CN109534692A - 一种抗划伤除污光催化玻璃及其制备方法 - Google Patents
一种抗划伤除污光催化玻璃及其制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN109534692A CN109534692A CN201910068900.2A CN201910068900A CN109534692A CN 109534692 A CN109534692 A CN 109534692A CN 201910068900 A CN201910068900 A CN 201910068900A CN 109534692 A CN109534692 A CN 109534692A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- layer
- sio
- glass
- target
- tio
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 82
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 20
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 title claims abstract description 13
- 238000007146 photocatalysis Methods 0.000 title claims abstract description 12
- 238000005202 decontamination Methods 0.000 title abstract description 8
- 230000003588 decontaminative effect Effects 0.000 title abstract description 8
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 79
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 59
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 56
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 56
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 claims abstract description 56
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 39
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 39
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 39
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 39
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 39
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N titanium dioxide Inorganic materials O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 36
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 31
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims abstract description 12
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 48
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 42
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 36
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 claims description 36
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 36
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 36
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 36
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 36
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 24
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 claims description 18
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 12
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 12
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 8
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229960000935 dehydrated alcohol Drugs 0.000 claims description 6
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 claims description 6
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 6
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000005611 electricity Effects 0.000 claims 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims 1
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 claims 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 abstract description 12
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 abstract description 2
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 abstract description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 abstract description 2
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 abstract description 2
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 abstract description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 abstract description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 2
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 abstract description 2
- 238000000280 densification Methods 0.000 abstract 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 2
- 230000000845 anti-microbial effect Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 230000003712 anti-aging effect Effects 0.000 description 1
- 230000001413 cellular effect Effects 0.000 description 1
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005034 decoration Methods 0.000 description 1
- 238000004332 deodorization Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 238000005816 glass manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 239000011022 opal Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 1
- 239000005348 self-cleaning glass Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005341 toughened glass Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
本发明公开了一种抗划伤除污光催化玻璃及其制备方法，玻璃包括玻璃基板和依次设置于玻璃基板表面的缓冲层和面层，所述缓冲层从内至外依序包括SiO2层、SiO2+Al2O3层和SiO2+Al2O3+TiO2层；所述面层为Ag掺杂TiO2及Al2O3层。本发明提供的自洁增透玻璃具有良好的增透性、耐磨性和自清洁性，长时间使用后仍具有良好的耐磨性和增透性。膜层表面光滑致密，具有增强玻璃自动除尘去污膜的效果特性同时具有光催化降解有机污染物的能力、抗菌除臭等优点。
Description
技术领域
本发明涉及玻璃领域，尤其涉及一种抗划伤除污光催化玻璃及其制备方法。
背景技术
玻璃作为门窗的主要材料，目前得到广泛的应用，在现有的产品中玻璃的种类各式各样玻璃按性能特点如钢化玻璃、多孔玻璃、导电玻璃、微晶玻璃、乳浊玻璃和中空玻璃等。不管是作为什么用途使用，玻璃的清洁都是目前必不可少的工作，，但玻璃幕墙的清洁一直是一个让人头痛的问题；使用清洁剂来清洁玻璃不仅污染环境，也浪费大量的水资源。现有自清洁玻璃存在自清洁能力较差且费用较高的问题。随着玻璃制作工艺的日益精进，漂亮耐用的玻璃制品得到了广泛的应用。玻璃制品通常是无色的，可以采用涂层的方式使其具有不同的色彩。然而，现有的涂层的抗菌性能较差，玻璃表面易滋生细菌发生霉变，因此，需要改变涂层配方，提高抗菌性能。目前现有技术中的各种镀膜玻璃不能兼具有良好的增透性、耐磨性和自清洁性。另外，目前用于玻璃表面的镀膜液大部分为溶剂型涂料，不利于环保随着人民生活水平的提高和环保节能意识的加强，我国建筑、汽车、电子等行业对各种高端玻璃产品的需求日益加大，其中包括建筑中的节能幕墙玻璃、室内装饰用玻璃桌板、玻璃卫浴、汽车风挡玻璃、手机屏幕玻璃、手表表盘玻璃、超市条形码扫描的玻璃窗口等等。然而，这些玻璃产品都面临着易划伤、难清洁等问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种抗划伤除污光催化玻璃及其制备方法。
