靠近靶材1的一侧。每一子壁体21分别具有第一端面211及第二端面212,两个子壁体21的第一端面211相对,两个子壁体21的第二端面212相对。两个子壁体21的第一端面211分别设有第一突出部2111及第一凹槽2112,第一突出部2111与第一凹槽2112相配合。两个子壁体21的第二端面212分别设有第二突出部2121及第二凹槽2122,第二突出部2121与第二凹槽2122相配合。每一绝缘件5设于对应的保护盖3的壁体20与靶材1之间。
具体地,请参阅图8及图9,每一保护盖3中,两个子壁体21中的一个子壁体21的第一端面211及第二端面212于靠近壁体20中心线的一侧分别设有第一突出部2111及第二突出部2121,使得该一个子壁体21的第一端面211及第二端面212于远离壁体20中心线的一侧分别形成第三凹槽2113及第四凹槽2123。两个子壁体21中的另一个子壁体21的第一端面211及第二端面212于远离壁体20中心线的一侧分别设有第三突出部2114及第四突出部2124,使得该另一个子壁体21的第一端面211及第二端面212在靠近壁体20中心线的一侧形成第一凹槽2112及第二凹槽2122,第三突出部2114与第三凹槽2113相配合,第四突出部2124与第四凹槽2123相配合。
具体地,所述盖体10为圆形,所述壁体20呈圆环状,所述靶材1呈圆筒状,所述盖体10的中心线、壁体20的中心线、靶材1的中心线重合。
具体地,每一保护盖3中,所述盖体10与壁体20连接的侧面被壁体20所围区域及所述壁体20的内侧面均经过抛光处理,盖体10与壁体20连接的侧面被壁体20所围区域及所述壁体20的内侧面的表面粗糙度均小于等于0.5,从而盖体10与壁体20连接的侧面被壁体20所围区域及所述壁体20的内侧面的表面同靶材表面不会产生尖端放电。
优选地,每一保护盖3的壁体20与靶材1的间距为2mm。
具体地,每一绝缘件5包括均匀间隔设置的多个绝缘块51。
需要说明的是,请参阅图8及图9,本发明中,通过在每一保护盖3的两个子壁体21相对的第一端面211分别设置第一突出部2111及第一凹槽2112,第一突出部2111与第一凹槽2112相配合,同时两个子壁体21的相对的第二端面212分别设有第二突出部2121及第二凹槽2122,第二突出部2121与第二凹槽2122相配合,从而在本发明中,由两个子壁体21相对的端面形成的间隙分为不在同一直线的多段,不再是现有技术中的呈直线状的间隙,从而本发明的保护盖3的密封性大大提升,即使溅射装置使用时,靶材1与保护盖3之间产生相对旋转,但由于本发明中由两个子壁体21相对的端面形成的间隙分为不在同一直线的多段,无论靶材1与保护盖3之间的相对位置如何,绝缘件5中的绝缘块51均不会直接被保护盖3暴露出来,因此溅射过程中不会在绝缘件5的绝缘块51上形成导电膜,在绝缘块51所在位置不会发生靶材1与保护盖3导通的情况,因而消除了由于绝缘块51外露导致的保护盖3与靶材1导通使溅射装置产生电弧放电的问题,提升产品的可靠性。
综上所述,本发明的保护盖包括盖体及壁体,壁体包括两个对接的半环状的子壁体,两个子壁体的第一端面分别设有第一突出部及第一凹槽,第一突出部与第一凹槽相配合,两个子壁体的第二端面分别设有第二突出部及第二凹槽,第二突出部与第二凹槽相配合,使得该保护盖的密封性大大增强,从而将该保护盖应用于溅射装置时,将两个保护盖分别套设在靶材的两端,在两个保护盖的壁体及靶材之间分别设置两个绝缘件,即使保护盖与靶材发生相对转动,绝缘件中的绝缘块也不会外露,避免由于绝缘块外露导致的保护盖与靶材导通使溅射装置产生电弧放电,提升产品的可靠性。本发明的溅射装置能够避免绝缘块外露,防止产生电弧放电。
以上所述,对于本领域的普通技术人员来说,可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形,而所有这些改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。

Claims (10)

