CN109475727B - 微针阵列组件以及具有这种组件的流体递送装置 - Google Patents
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Abstract
微针阵列组件包括具有多根微针的微针阵列。分配歧管包括流体供应通道,该流体供应通道与多个阻力通道流体连通地连接。每个阻力通道流体连通地连接到微针阵列的多根微针中的对应的一根微针。阻力通道对流经每个阻力通道的流体具有阻力值,该阻力值是流体流经供应通道的阻力的大约5倍至大约100倍。
Description
技术领域
本文总体涉及流体递送装置,并且更具体地涉及与流体递送装置的微针组件一起使用的微流体分配歧管。
背景技术
先前已经开发了许多用于使用微针组件透皮递送药物的装置。与较大的传统针相比,微针组件有助于减少患者感受到的疼痛量。使用针进行常规的药物皮下(并且通常是肌内)递送用于一次递送大量药物,从而产生药物的生物利用度的峰值。虽然这对于某些药物来说不是一个重要问题,但许多药物受益于患者血液中的稳态浓度。透皮递送装置能够在延长的时间段内以基本恒定的速率缓慢输注药物。然而,通过微针组件的每根微针递送的药物量可能不相等。或者,透皮药物递送装置可以以可变速率输注药物。因此,透皮药物递送装置相对于常规皮下药物递送方法提供了若干优点。
发明内容
在一个方面,提供了一种微针阵列组件。微针阵列组件包括具有多根微针的微针阵列以及具有流体连通地连接到多个阻力通道的供应通道的分配歧管。每个阻力通道流体连通地连接到多根微针中的相应一根微针。流体流经多个阻力通道的每一个阻力通道的阻力值是流体流经供应通道的阻力的大约5倍至大约100倍。
在另一方面,提供了一种流体递送装置。流体递送装置包括含有流体的贮存器和微针阵列组件。微针阵列组件包括微针阵列,该微针阵列具有形成在上游侧的多个流体通道以及从下游侧延伸的多根微针。每根微针流体连通地连接到多个流体通道中的对应的流体通道。微针阵列还包括分配歧管,该分配歧管具有与多个流体通道流体连通地连接的供应通道。流体流经多个流体通道中的每一个流体通道的阻力值是流体流经供应通道的阻力的大约5倍至约100倍。
在又一方面,提供了一种微针阵列组件。微针阵列组件包括具有多根微针的微针阵列。多根微针中的每一根微针均包括孔。微针阵列还包括分配歧管,该分配歧管具有入口通道、形成在分配歧管的下游表面中的多个供应通道以及多个出口通道。每个供应通道流体连通地连接到入口通道以及多个出口通道中的对应的出口通道。入口通道和多个出口通道的每个出口通道之间的压降基本相同。
附图说明
当参照附图阅读以下具体实施方式时,将更好地理解本文的这些和其它特征、方面和优点,附图中相同的附图标记在整个附图中表示相同的部件,其中:
图1是示例性流体递送装置的剖视图;
图2是图1所示的流体递送装置的储盒和机械控制器的剖视图;
图3是与图1中所示的流体递送装置一起使用的示例性微针阵列组件的分解示意图;
图4是图3的微针阵列组件的示意性横剖视图;
图5是与图3的微针阵列一起使用的分配歧管的示意性平面图;
图6是沿线A-A截取的分配歧管的剖视图,示出了供应通道的示例性轮廓;
图7是微针阵列组件的一部分和在其中流动的流体阻力的表示;
图8是与图1中所示的流体递送装置一起使用的另一示例性微针阵列组件的分解示意图;
图9是图8的微针阵列组件的局部放大示意性横剖视图;
图10是与图8的微针阵列组件一起使用的微针阵列的后表面的示意性平面图,其包括分配歧管;
图11是与图1中所示的流体递送装置一起使用的另一示例性微针阵列组件的分解示意图;
图12是图11的微针阵列组件的局部放大示意性横剖视图;和
图13是与图11的微针阵列组件一起使用的分配歧管的后表面的示意性平面图。
除非另外指出,否则本文提供的附图旨在示出本文的实施例的特征。相信这些特征适用于包括本文的一个或多个实施例的各种系统。因此,附图并不意味着包括本领域普通技术人员已知的用于实践本文公开的实施例所需的全部传统特征。
