CN109487241A - 一种8管高产能pecvd设备 - Google Patents
一种8管高产能pecvd设备 Download PDFInfo
- Publication number
- CN109487241A CN109487241A CN201811571880.2A CN201811571880A CN109487241A CN 109487241 A CN109487241 A CN 109487241A CN 201811571880 A CN201811571880 A CN 201811571880A CN 109487241 A CN109487241 A CN 109487241A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- fixedly connected
- workbench
- production capacity
- process box
- high production
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/458—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for supporting substrates in the reaction chamber
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/50—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/52—Controlling or regulating the coating process
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
Abstract
本发明公开了一种8管高产能PECVD设备,包括底板与工作台,所述底板的一侧与工作台的一侧固定连接,本发明涉及工艺设备技术领域。该8管高产能PECVD设备,通过在底板顶部的一侧固定连接有气源柜,气源柜的一侧固定连接有主机柜,工作台顶部的一侧固定连接有密封炉,密封炉的一侧与主机柜的一侧固定连接,工作台的顶部固定连接有工作框,工作框的一侧与密封炉的一侧固定连接,工作框的顶部固定连接有安装板,工作台一侧的顶部固定连接有滑轨,滑轨的顶部滑动连接有送料架,工作框的内部滑动连接有推拉舟,可以有效地实现对于PECVD设备单位面积的缩减,降低企业单位使用该PECVD设备所需要占用面积,有效地提高单位面积的设备产能。
Description
技术领域
本发明涉及工艺设备技术领域,具体为一种8管高产能PECVD设备。
背景技术
PECVD是指等离子体增强化学的气相沉积法,是太阳能电池片中比较重要的工序,也是体现一个企业太阳能电池片效率的一个重要指标。镀膜技术是整个光伏行业比较重视的技术,太阳能电池的效率提升可以通过镀膜技术的提升来实现。光在硅表面的反射损失率高达35%左右,减反膜可以极高地提高电池片对太阳光的利用率,提高光电转换效率。但是,因为每一批电池片都需要监测,所以PECVD工序一般较忙。现在的设备生产状态下,原先的设备量已经无法满足产能的需求。而通过增加设备数量来提高产能,又会带来占地面积的问题,并且大多数电池片生产厂家的设备用地已经达到饱和,在这种情况下,提高设备本身的产能就成了迫切的需求。
为了配合生产线其它设备,也为了增加市场竞争力,在提高设备产能的方式中,企业提高单位面积的设备产能是最有效、最经济的选择,企业现有PECVD设备存在占用单位面积大,并且产能低的缺点。
发明内容
针对现有技术的不足,本发明提供了一种8管高产能PECVD设备,解决了PECVD设备存在占用单位面积大,并且产能低的问题。
为实现以上目的,本发明通过以下技术方案予以实现:一种8管高产能PECVD设备,包括底板与工作台,所述底板的一侧与工作台的一侧固定连接,所述底板顶部的一侧固定连接有气源柜,所述气源柜的一侧固定连接有主机柜,所述工作台顶部的一侧固定连接有密封炉,所述密封炉的一侧与主机柜的一侧固定连接,所述工作台的顶部固定连接有工作框,所述工作框的一侧与密封炉的一侧固定连接,所述工作框的顶部固定连接有安装板,所述工作台一侧的顶部固定连接有滑轨,所述滑轨的顶部滑动连接有送料架,所述工作框的内部滑动连接有推拉舟,所述推拉舟设置有四组。
优选的,所述工作框的一侧固定连接有控制板,所述控制板的一侧固定连接有显示屏,所述显示屏的底部固定连接有控制按键。
优选的,所述工作框内壁的一侧固定连接有机械手,所述工作框内壁的一侧固定连接有间歇台。
优选的,所述安装板的顶部开设有通槽,所述通槽的内部连通有第一管道,所述第一管道设置有八组。
优选的,所述气源柜与密封炉的顶部均固定连接有防护板,所述气源柜的顶部开设有通孔,所述主机柜的顶部连通有第二管道。
优选的,所述气源柜与主机柜表面的两侧均通过合页铰接有扇门,两个所述扇门的表面均设置有把手。
有益效果
本发明提供了一种8管高产能PECVD设备。与现有技术相比具备以下有益效果:
(1)、该8管高产能PECVD设备,通过在底板顶部的一侧固定连接有气源柜,气源柜的一侧固定连接有主机柜,工作台顶部的一侧固定连接有密封炉,密封炉的一侧与主机柜的一侧固定连接,工作台的顶部固定连接有工作框,工作框的一侧与密封炉的一侧固定连接,工作框的顶部固定连接有安装板,工作台一侧的顶部固定连接有滑轨,滑轨的顶部滑动连接有送料架,工作框的内部滑动连接有推拉舟,这样可以有效地实现对于PECVD设备单位面积的缩减,降低企业单位使用该PECVD设备所需要占用面积,有效地提高单位面积的设备产能。
(2)、该8管高产能PECVD设备,通过在工作框的内部滑动连接有推拉舟,推拉舟设置有四组,工作框的一侧固定连接有控制板,控制板的一侧固定连接有显示屏,显示屏的底部固定连接有控制按键,可以方便的对该PECVD设备进行控制,并且四组推拉舟控制八管,可以大大的提高产能。
附图说明
图1为本发明结构示意图;
图2为本发明结构的侧视图。