1.一种保护盖,其特征在于,包括盖体(10)及连接于盖体(10)一侧的环状的壁体(20);所述盖体(10)包括两个对接的子盖体(11);所述壁体(20)包括两个对接的半环状的子壁体(21),两个子壁体(21)分别连接于两个子盖体(11)的一侧;每一子壁体(21)分别具有第一端面(211)及第二端面(212),两个子壁体(21)的第一端面(211)相对,两个子壁体(21)的第二端面(212)相对;两个子壁体(21)的第一端面(211)分别设有第一突出部(2111)及第一凹槽(2112),第一突出部(2111)与第一凹槽(2112)相配合;两个子壁体(21)的第二端面(212)分别设有第二突出部(2121)及第二凹槽(2122),第二突出部(2121)与第二凹槽(2122)相配合。
2.如权利要求1所述的保护盖,其特征在于,两个子壁体(21)中的一个子壁体(21)的第一端面(211)及第二端面(212)于靠近壁体(20)中心线的一侧分别设有第一突出部(2111)及第二突出部(2121),使得该一个子壁体(21)的第一端面(211)及第二端面(212)于远离壁体(20)中心线的一侧分别形成第三凹槽(2113)及第四凹槽(2123);两个子壁体(21)中的另一个子壁体(21)的第一端面(211)及第二端面(212)于远离壁体(20)中心线的一侧分别设有第三突出部(2114)及第四突出部(2124),使得该另一个子壁体(21)的第一端面(211)及第二端面(212)在靠近壁体(20)中心线的一侧形成第一凹槽(2112)及第二凹槽(2122);第三突出部(2114)与第三凹槽(2113)相配合,第四突出部(2124)与第四凹槽(2123)相配合。
3.如权利要求1所述的保护盖,其特征在于,所述盖体(10)为圆形;所述壁体(20)呈圆环状;所述盖体(10)的中心线与壁体(20)的中心线重合。
4.如权利要求1所述的保护盖,其特征在于,所述盖体(10)与壁体(20)连接的侧面被壁体(20)所围区域及所述壁体(20)的内侧面均经过抛光处理;
所述盖体(10)与壁体(20)连接的侧面被壁体(20)所围区域及所述壁体(20)的内侧面的表面粗糙度均小于等于0.5。
5.一种溅射装置,其特征在于,包括筒状的靶材(1)、套设在靶材(1)两端的两个保护盖(3)及分别对应设于两个保护盖(3)与靶材(1)之间的两个绝缘件(5);
每一保护盖(3)包括盖体(10)及连接于盖体(10)靠近靶材(1)一侧的环状的壁体(20);所述壁体(20)位于靶材(1)的外侧;所述盖体(10)包括两个对接的子盖体(11);所述壁体(20)包括两个对接的半环状的子壁体(21),两个子壁体(21)分别连接于两个子盖体(11)靠近靶材(1)的一侧;每一子壁体(21)分别具有第一端面(211)及第二端面(212),两个子壁体(21)的第一端面(211)相对,两个子壁体(21)的第二端面(212)相对;两个子壁体(21)的第一端面(211)分别设有第一突出部(2111)及第一凹槽(2112),第一突出部(2111)与第一凹槽(2112)相配合;两个子壁体(21)的第二端面(212)分别设有第二突出部(2121)及第二凹槽(2122),第二突出部(2121)与第二凹槽(2122)相配合;每一绝缘件(5)设于对应的保护盖(3)的壁体(20)与靶材(1)之间。
6.如权利要求5所述的溅射装置,其特征在于,每一保护盖(3)中,两个子壁体(21)中的一个子壁体(21)的第一端面(211)及第二端面(212)于靠近壁体(20)中心线的一侧分别设有第一突出部(2111)及第二突出部(2121),使得该一个子壁体(21)的第一端面(211)及第二端面(212)于远离壁体(20)中心线的一侧分别形成第三凹槽(2113)及第四凹槽(2123);两个子壁体(21)中的另一个子壁体(21)的第一端面(211)及第二端面(212)于远离壁体(20)中心线的一侧分别设有第三突出部(2114)及第四突出部(2124),使得该另一个子壁体(21)的第一端面(211)及第二端面(212)在靠近壁体(20)中心线的一侧形成第一凹槽(2112)及第二凹槽(2122);第三突出部(2114)与第三凹槽(2113)相配合,第四突出部(2124)与第四凹槽(2123)相配合。
7.如权利要求5所述的溅射装置,其特征在于,所述盖体(10)为圆形;所述壁体(20)呈圆环状;所述靶材(1)呈圆筒状;所述盖体(10)的中心线、壁体(20)的中心线、靶材(1)的中心线重合。
8.如权利要求5所述的溅射装置,其特征在于,每一保护盖(3)中,所述盖体(10)与壁体(20)连接的侧面被壁体(20)所围区域及所述壁体(20)的内侧面均经过抛光处理;
所述盖体(10)与壁体(20)连接的侧面被壁体(20)所围区域及所述壁体(20)的内侧面的表面粗糙度均小于等于0.5。
9.如权利要求5所述的溅射装置,其特征在于,每一保护盖(3)的壁体(20)与靶材(1)的间距为2mm。
10.如权利要求5所述的溅射装置,其特征在于,每一绝缘件(5)包括均匀间隔设置的多个绝缘块(51)。
CN201811459031.8A 2018-11-30 2018-11-30 保护盖及溅射装置 Active CN109554675B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201811459031.8A CN109554675B (zh) 2018-11-30 2018-11-30 保护盖及溅射装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201811459031.8A CN109554675B (zh) 2018-11-30 2018-11-30 保护盖及溅射装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN109554675A true CN109554675A (zh) 2019-04-02
CN109554675B CN109554675B (zh) 2020-11-24