具体实施方式
在以下说明书和权利要求书中,将参考许多术语,其应被定义为具有以下含义。除非上下文另有明确规定,否则单数形式“一”和“该”包括复数指代。术语“包含”、“包括”和“具有”旨在是包含性的,并且意味着可能存在除所列元件之外的其它元件。“可选的”或“可选地”表示随后描述的事件或情况可能发生或可能不发生,并且该描述包括事件发生的实例和事件不发生的实例。
在整个说明书和权利要求书中使用的近似语言可以用于修改任何定量表达,这些表达可容许改变而不会导致与其涉及的基本功能的改变。因此,由一个或多个术语(例如“约”、“近似”和“基本上”)修饰的值不限于指定的精确值。在至少一些情况下,近似语言可以对应于用于测量值的仪器的精度。在此以及整个说明书和权利要求中,范围限制可以组合和/或互换;除非上下文或语言另有说明,否则这些范围被认为并包括其中包含的所有子范围。
如本文所使用的,例如向上、向下、上、下、顶部、底部等的位置术语仅用于方便指示相对位置关系。
现在参阅附图,图1是示例性流体递送装置10(例如药物递送装置)的剖视图。在示例性实施例中,流体递送装置10包括连接在一起以形成流体递送装置10的多个子组件部件,包括容器12、储盒14和机械控制器16。容器12、储盒14和机械控制器16中的每一个大体在附图中示出。容器12如图1所示形成流体递送装置10的主体并且可滑动地连接到储盒14。另外,机械控制器16(如下面更详细说明)连接到储盒14。
在示例性实施例中,容器12包括外主体18,该外主体18形成为大体截头圆锥形状并且具有限定在其中的内部空间20。该外主体绕中心轴线“A”基本对称地形成。主体18的上边缘22限定出到内部空间20的开口24。内表面26从边缘22大致竖向向下朝向主体18的底壁28延伸并围绕内部空间20延伸。如图1中所示,外主体18包括弯曲的外表面30,当其从基壁28向上延伸到边缘22时,该外表面30大体向内倾斜。凹口32绕内部空间20延伸并形成在内表面26和底壁28的相交处。该凹口包括大致竖向的外壁34和大致水平的上壁36。
在示例性实施例中,容器12还包括在内部空间20内连接到主体18的控制器支撑结构40,以及连接到主体18的凹口32的微针阵列支撑结构42。另外,控制器支撑结构40连接到微针阵列支撑结构42。
控制器支撑结构40包括下环形壁部分44,其竖向向下延伸超过凹口32的水平上壁36。下壁部分44包括从下壁部分44径向向外延伸的并且被构造为接合凹口32的水平上壁36的凸缘部分46。凸缘部分46包括多个闭锁构件56,闭锁构件56被构造成接合并连接到微针阵列支撑结构42的至少一部分。在上壁部分48处,控制器支撑结构40包括内斜面50和多个间隔开的柔性突片52,柔性突片52从主体18的内表面26径向向内延伸。每个柔性突片52包括在柔性突片的自由端处向内延伸的突起54。该向内延伸的突起54被构造成与储盒14接合。
在示例性实施例中,微针阵列支撑结构42包括大致平面的主体部分60,该主体部分60水平延伸穿过主体18的内部空间20。周壁62绕主体部分60的外周竖向向上延伸,并包括外表面64,该外表面64被构造成与凹口32的竖向外壁34接合。特别地,周壁62基本上平行于竖向外壁34形成,并且其尺寸设计成通过过盈配合连接到竖向外壁34。如本文所用,短语“过盈配合”是指竖向外壁34和外周表面60之间的紧密度值,即部件之间的径向间隙的值。负间隙值通常被称为压配合,其中过盈的大小确定配合是小过盈配合还是过盈配合。少量的正间隙被称为松配合或滑动配合。
微针阵列支撑结构42还包括竖向向上延伸的中心壁66,其位于主体部分60的中心部分附近。如图1所示,中心壁66包括上边缘68,上边缘68被构造成连接到储盒14。微针阵列支撑结构42还包括从主体部分60竖向向下延伸的框架部分70。框架部分70限定出安装空间72,用于将微针阵列组件80连接到位于安装空间72内的安装表面74。