为实现上述目的，本发明采用以下技术方案：
一种抗划伤除污光催化玻璃，包括玻璃基板和依次设置于玻璃基板表面的缓冲层和面层，所述缓冲层从内至外依序包括SiO2层、SiO2+Al2O3层和SiO2+Al2O3+TiO2层；所述面层为Ag掺杂TiO2及Al2O3层。
所述缓冲层的厚度为10-50nm。
所述面层的厚度为100-200nm。
本发明玻璃的制备方法，所述制备方法包括以下步骤：
1)对玻璃基板进行表面处理；
2)在玻璃基板上制备SiO2层，用硅做靶材，控制气压为0.3-1Pa，工作偏压40-120V，溅射功率100-300W，硅靶电流2-4A，O2流量10-30sccm，氩气流量为60-120mL/min，溅射时间为10-30min；
3)在SiO2层表面上制备SiO2+Al2O3层，其中SiO2与Al2O3的质量比为50wt％：50wt％，用硅、铝做靶材，控制气压为0.3-1Pa，工作偏压40-120V，溅射功率100-300W，硅靶电流2-4A，铝靶电流2-4A，O2流量10-30sccm，氩气流量为60-120mL/min，溅射时间为10-30min；
4)在SiO2+Al2O3层表面上制备SiO2+Al2O3+TiO2层，其中SiO2与Al2O3与TiO2的质量比为20wt％：50wt％：30wt％，用硅、铝做靶材，控制气压为0.3-1Pa，工作偏压40-120V，溅射功率100-300W，硅靶电流2-4A，铝靶电流2-4A，O2流量10-30sccm，氩气流量为60-120mL/min，溅射时间为10-30min；
5)在SiO2+Al2O3+TiO2层表面上制备Ag掺杂TiO2及Al2O3层，以铝、银及钛为靶材，控制气压为0.3-1Pa，工作偏压40-120V，溅射功率100-300W，钛靶电流2-4A，铝靶电流2-4A，银靶电流0.5-1A，O2流量10-30sccm，氩气流量为60-120mL/min，溅射时间为10-30min。
步骤1)中对玻璃基板进行表面处理的步骤：将玻璃基板先用丙酮为清洗剂进行超声清洗，然后以无水乙醇为清洗剂进行超声清洗，最后以去离子水为清洗剂进行超声清洗，吹干后得到表面洁净的玻璃基板。
其中，SiO2具有硬度高、耐磨性好、膜层牢固及结构精细致密等特点，具有光透过率高、散射吸收小和透明区一直延伸到紫外区等良好的光学性能；
Al2O3具有极高的机械强度，能够有效提高玻璃表面的硬度及抗划伤能力，同时Al2O3膜层还具有较高的透射比、化学稳定性、高绝缘性、耐高温、耐腐蚀等优良的物理化学性质；
TiO2具有耐污染、抗老化和活化可见光等功能；另外，纳米银+二氧化钛，可以进一步提高其光催化活性；
纳米银具有较强的抗菌功能。
本发明是采用直流-射频磁控溅射沉积技术在玻璃表面制备膜层，便于大规模量产，制备的膜层间明显形成浓度梯度，从而使膜层和基体的物理及力学性能处于渐变状态，形成很好的界面结合，使得膜层不易脱落。本发明解决了现有技术中存在的镀膜玻璃不能兼具良好的增透性、耐磨性和自清洁性且其采用的镀膜液不环保的技术问题。由于表面膜层兼具有良好的增透性、耐磨性和自清洁性，使得本发明提供的自洁增透玻璃具有良好的增透性、耐磨性和自清洁性，长时间使用后仍具有良好的耐磨性和增透性。膜层表面光滑致密，具有增强玻璃自动除尘去污膜的效果特性同时具有光催化降解有机污染物的能力、抗菌除臭等优点。
附图说明
以下结合附图和具体实施方式对本发明做进一步详细说明：
图1为本发明的示意图。
具体实施方式
如图1所示，本发明一种抗划伤除污光催化玻璃，包括玻璃基板1和依次设置于玻璃基板1表面的缓冲层2和面层3，缓冲层2从内至外依序包括SiO2层、SiO2+Al2O3层和SiO2+Al2O3+TiO2层；面层3为Ag掺杂TiO2及Al2O3层。
其中，缓冲层2的厚度为10-50nm，面层3的厚度为100-200nm。
本发明玻璃的制备方法，所述制备方法包括以下步骤：
1)对玻璃基板进行表面处理：将玻璃基板先用丙酮为清洗剂进行超声清洗，然后以无水乙醇为清洗剂进行超声清洗，最后以去离子水为清洗剂进行超声清洗，吹干后得到表面洁净的玻璃基板；
2)在玻璃基板上制备SiO2层，用硅做靶材，控制气压为0.3-1Pa，工作偏压40-120V，溅射功率100-300W，硅靶电流2-4A，O2流量10-30sccm，氩气流量为60-120mL/min，溅射时间为10-30min；
3)在SiO2层表面上制备SiO2+Al2O3层，其中SiO2与Al2O3的质量比为50wt％：50wt％，用硅、铝做靶材，控制气压为0.3-1Pa，工作偏压40-120V，溅射功率100-300W，硅靶电流2-4A，铝靶电流2-4A，O2流量10-30sccm，氩气流量为60-120mL/min，溅射时间为10-30min；
4)在SiO2+Al2O3层表面上制备SiO2+Al2O3+TiO2层，其中SiO2与Al2O3与TiO2的质量比为20wt％：50wt％：30wt％，用硅、铝做靶材，控制气压为0.3-1Pa，工作偏压40-120V，溅射功率100-300W，硅靶电流2-4A，铝靶电流2-4A，O2流量10-30sccm，氩气流量为60-120mL/min，溅射时间为10-30min；
5)在SiO2+Al2O3+TiO2层表面上制备Ag掺杂TiO2及Al2O3层，以铝、银及钛为靶材，控制气压为0.3-1Pa，工作偏压40-120V，溅射功率100-300W，钛靶电流2-4A，铝靶电流2-4A，银靶电流0.5-1A，O2流量10-30sccm，氩气流量为60-120mL/min，溅射时间为10-30min。
实施例1：本发明玻璃的制备方法，所述制备方法包括以下步骤：
1)对玻璃基板进行表面处理：将玻璃基板先用丙酮为清洗剂进行超声清洗，然后以无水乙醇为清洗剂进行超声清洗，最后以去离子水为清洗剂进行超声清洗，吹干后得到表面洁净的玻璃基板；