图中:1底板、2工作台、3气源柜、4主机柜、5密封炉、6工作框、7安装板、8滑轨、9送料架、10推拉舟、11控制板、12显示屏、13控制按键、14机械手、15间歇台、16通槽、17第一管道、18防护板、19通孔、20第二管道、21扇门、22把手。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
请参阅图1-2,本发明提供一种技术方案:一种8管高产能PECVD设备,包括底板1与工作台2,底板1的一侧与工作台2的一侧固定连接,底板1顶部的一侧固定连接有气源柜3,气源柜3与密封炉5的顶部均固定连接有防护板18,气源柜3的顶部开设有通孔19,主机柜4的顶部连通有第二管道20,气源柜3与主机柜4表面的两侧均通过合页铰接有扇门21,两个扇门21的表面均设置有把手22,该把手22上设置有防滑绝缘静电套,气源柜3的一侧固定连接有主机柜4,工作台2顶部的一侧固定连接有密封炉5,密封炉5的一侧与主机柜4的一侧固定连接,工作台2的顶部固定连接有工作框6,工作框6的一侧固定连接有控制板11,控制板11的一侧固定连接有显示屏12,显示屏12的底部固定连接有控制按键13,工作框6内壁的一侧固定连接有机械手14,工作框6内壁的一侧固定连接有间歇台15,工作框6的一侧与密封炉5的一侧固定连接,工作框6的顶部固定连接有安装板7,安装板7的顶部开设有通槽16,通槽16的内部连通有第一管道17,该第一管道17供外接线路接入,第一管道17设置有八组,工作台2一侧的顶部固定连接有滑轨8,滑轨8的顶部滑动连接有送料架9,工作框6的内部滑动连接有推拉舟10,该推拉舟10的底部在工作框6的内部滑动,每个推拉舟10控制两管,推拉舟10设置有四组。
使用时,通过将底板1与工作台2的固定连接,将气源柜3、主机柜4、密封炉5与工作框6设置在底板1与工作台2上,可以有效地提高单位面积的设备产能,通过每个推拉舟10控制两个管,总共设置有四组推拉舟10,可以有效地提高产能,以上就是一种8管高产能PECVD设备的全部工作原理。
需要说明的是,在本文中,诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来,而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (6)
1.一种8管高产能PECVD设备,包括底板(1)与工作台(2),所述底板(1)的一侧与工作台(2)的一侧固定连接,其特征在于:所述底板(1)顶部的一侧固定连接有气源柜(3),所述气源柜(3)的一侧固定连接有主机柜(4),所述工作台(2)顶部的一侧固定连接有密封炉(5),所述密封炉(5)的一侧与主机柜(4)的一侧固定连接,所述工作台(2)的顶部固定连接有工作框(6),所述工作框(6)的一侧与密封炉(5)的一侧固定连接,所述工作框(6)的顶部固定连接有安装板(7),所述工作台(2)一侧的顶部固定连接有滑轨(8),所述滑轨(8)的顶部滑动连接有送料架(9),所述工作框(6)的内部滑动连接有推拉舟(10),所述推拉舟(10)设置有四组。
2.根据权利要求1所述的一种8管高产能PECVD设备,其特征在于:所述工作框(6)的一侧固定连接有控制板(11),所述控制板(11)的一侧固定连接有显示屏(12),所述显示屏(12)的底部固定连接有控制按键(13)。
3.根据权利要求1所述的一种8管高产能PECVD设备,其特征在于:所述工作框(6)内壁的一侧固定连接有机械手(14),所述工作框(6)内壁的一侧固定连接有间歇台(15)。
4.根据权利要求1所述的一种8管高产能PECVD设备,其特征在于:所述安装板(7)的顶部开设有通槽(16),所述通槽(16)的内部连通有第一管道(17),所述第一管道(17)设置有八组。
5.根据权利要求1所述的一种8管高产能PECVD设备,其特征在于:所述气源柜(3)与密封炉(5)的顶部均固定连接有防护板(18),所述气源柜(3)的顶部开设有通孔(19),所述主机柜(4)的顶部连通有第二管道(20)。
6.根据权利要求1所述的一种8管高产能PECVD设备,其特征在于:所述气源柜(3)与主机柜(4)表面的两侧均通过合页铰接有扇门(21),两个所述扇门(21)的表面均设置有把手(22)。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201811571880.2A CN109487241A (zh) | 2018-12-21 | 2018-12-21 | 一种8管高产能pecvd设备 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201811571880.2A CN109487241A (zh) | 2018-12-21 | 2018-12-21 | 一种8管高产能pecvd设备 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN109487241A true CN109487241A (zh) | 2019-03-19 |
Family
ID=65711278
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201811571880.2A Pending CN109487241A (zh) | 2018-12-21 | 2018-12-21 | 一种8管高产能pecvd设备 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN109487241A (zh) |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN201704403U (zh) * | 2010-05-26 | 2011-01-12 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 一种pecvd设备 |
CN102061456A (zh) * | 2010-10-29 | 2011-05-18 | 华南理工大学 | 一种用于pecvd装置的悬臂式推拉舟系统 |