另外,继续参阅图1,微针阵列支撑结构42包括至少一个套管82,该套管82连接到从微针阵列支撑结构42向上延伸的底座84。特别地,套管82的下部通过与底座84的过盈配合而与流体通道86流体连通地连接,所述流体通道86延伸穿过微针阵列支撑结构42。或者,套管82可以使用任何合适的紧固技术(例如粘合剂结合)连接到底座84,这使得微针阵列支撑结构42能够如本文所述起作用。在示例性实施例中,套管82的上部尖锐地指向并且远离微针阵列支撑结构42向上延伸,使得套管84可以刺穿储盒14的一部分。如图所示,套管82向上延伸穿过密封垫圈88,密封垫圈88连接到底座84并且被构造成密封流体通道86。
在示例性实施例中,微针阵列支撑结构42包括保护性剥离纸背衬90,其基本上完全在粘合剂层92上延伸,粘合剂层92连接到主体18的底壁28和微针阵列支撑结构42的下表面的至少一部分。粘合剂层92被构造成将流体递送装置10连接到使用者的皮肤表面。剥离纸背衬90被构造成在使用流体递送装置10之前防止粘合剂层92连接到使用者或任何其它物体。
图2是图1所示的流体递送装置10的储盒14和机械控制器16的剖视图。在示例性实施例中,储盒14包括具有中心轴线“A”的中心主体100。中心主体100包括上腔102和相对的下腔104,上腔102和相对的下腔104经由流体通道106流体连通地连接在一起。在示例性实施例中,上腔102具有大致凹形的横截面形状,由中心主体100的大致凹形的主体部分108限定。下腔104具有由下壁110限定的大致矩形的横截面形状,,下壁110从凹形的主体部分108的中心部分大致竖向向下延伸。流体通道106的端部的上部在上腔102的最低点处开口,并且流体通道106的相对的下部在下腔104的中心部分处开口。流体通道106的下部在下腔104处向外扩展,形成大致倒漏斗横截面形状。在其它实施例中,上腔102、下腔104和流体通道106的横截面形状可以以使得中心主体100能够如本文所述起作用的任何构造形成。
在示例性实施例中,储盒14包括下密封构件112,下密封构件112被构造成连接到中心主体100并封闭下腔104。下密封构件由下壁114形成,下壁114包括外周通道,该外周通道构造成密封地接合中心体100的下壁100的边缘。轴向延伸入下腔104的是上密封壁116。下盖118在下密封构件112上方延伸并且被构造成固定地接合中心体100的下壁110。这有助于将下密封构件112固定成与中心主体100密封接触,从而封闭下腔104。
下盖118包括下壁120,下壁120具有位于中心的开口122,开口122能够接近密封构件112的下壁114。下盖118包括从下壁120的周边向上和向下延伸的竖向延伸壁124。在示例性实施例中,竖向延伸壁124的上部通过机械锁定连接件接合至中心主体100的下壁110,如在126处所示。在其它实施例中,竖向延伸壁124可以使用任何连接技术接合中心主体100的下壁110,该连接技术使得下盖118能够固定地接合下壁110,例如,通过过盈配合、粘合剂结合、焊接接合(例如旋转焊接、超声波焊接、激光焊接或热熔接)等。在示例性实施例中,竖向延伸壁124的下部形成外周密封表面128,该外周密封表面128被构造成接合密封构件130。如图所示,密封构件130包括通道132,该通道132被构造成与中心壁66的上边缘68摩擦接合,如本文所述。
在示例性实施例中,储盒14还包括上密封构件134或膜,其被构造成连接到中心主体100并封闭上腔102。上密封构件134形成为大致平坦的密封膜并且包括外周脊构件136,以便于将上密封构件134密封地固定到中心主体100。上盖138在上密封构件134上方延伸并且被构造成固定地接合中心主体100。这有助于将上密封构件134固定成与中心主体100密封接触,从而封闭上腔102。