2)在玻璃基板上制备SiO2层，用硅做靶材，控制气压为0.3Pa，工作偏压40V，溅射功率100W，硅靶电流2A，O2流量10sccm，氩气流量为60mL/min，溅射时间为10min；
3)在SiO2层表面上制备SiO2+Al2O3层，其中SiO2与Al2O3的质量比为50wt％：50wt％，用硅、铝做靶材，控制气压为0.3Pa，工作偏压40V，溅射功率100W，硅靶电流2A，铝靶电流2A，O2流量10sccm，氩气流量为60mL/min，溅射时间为10min；
4)在SiO2+Al2O3层表面上制备SiO2+Al2O3+TiO2层，其中SiO2与Al2O3与TiO2的质量比为20wt％：50wt％：30wt％，用硅、铝做靶材，控制气压为0.3Pa，工作偏压40V，溅射功率100W，硅靶电流2A，铝靶电流2A，O2流量10sccm，氩气流量为60mL/min，溅射时间为10min；
5)在SiO2+Al2O3+TiO2层表面上制备Ag掺杂TiO2及Al2O3层，以铝、银及钛为靶材，控制气压为0.3Pa，工作偏压40V，溅射功率100W，钛靶电流2A，铝靶电流2A，银靶电流0.5A，O2流量10sccm，氩气流量为60mL/min，溅射时间为10min。
实施例2：本发明玻璃的制备方法，所述制备方法包括以下步骤：
1)对玻璃基板进行表面处理：将玻璃基板先用丙酮为清洗剂进行超声清洗，然后以无水乙醇为清洗剂进行超声清洗，最后以去离子水为清洗剂进行超声清洗，吹干后得到表面洁净的玻璃基板；
2)在玻璃基板上制备SiO2层，用硅做靶材，控制气压为1Pa，工作偏压120V，溅射功率300W，硅靶电流4A，O2流量30sccm，氩气流量为120mL/min，溅射时间为30min；
3)在SiO2层表面上制备SiO2+Al2O3层，其中SiO2与Al2O3的质量比为50wt％：50wt％，用硅、铝做靶材，控制气压为1Pa，工作偏压120V，溅射功率300W，硅靶电流4A，铝靶电流4A，O2流量30sccm，氩气流量为120mL/min，溅射时间为30min；
4)在SiO2+Al2O3层表面上制备SiO2+Al2O3+TiO2层，其中SiO2与Al2O3与TiO2的质量比为20wt％：50wt％：30wt％，用硅、铝做靶材，控制气压为1Pa，工作偏压120V，溅射功率300W，硅靶电流4A，铝靶电流4A，O2流量30sccm，氩气流量为120mL/min，溅射时间为30min；
5)在SiO2+Al2O3+TiO2层表面上制备Ag掺杂TiO2及Al2O3层，以铝、银及钛为靶材，控制气压为1Pa，工作偏压120V，溅射功率300W，钛靶电流4A，铝靶电流4A，银靶电流1A，O2流量30sccm，氩气流量为120mL/min，溅射时间为30min。
实施例3：本发明玻璃的制备方法，所述制备方法包括以下步骤：
1)对玻璃基板进行表面处理：将玻璃基板先用丙酮为清洗剂进行超声清洗，然后以无水乙醇为清洗剂进行超声清洗，最后以去离子水为清洗剂进行超声清洗，吹干后得到表面洁净的玻璃基板；
2)在玻璃基板上制备SiO2层，用硅做靶材，控制气压为0.6Pa，工作偏压80V，溅射功率200W，硅靶电流3A，O2流量20sccm，氩气流量为90mL/min，溅射时间为20min；
3)在SiO2层表面上制备SiO2+Al2O3层，其中SiO2与Al2O3的质量比为50wt％：50wt％，用硅、铝做靶材，控制气压为0.6Pa，工作偏压80V，溅射功率200W，硅靶电流3A，铝靶电流3A，O2流量20sccm，氩气流量为90mL/min，溅射时间为20min；
4)在SiO2+Al2O3层表面上制备SiO2+Al2O3+TiO2层，其中SiO2与Al2O3与TiO2的质量比为20wt％：50wt％：30wt％，用硅、铝做靶材，控制气压为0.6Pa，工作偏压80V，溅射功率200W，硅靶电流3A，铝靶电流3A，O2流量20sccm，氩气流量为80mL/min，溅射时间为20min；
5)在SiO2+Al2O3+TiO2层表面上制备Ag掺杂TiO2及Al2O3层，以铝、银及钛为靶材，控制气压为0.6Pa，工作偏压80V，溅射功率200W，钛靶电流3A，铝靶电流3A，银靶电流0.8A，O2流量20sccm，氩气流量为90mL/min，溅射时间为20min。
为了验证本发明制备方法制得的膜层，对上述各实施例中膜层进行性能测试，可知，本发明的膜层与现有传统沉积TiO2膜层为对比，进行工艺，硬度，耐磨损，微结构，应力检测，附着性测试结果如下表：
Claims (5)
1.一种抗划伤除污光催化玻璃，包括玻璃基板和依次设置于玻璃基板表面的缓冲层和面层，其特征在于：所述缓冲层从内至外依序包括SiO2层、SiO2+Al2O3层和SiO2+Al2O3+TiO2层；所述面层为Ag掺杂TiO2及Al2O3层。
2.根据权利要求1所述的一种抗划伤除污光催化玻璃，其特征在于：所述缓冲层的厚度为10-50nm。
3.根据权利要求1所述的一种抗划伤除污光催化玻璃，其特征在于：所述面层的厚度为100-200nm。
4.根据权利要求1所述的玻璃的制备方法，其特征在于：所述制备方法包括以下步骤：
1)对玻璃基板进行表面处理；
2）在玻璃基板上制备SiO2层，用硅做靶材，控制气压为0.3-1Pa，工作偏压40-120V，溅射功率100-300W，硅靶电流2-4A，O2流量10-30sccm，氩气流量为60-120mL/min，溅射时间为10-30min；
3）在SiO2层表面上制备SiO2+Al2O3层，其中SiO2与Al2O3的质量比为50wt%：50wt%，用硅、铝做靶材，控制气压为0.3-1Pa，工作偏压40-120V，溅射功率100-300W，硅靶电流2-4A，铝靶电流2-4A，O2流量10-30sccm，氩气流量为60-120mL/min，溅射时间为10-30min；