CN202332927U (zh) * | 2011-11-18 | 2012-07-11 | 青岛赛瑞达电子科技有限公司 | 分体式pecvd及扩散设备架 |
CN203159708U (zh) * | 2013-02-01 | 2013-08-28 | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 | 一种适应多管pecvd设备的石墨舟自动运行系统 |
CN107283402A (zh) * | 2017-08-04 | 2017-10-24 | 深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司 | 可精确控制伸缩量的机械手及多管反应室上舟系统 |
CN209537620U (zh) * | 2018-12-21 | 2019-10-25 | 无锡华源晶电科技有限公司 | 一种8管高产能pecvd设备 |
-
2018
- 2018-12-21 CN CN201811571880.2A patent/CN109487241A/zh active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN201704403U (zh) * | 2010-05-26 | 2011-01-12 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 一种pecvd设备 |
CN102061456A (zh) * | 2010-10-29 | 2011-05-18 | 华南理工大学 | 一种用于pecvd装置的悬臂式推拉舟系统 |
CN202332927U (zh) * | 2011-11-18 | 2012-07-11 | 青岛赛瑞达电子科技有限公司 | 分体式pecvd及扩散设备架 |
CN203159708U (zh) * | 2013-02-01 | 2013-08-28 | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 | 一种适应多管pecvd设备的石墨舟自动运行系统 |
CN107283402A (zh) * | 2017-08-04 | 2017-10-24 | 深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司 | 可精确控制伸缩量的机械手及多管反应室上舟系统 |
CN209537620U (zh) * | 2018-12-21 | 2019-10-25 | 无锡华源晶电科技有限公司 | 一种8管高产能pecvd设备 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN209537620U (zh) | 一种8管高产能pecvd设备 | |
CN201181710Y (zh) | 一种其上镀有增透膜的太阳能光伏电池 | |
CN109487241A (zh) | 一种8管高产能pecvd设备 | |
CN107947731A (zh) | 一种光伏防水汇流箱 | |
CN207995008U (zh) | 一种拆卸方便的太阳能电池板 | |
CN202020314U (zh) | 一种电烤箱 | |
CN203593784U (zh) | 一种石墨框 | |
CN218920334U (zh) | 一种便于安装的光伏发电板 | |
CN206541832U (zh) | 一种光伏发电装置 | |
CN202585464U (zh) | 具有双绒面结构的太阳能光伏玻璃 | |
CN207542253U (zh) | 一种抗电势诱导衰减的光伏组件 | |
CN206432947U (zh) | 轻量化构件式光伏瓦 | |
CN206538918U (zh) | 一种方便维修更换的幕墙 | |
CN206432938U (zh) | 轻量化双玻结构双面发电光伏瓦 | |
CN206364035U (zh) | 一种透光式太阳能电池组件 | |
CN211352149U (zh) | 一种防尘太阳能电池板 | |
CN209402470U (zh) | 一种太阳能光伏板组串 | |
CN109067328A (zh) | 一种角度可调节互联网电池板 | |
CN209232804U (zh) | 高发电功率的太阳能电池板 | |
CN219476700U (zh) | 一种超白压延太阳能光伏玻璃 | |
CN207892090U (zh) | 一种太阳能光伏幕墙 | |
CN204668328U (zh) | 双玻太阳能组件 | |
CN212063929U (zh) | 一种太阳能板防尘装置 | |
CN206396994U (zh) | 太阳能建筑墙板 | |
CN220307103U (zh) | 一种光伏逆变器散热防尘装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
TA01 | Transfer of patent application right | ||
TA01 | Transfer of patent application right |
Effective date of registration: 20210531 Address after: Room 402, building 3, 3255 Sixian Road, Songjiang District, Shanghai Applicant after: Ideal semiconductor equipment (Shanghai) Co., Ltd Address before: 214135 rooms 101 and 201, building 12 (B3), Wuxi Zhongguancun Software Park, Xinwu District, Wuxi City, Jiangsu Province Applicant before: WUXI HUAYUAN JIANDIAN TECHNOLOGY Co.,Ltd. |