如图2所示,上盖138包括竖向延伸的壁140,壁140具有向内延伸的凸缘构件142,该凸缘构件142被构造成连接到上密封构件134的外周脊构件136。特别地,凸缘构件142与中心主体100的壁凹形主体部分108配合,以将上密封构件134压紧并密封地固定在它们之间。在示例性实施例中,竖向延伸壁140的下端经由焊接接合(例如旋转焊接、超声波焊接、激光焊接或热熔接)连接到中心主体100的连接凸缘144。在其它实施例中,竖向延伸壁140可以使用任何连接技术被连接到连接凸缘144,该技术使得上盖138能够例如通过粘合结合等固定地接合中心主体100。
在示例性实施例中,上盖138还分别包括形成在竖向延伸壁140的外表面中的上凹槽146和下凹槽148。上凹槽146和下凹槽148被构造成接合主体18的多个间隔开的柔性突片52,并且特别是接合在柔性突片52的自由端处向内延伸的突起54,如本文所述。另外,上盖138还包括位于竖向延伸壁140的上部的多个闭锁接收开口150。闭锁接收开口150被构造成连接到机械控制器16以将其固定到储盒14。
继续参阅图2,在示例性实施例中,机械控制器16至少包括控制器壳体152、柱塞构件154和位于控制器壳体152和柱塞构件154之间的、用于沿轴向方向偏压柱塞构件154远离控制器壳体152的偏压构件156。在示例性实施例中,偏压构件156是压缩弹簧。或者,偏压构件156可以是任何类型的偏压或力提供器,其使机械控制器16能够如本文所述那样起作用。
在示例性实施例中,控制器壳体152包括具有弯曲或圆顶形横截面轮廓的上壁158。从上壁158大致竖向向下延伸的是多个柔性突片160,其被构造成与上盖138的闭锁接收开口150锁定接合。每个柔性突片160包括在柔性突片160的自由端处的向内延伸的突起162,以提供与相应的接收开口150的闭锁连接,如图2所示。另外,控制器壳体152包括偏压构件引导件164,偏压构件引导件164从上壁158同轴向下延伸,用于延伸入偏压构件156并且便于定位偏压构件156。
柱塞构件154包括从圆顶形头部168竖向向上同轴延伸的引导壁166。如图所示,引导壁被构造成在其中接收偏压构件156,并绕偏压构件引导件164延伸。圆顶形头部168被构造成在使用流体递送装置10期间通过偏压构件156施加的力接合储盒14的上密封构件134。
如图1所示,流体递送装置10包括微针阵列组件80,微针阵列组件80连接到位于微针阵列支撑结构42的安装空间72内的安装表面74。虽然本文将微针阵列组件80描述为与示例性流体递送装置10一起使用,但是可以预期微针阵列组件80可以使用或以其它方式结合到其它合适的流体递送装置中。例如,流体递送装置10可以用其它合适的装置代替,用于将流体递送到微针阵列80的入口或入口通道。
图3是与图1中所示的流体递送装置10一起使用的示例性微针阵列组件80的分解示意图。图4是图3的微针阵列组件80的示意性横截面视图。在示例性实施例中,微针阵列组件80经由粘合剂层176结合到安装表面74。微针阵列组件80包括微针阵列170和至少部分地覆盖在多根微针178和微针阵列170的基部表面180上的膜174。微针阵列组件80还包括分配歧管172,分配歧管172在微针阵列170的后表面182上延伸并通过另外的粘合剂层176与其结合。分配歧管172包括用于向微针阵列170提供流体的流体分配网184。由分配歧管172供应的流体可以是液体药物制剂的形式。膜覆盖的微针178被构造成穿透使用者的皮肤,例如通过在每根微针178中形成的一个或多个孔将液体药物制剂提供到使用者的皮肤中。
在示例性实施例中,覆盖膜174可以由聚合物(例如塑料)膜等制成,并且使用粘合剂176结合到微针阵列170。在其它实施例中,覆盖膜174可以包括压纹或纳米压印的聚合物(例如塑料)膜,或者由约5微米厚的聚醚醚酮(PEEK)膜制成,或者覆盖膜可以是任何其它合适的材料,例如聚丙烯薄膜。在一些实施例中,可以想到微针阵列组件80可不包括覆盖膜174。
在示例性实施例中,微针阵列170可以由刚性、半刚性或柔性材料片制成,例如但不限于金属材料、陶瓷材料、聚合物(例如塑料)材料或使微针阵列170能够如本文所述那样起作用的任何其它合适的材料。例如,在一个合适的实施例中,微针阵列170可以通过反应离子蚀刻或任何其它合适的制造技术由硅形成。