4）在SiO2+Al2O3层表面上制备SiO2+Al2O3+TiO2层，其中SiO2与Al2O3与TiO2的质量比为20wt%：50wt%：30wt%，用硅、铝做靶材，控制气压为0.3-1Pa，工作偏压40-120V，溅射功率100-300W，硅靶电流2-4A，铝靶电流2-4A，O2流量10-30sccm，氩气流量为60-120mL/min，溅射时间为10-30min；
5）在SiO2+Al2O3+TiO2层表面上制备Ag掺杂TiO2及Al2O3层，以铝、银及钛为靶材，控制气压为0.3-1Pa，工作偏压40-120V，溅射功率100-300W，钛靶电流2-4A，铝靶电流2-4A，银靶电流0.5-1A，O2流量10-30sccm，氩气流量为60-120mL/min，溅射时间为10-30min。
5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于：步骤1)中对玻璃基板进行表面处理的步骤：将玻璃基板先用丙酮为清洗剂进行超声清洗，然后以无水乙醇为清洗剂进行超声清洗，最后以去离子水为清洗剂进行超声清洗，吹干后得到表面洁净的玻璃基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201910068900.2A CN109534692B (zh) | 2019-01-24 | 2019-01-24 | 一种抗划伤除污光催化玻璃及其制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201910068900.2A CN109534692B (zh) | 2019-01-24 | 2019-01-24 | 一种抗划伤除污光催化玻璃及其制备方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN109534692A true CN109534692A (zh) | 2019-03-29 |
| CN109534692B CN109534692B (zh) | 2022-01-04 |
Family
ID=65838519
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201910068900.2A Expired - Fee Related CN109534692B (zh) | 2019-01-24 | 2019-01-24 | 一种抗划伤除污光催化玻璃及其制备方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN109534692B (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2024113977A1 (zh) * | 2022-12-01 | 2024-06-06 | 荣耀终端有限公司 | 玻璃面板，显示屏和电子设备 |
Citations (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1260767A (zh) * | 1997-03-14 | 2000-07-19 | Ppg工业俄亥俄公司 | 光催化活化自洁制品及其制备方法 |
| CN1541196A (zh) * | 2001-07-13 | 2004-10-27 | PPG��ҵ����˾ | 可见光-响应光活性涂层,涂覆制品,及其制备方法 |
| CN1569714A (zh) * | 2003-07-24 | 2005-01-26 | 中国耀华玻璃集团公司 | 光催化自洁涂层组合物及其制备方法 |
| CN1754854A (zh) * | 2000-09-20 | 2006-04-05 | 法国圣戈班玻璃厂 | 具有光催化涂层的底材 |
| CN1767777A (zh) * | 2003-05-14 | 2006-05-03 | 株式会社村上开明堂 | 防雾镜 |
| CN1938239A (zh) * | 2004-04-01 | 2007-03-28 | Ppg工业俄亥俄公司 | 包括阻隔涂层的涂层堆叠体 |
| CN101098834A (zh) * | 2004-12-16 | 2008-01-02 | 格拉沃贝尔公司 | 具有抗微生物性能的基材 |
| CN101473058A (zh) * | 2006-06-21 | 2009-07-01 | 旭硝子欧洲平板玻璃股份有限公司 | 具有抗微生物性能的基材 |
| WO2010122654A1 (ja) * | 2009-04-24 | 2010-10-28 | パイオニア株式会社 | 光触媒層の製造方法 |
| CN102489286A (zh) * | 2011-12-08 | 2012-06-13 | 海南大学 | 一种光催化活性碳掺杂氧化钛薄膜的制备方法 |
| CN102582137A (zh) * | 2012-01-13 | 2012-07-18 | 苏州羿日新能源有限公司 | 自清洁防雾元件及其制造方法 |
| CN1989079B (zh) * | 2004-08-09 | 2013-08-14 | Ppg工业俄亥俄公司 | 包括底涂层的涂覆基材 |
| CN108191258A (zh) * | 2018-01-30 | 2018-06-22 | 武汉理工大学 | 一种dlc薄膜增硬玻璃及其制备方法 |
-
2019
- 2019-01-24 CN CN201910068900.2A patent/CN109534692B/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1260767A (zh) * | 1997-03-14 | 2000-07-19 | Ppg工业俄亥俄公司 | 光催化活化自洁制品及其制备方法 |
| CN1754854A (zh) * | 2000-09-20 | 2006-04-05 | 法国圣戈班玻璃厂 | 具有光催化涂层的底材 |