Family

ID=65868402

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201811459031.8A Active CN109554675B (zh) 2018-11-30 2018-11-30 保护盖及溅射装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN109554675B (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111468909A (zh) * 2020-05-22 2020-07-31 宁波江丰电子材料股份有限公司 一种半导体溅射腔保护罩加工方法及半导体溅射腔保护罩
CN114455446A (zh) * 2022-02-09 2022-05-10 上海悦匠实业有限公司 一种吊装腔体盖的吊机

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN201729871U (zh) * 2010-06-17 2011-02-02 北京清华阳光能源开发有限责任公司 磁控溅射靶屏蔽装置
CN102834896A (zh) * 2011-01-28 2012-12-19 应用材料公司 用于支撑可旋转靶材的装置和溅射设备
CN107771224A (zh) * 2015-03-18 2018-03-06 尤米科尔公司 形成旋转溅射靶的方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN201729871U (zh) * 2010-06-17 2011-02-02 北京清华阳光能源开发有限责任公司 磁控溅射靶屏蔽装置
CN102834896A (zh) * 2011-01-28 2012-12-19 应用材料公司 用于支撑可旋转靶材的装置和溅射设备
CN107771224A (zh) * 2015-03-18 2018-03-06 尤米科尔公司 形成旋转溅射靶的方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111468909A (zh) * 2020-05-22 2020-07-31 宁波江丰电子材料股份有限公司 一种半导体溅射腔保护罩加工方法及半导体溅射腔保护罩
CN111468909B (zh) * 2020-05-22 2022-08-16 宁波江丰电子材料股份有限公司 一种半导体溅射腔保护罩加工方法及半导体溅射腔保护罩
CN114455446A (zh) * 2022-02-09 2022-05-10 上海悦匠实业有限公司 一种吊装腔体盖的吊机
CN114455446B (zh) * 2022-02-09 2024-04-12 上海悦匠实业有限公司 一种吊装腔体盖的吊机

Also Published As

Publication number Publication date
CN109554675B (zh) 2020-11-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20160291424A1 (en) Touch display panel and display apparatus
US9488881B2 (en) Array substrate and display device
US10790306B2 (en) Display substrate, manufacturing method thereof and display device
US20140055689A1 (en) Opposed Substrate, Manufacturing Method Thereof And LCD Touch Panel
TW457384B (en) Electrode structure for a wide viewing angle liquid crystal display
US20200272296A1 (en) Touch Panel and Manufacturing Method Thereof, and Touch Display Device
CN109554675A (zh) 保护盖及溅射装置
US11861088B2 (en) Display panel and display device
JP2017151206A (ja) 液晶表示装置
US10606139B2 (en) Pixel structure
JP2019191364A (ja) 液晶表示装置
US8373827B2 (en) System for displaying images having a conductive layer formed on the inner surface of a color filter substrate
US10061155B2 (en) Polarizer, display panel and display device
US10564490B2 (en) Array substrate, method for fabricating the same, and display device
CN108445650A (zh) 显示面板及其制造方法、显示装置
US20220342262A1 (en) Display panel and display device
US20190088682A1 (en) Array substrate, method for manufacturing the same and display device
WO2019079952A1 (zh) 一种防静电的触控液晶显示模组和电子设备
CN109628903B (zh) 基板载具、溅镀装置及溅镀方法
US10928685B1 (en) Manufacturing method for ITO common electrode on CF substrate side
CN108196404B (zh) 彩膜基板、液晶显示面板及液晶显示器
CN208076872U (zh) 一种高透过率的彩膜基板及液晶显示模组
US9116403B2 (en) Substrate, display panel and display device
CN105785637B (zh) Cf基板生产线及cf基板的制造方法
US20200264483A1 (en) Display panel and fabrication method thereof, and display apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant
CP01 Change in the name or title of a patent holder

Address after: 9-2 Tangming Avenue, Guangming New District, Shenzhen City, Guangdong Province

Patentee after: TCL Huaxing Photoelectric Technology Co.,Ltd.

Address before: 9-2 Tangming Avenue, Guangming New District, Shenzhen City, Guangdong Province

Patentee before: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co.,Ltd.

CP01 Change in the name or title of a patent holder