如图4所示,微针阵列170包括从微针阵列170的后表面182向外延伸的多根微针178。微针阵列170包括在后表面182之间延伸的、用于允许流体从中流过的多个通道208。例如,在示例性实施例中,每个通道208延伸穿过微针阵列170以及穿过微针178。
每根微针178包括基部,基部从后表面182向下延伸并且转变成具有远离后表面182的尖端210的穿刺形或针状形状(例如圆锥形或金字塔形或转变成圆锥形或金字塔形的圆柱形)。每根微针178的尖端210设置在离微针阵列170最远的位置,并限定出每根微针178的最小尺寸(例如直径或横截面宽度)。另外,每根微针178通常可以在微针阵列170的基部表面180与其尖端210之间限定任何合适的长度“L”,其足以允许微针178穿透使用者的皮肤。在示例性实施例中,每根微针178的长度L小于约1000微米(μm)。每根微针178通常可具有任何合适的纵横比(即长度L与每根微针178的横截面宽度尺寸D之比)。纵横比可以大于2,例如大于3或大于4。在横截面宽度尺寸(例如直径)在每根微针31的长度上变化的情况下,纵横比可以基于平均横截面宽度尺寸确定。
每根微针178的通道或通路208可以通过微针178的内部限定,使得每根微针形成空心轴,或者可以沿着微针的外表面延伸以形成下游路径,该下游路径能够使流体从微针阵列170的后表面182流过并流经通路208,此时流体可被递送到、进入和/或通过使用者的皮肤。通路208可以被构造成限定出任何合适的横截面形状,例如但不限于半圆形或圆形。或者,每个通道208可以限定出非圆形形状,例如“v”形或任何其它合适的横截面形状,其使得微针178能够如本文所述那样起作用。
微针阵列170通常可包括从后表面182延伸的任何合适数量的微针178。例如,在一些合适的实施例中,微针阵列170内包括的微针178的数量在每平方厘米约10根微针至每平方厘米约1500根微针之间的范围内。微针178通常可以以各种不同的图案排列。例如,在一些合适的实施例中,微针178以均匀的方式间隔开,例如矩形或正方形网格或同心圆。在这样的实施例中,微针178的间隔通常可取决于许多因素,包括但不限于微针31的长度和宽度,以及打算通过或沿着微针31递送的液体制剂的量和类型。
图5是与图3的微针阵列170一起使用的分配歧管172的示意性平面图。图6是沿线A-A截取的分配歧管172的剖视图,示出了供应通道192的示例性轮廓。在示例性实施例中,分配歧管172包括形成在其中的流体分配网络184。流体分配网络包括例如在分配歧管172的顶表面186和底表面188之间延伸的多个通道和/或孔。通道和/或孔包括位于中心的入口通道190,其与多个供应通道192以及微针阵列支撑结构42(如图1所示)的流体通道86(图1中所示)流体连通地连接。在示例性实施例中,多个供应通道192包括沿着分配歧管172纵向延伸的5个基本平行的等间距通道192。另外,单个供应通道192在通道的大约中点处横向地延伸经过这5个基本平行的等间距通道192。供应通道192有助于将由入口通道190供应的流体分配遍及分配歧管172的区域。
该5个基本平行的等间距的供应通道192中的每一个流体连通地连接到多个阻力通道194。阻力通道194远离供应通道192延伸并且沿着通道的纵向长度是等间距的。另外,阻力通道194沿着相应的供应通道192的轴线彼此对称地形成。阻力通道194的尺寸小于供应通道192的尺寸。此外,阻力通道194形成为产生用于流体的曲折流动路径,从而有助于增加流体分配网络184对流体流动的阻力。每个阻力通道194流体连通地连接到出口通道196。如图4所示,每个出口通道196与相应的微针178对齐,用于通过微针通路208分配流体。在其它实施例中,通道190、192、194和196可以以使得分配歧管172能够如本文所述起作用的任何构造形成。