| CN1541196A (zh) * | 2001-07-13 | 2004-10-27 | PPG��ҵ����˾ | 可见光-响应光活性涂层,涂覆制品,及其制备方法 |
| CN1767777A (zh) * | 2003-05-14 | 2006-05-03 | 株式会社村上开明堂 | 防雾镜 |
| CN1569714A (zh) * | 2003-07-24 | 2005-01-26 | 中国耀华玻璃集团公司 | 光催化自洁涂层组合物及其制备方法 |
| CN1938239A (zh) * | 2004-04-01 | 2007-03-28 | Ppg工业俄亥俄公司 | 包括阻隔涂层的涂层堆叠体 |
| CN1989079B (zh) * | 2004-08-09 | 2013-08-14 | Ppg工业俄亥俄公司 | 包括底涂层的涂覆基材 |
| CN101098834A (zh) * | 2004-12-16 | 2008-01-02 | 格拉沃贝尔公司 | 具有抗微生物性能的基材 |
| CN101473058A (zh) * | 2006-06-21 | 2009-07-01 | 旭硝子欧洲平板玻璃股份有限公司 | 具有抗微生物性能的基材 |
| WO2010122654A1 (ja) * | 2009-04-24 | 2010-10-28 | パイオニア株式会社 | 光触媒層の製造方法 |
| CN102489286A (zh) * | 2011-12-08 | 2012-06-13 | 海南大学 | 一种光催化活性碳掺杂氧化钛薄膜的制备方法 |
| CN102582137A (zh) * | 2012-01-13 | 2012-07-18 | 苏州羿日新能源有限公司 | 自清洁防雾元件及其制造方法 |
| CN108191258A (zh) * | 2018-01-30 | 2018-06-22 | 武汉理工大学 | 一种dlc薄膜增硬玻璃及其制备方法 |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 闫蕾等: "TiO_2薄膜的制备、改性及光催化性能的研究", 《工业催化》 * |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2024113977A1 (zh) * | 2022-12-01 | 2024-06-06 | 荣耀终端有限公司 | 玻璃面板，显示屏和电子设备 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN109534692B (zh) | 2022-01-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Midtdal et al. | Self-cleaning glazing products: A state-of-the-art review and future research pathways | |
| Cannavale et al. | Multifunctional bioinspired sol-gel coatings for architectural glasses | |
| CN101891395B (zh) | 一种隔热自清洁涂膜钢化玻璃制备方法 | |
| CN110093050A (zh) | 超亲水自清洁涂料组合物、超亲水自清洁玻璃及其制备方法 | |
| KR101599677B1 (ko) | 자외선 및 적외선 차단 기능을 갖는 유리 코팅제 조성물 및 이를 이용한 유리 코팅방법 | |
| WO2007124291A2 (en) | Opposed functional coatings having comparable single surface reflectances | |
| CN104673090B (zh) | 一种新型的纳米自清洁涂料和含有该涂料所形成的涂层的纳米自清洁玻璃 | |
| CN1844000A (zh) | 一种具有可见光响应的永久自清洁玻璃及其制备方法 | |
| CN204451390U (zh) | 减反射玻璃 | |
| CN107129159B (zh) | 一种叠层镀膜减反射玻璃及其制备方法 | |
| CN104497736A (zh) | 一种双组份透明玻璃隔热涂料及其制备方法 | |
| CN104401059A (zh) | 双面膜层玻璃及制备方法及应用该双面膜玻璃的中空玻璃 | |
| CN114105490B (zh) | 低辐射镀膜玻璃 | |
| CN105481267A (zh) | 可后续加工的高透单银低辐射镀膜玻璃及其生产工艺 | |
| CN104692671A (zh) | 基于ZnO纳米阵列涂层的超疏水自清洁玻璃的制备方法 | |
| CN201187226Y (zh) | 一种纳米抗菌去污low-e中空玻璃 | |
| CN109534692A (zh) | 一种抗划伤除污光催化玻璃及其制备方法 | |
| CN101440255B (zh) | 不降低透明基材光穿透率的透明水基纳米溶胶凝胶涂料 | |
| CN103739210A (zh) | 一种二氧化钛薄膜及其制备方法 | |
| CN2821006Y (zh) | 自洁型建筑墙体材料 | |
| CN102993852A (zh) | 一种新型纳米自清洁氟碳外墙涂料及其制备方法 | |
| WO2012036525A2 (ko) | 표면 모폴로지 처리를 통한 코팅막의 친수성 개선 방법 및 이를 이용하여 제조한 초친수 유리 코팅층 | |
| CN1563555A (zh) | 纳米自清洁真丝绸及制品 | |
| CN110845149A (zh) | 一种超疏水玻璃的制备方法 | |
| CN114031307B (zh) | 一种光热防雾玻璃板材及其制备方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20220104 |