在示例性实施例中,供应通道192具有大致U形,其具有宽度“W”和深度“D”。通道的深度/宽度比(D/W比)被构造为在约0.2至约2.2的范围内。在一些实施例中,形成在通道(例如供应通道192)底部的角198被倒圆,以便于在流体流过通道时减少流体中泡沫的形成(图6)。包括相应的角198的通道190、192、194和196的尺寸和形状是基于所需的流量、压降和/或制造限制来预先确定的。
在示例性实施例中,分配歧管172通过将基底基板200结合到盖基板202而形成,该基底基板包括形成为穿过基板的入口通道190以及形成在底表面204中的供应通道192和阻力通道194,该盖基板包括穿过其形成的出口通道196。入口通道190可以通过钻孔、切割、蚀刻和/或任何其它制造技术形成在基板200中,以形成穿过基板200的通道或孔。在示例性实施例中,使用蚀刻技术在基底200的底表面204中形成供应通道192和阻力通道194。例如,在一个合适的实施例中,使用湿法蚀刻或氢氟酸蚀刻来形成供应通道192和阻力通道194。掩模被施加到基板200的底表面204以形成通道的位置,例如精度小于2微米。蚀刻材料(例如氢氟酸)被施加至底表面204以从底表面移除材料,从而形成供应通道192和阻力通道194。通常,湿法蚀刻产生具有约0.5的D/W比和圆角的通道。在另一个合适的实施例中,深反应离子蚀刻(DRIE或等离子蚀刻)可用于在基板200中产生深的、高密度和高纵横比的结构。DRIE蚀刻使得能够形成包括陡峭的具有可变倾斜度以及圆角的侧壁的通道。或者,供应通道192和阻力通道194可以使用任何制造工艺形成在底表面204中,使得分配歧管172能够如本文所述那样起作用。在示例性实施例中,通过钻孔、切割、蚀刻和/或用于形成穿过基板202的通道或孔的任何其它制造技术,穿过盖基板202形成出口通道196。
在示例性实施例中,基底基板200和盖基板202以面对面接触的方式结合在一起,以密封供应通道192的边缘和分配歧管172的阻力通道194。在一个合适的实施例中,通过在两个基板200和202之间产生预结合来使用直接结合或直接对准结合。预结合可包括在使两个基板直接接触之前将结合剂施加到基板200的底表面204和盖基板202的顶表面206。将两个基板200和202对准并进行面对面接触并在升高的温度下退火。在另一个合适的实施例中,阳极结合用于形成分配歧管172。例如,在表面204和206处跨过结合界面施加电场,同时加热基板200和202。在替代实施例中,通过使用激光辅助结合工艺可将两个基板200和202结合在一起,包括对基板200和202施加局部加热以将它们结合在一起。
在示例性实施例中,基底基板200和盖基板202由玻璃材料制成。或者,基底基板200和盖基板202可以由硅制成。可以想到基底基板200和盖基板202可以由不同材料制成,例如基板200可以由玻璃制成,基板202可以由硅制成。在其它实施例中,基底基板200和盖基板202可以由能够使分配歧管172如本文所述起作用的任何材料和材料组合制造。
参阅图1和图2,在流体递送装置10的操作期间,柱塞构件154经由偏压构件156向储盒14施加压力,并且包含在上腔102中的流体通过套管82流入流体通道86。流体通过流过分配歧管172的入口通道190离开流体通道86,然后流体通过供应通道192、阻力通道194和出口通道196流到微针178的通路208并且进入使用者的皮肤。
在示例性实施例中,偏压构件156与柱塞构件154一起起作用,以提供流体从储盒14通过套管82基本上完全被排空并进入流体通道86。柱塞构件154和偏压构件156可提供约32千帕(kPa)(4.6磅每平方英寸psi)至约120kPa(17.4psi)范围内的初始力。图1中所示的流体递送装置10仅作为示例提供。也就是说,微针阵列组件80可以与任何其它合适的装置一起使用或以其它方式结合到任何其它合适的装置中。例如,柱塞构件154、偏压构件156和/或机械控制器16可以用其它合适的特征代替,以迫使流体进入流体通道86等。
图7是微针阵列组件80的一部分和对其中的流体流动的阻力的表示。假设微针阵列170的流体分配网络184充满了流体。流经分配歧管172的流体以压力Pin和流量Qin进入入口通道190,并被引导到供应通道192。流经供应通道192的流体的流动阻力相对较小,并且当流体沿供应通道192流动时由R1、R2和R3表示。然而,当流体进入阻力通道194时,流动阻力显著增加,其分别由R4、R5和R6表示。例如,在一个合适的实施例中,流过阻力通道194的阻力(由阻力值R4、R5和R6表示)是流过供应通道192的阻力的至少约5倍。在一些实施例中,流过阻力通道194的阻力是流过供应通道192的阻力的至少约30倍、至少约50倍,大约5倍至约100倍,大约40倍至约100倍,或者大约50到约100倍。阻力通道194的阻力值R4、R5和R6显著高于相应的阻力值R1、R2和R3,部分原因在于阻力通道194被制造成具有比供应通道192的横截面小得多的横截面积。增大的阻力值R4、R5和R6导致在阻力通道194上的压降(例如P4-P1、P5-P2和P6-P3),使得沿供应通道192的流体压力P1、P2和P3基本相等。因此,因为P1、P2和P3基本上相等,所以阻力通道194可以制造成基本相同的尺寸,以提供基本相同的阻力值R4、R5和R6。流经微针阵列170的每根微针178的流动阻力基本相同,并分别由R7、R8和R9表示。因此,在微针178上的基本相等的压降(例如P7-P4、P8-P5和P9-P6)导致各个微针178处的流量Q1、Q2和Q3基本相同。在示例性实施例中,通过每根微针178的流量在约0.1微升/小时(μL/hr)至约20.0μL/hr的范围内。在一些合适的实施例中,通过每根微针178的流量在约0.25μL/hr至约5.0μL/hr的范围内,并优选约1μL/hr。
因此,在示例性实施例中,通过显著增大阻力通道194上的阻力值,基本上消除了由于阻力值R1、R2和R3引起的压力例如P1、P2和P3的理论差异。因此,离开任何相应微针178的流量基本相同,从而有利于流体在整个微针阵列170上的基本相等的分布。
在示例性实施例中,微针178的下游开口处的压力P7、P8和P9在约2kPa(0.29psi)至约50kPa(7.25psi)的范围内,并且在一个合适的实施例中,希望为约20kPa(2.9psi),以确保足够的压力以将流体分配到使用者的皮肤中。通常,微针178上的压降很小,使得微针178两侧的压力几乎相同。这使得微针阵列组件80对微针178的阻力变化性基本上不敏感,因为在微针178上的阻力远小于流经分配歧管172的阻力。例如,在示例性实施例中,分配歧管172上的压降至少约为20kPa(2.9psi),这使得供应通道192中的压力基本相同。因此,供应通道192中的压力在约32kPa(4.6psi)至约80kPa(11.6psi)的范围内,并且在一个合适的实施例中,期望为至少约50kPa(7.25psi)以确保微针阵列170出口处的出口压力为20kPa(2.9psi)。
在示例性实施例中,偏压构件156被构造成就腔102中的流体体积的至少约90%(如图2所示)而言将大致连续的出口压力维持在约20kPa(2.9psi)或高于约20kPa(2.9psi)。例如,在一个实施例中,偏压构件156被构造成连续的或恒定压力的装置,例如在柱塞构件154(图2中所示)的行进距离上的恒力螺旋弹簧,该力通常是恒定的,或者力的变化实际上很小。通常,典型的螺旋弹簧将具有可变速率,即弹簧对负载的阻力在压缩/延伸期间变化。因此,在示例性实施例中,如果使用典型的可变速率的偏压构件,当偏压构件延伸以迫使流体离开上腔102时,施加在流体上的力将趋于减小。这可能导致微针阵列170出口处的出口压力下降到低于期望的20kPa(2.9psi)压力,以确保流体被分配到使用者的皮肤中。在另一个实施例中,偏压构件156包括两个平行弹簧。例如,偏压构件156可包括具有第一长度的低力弹簧和高力弹簧,高力弹簧具有比低力弹簧的第一长度短的第二长度。这样的构造使得偏压构件156能够具有在第一时段内为高压、然后在第二时段内减压的压力分布。
除了保持大致恒定的出口压力之外,还希望具有增大的初始压力Pin,以促进流体进入使用者皮肤的大致连续的灌注率。如果偏压构件156不是通常恒定的压力装置,或者如果由偏压构件施加的初始压力相对较低,则流体进入使用者皮肤的流量可以随时间显著变化。例如,压力降低量低的初始压力可导致减缓流体进入使用者皮肤的初始增大的灌注率和/或停止一段时间。许多药物受益于患者血流中的稳态浓度,因此希望保持通常连续的灌注率。已经发现,增加偏压构件的初始压力,同时仍然在微针阵列170的出口处保持20kPa(2.9psi)的期望出口压力有助于保持通常连续且通常稳定的灌注率。
图8是与图1中所示的流体递送装置10一起使用的另一示例性微针阵列组件220的分解示意图。虽然本文将微针阵列组件220描述为与示例性流体递送装置10一起使用,但是可以想到微针阵列组件220可以与其它合适的流体输送装置一起使用或以其它方式结合到合适的流体递送装置中。例如,流体递送装置10可以用其它合适的、用于将流体递送到微针阵列220的入口或入口通道装置的代替。图9是图8的微针阵列组件220的示意性剖视图。在示例性实施例中,微针阵列组件220经由粘合剂层222结合到安装表面74。微针阵列组件220包括微针阵列224和膜226,膜226至少部分地覆盖微针阵列224的多根微针228和基部表面230。微针阵列组件220还包括分配歧管232,分配歧管232在微针阵列224的后表面234上延伸并与其结合。分配歧管232包括用于向微针阵列224提供流体的流体分配网络236。由分配歧管232供应的流体可以是液体药物制剂的形式。膜覆盖的微针228被构造成穿透使用者的皮肤,例如通过在每根微针228中形成的一个或多个孔238将液体药物制剂提供到使用者的皮肤中。
在示例性实施例中,覆盖膜226形成为与本文关于图3和图4描述的覆盖膜174基本相同。与覆盖膜174一样,在一些合适的实施例中,可以想到微针阵列组件220可以没有覆盖膜226。
在示例性实施例中,微针阵列224可以由刚性、半刚性或柔性材料片制成,例如但不限于金属材料、陶瓷材料、聚合物(例如塑料)材料或使微针阵列224能够如本文所述那样起作用的任何其它合适的材料。例如,在一个合适的实施例中,微针阵列224可以通过反应离子蚀刻或任何其它合适的制造技术由硅形成。
图10是与图8的微针阵列组件220一起使用的微针阵列224的后表面234的示意性平面图,包括分配歧管232。在示例性实施例中,分配歧管232包括形成在其中的流体分配网络236。流体分配网络包括例如在分配歧管232的顶表面240和底表面242之间延伸的多个通道和/或孔。通道和/或孔包括位于中心的入口通道244,其与供应通道246和微针阵列支撑结构42(图1中所示)的流体通道86(图1中所示)流体连通地连接。在示例性实施例中,供应通道246沿分配歧管232纵向延伸。供应通道246促进将由入口通道244供应的流体分配至分配歧管232的区域。
供应通道246流体连通地连接到形成在微针阵列224的后表面234中的多个供应槽248。供应槽248远离供应通道246延伸并且形成为对流体流动产生阻力,使得每个供应槽248具有基本相同的流体出口压力。例如,在一个实施例中,供应通道246形成用于流体的曲折流动路径,从而有助于通过一定长度的通道增大供应槽248对流体流动的阻力。每个供应槽248流体连通地连接到形成在每根微针228中的孔238,如图9所示。在其它实施例中,通道246和248可以以使得分配歧管232能够如本文所述那样起作用的任何构造形成。在示例性实施例中,供应通道246和供应槽248具有大致矩形形状,基本上如本文中关于图6中描述的供应通道192所述。
入口通道244可以通过钻孔、切割、蚀刻和/或任何其它通过分配歧管形成通道或孔的制造技术形成在分配歧管232中。在示例性实施例中,使用蚀刻技术在分配歧管232的底表面242中形成供应通道246。例如,在一个合适的实施例中,使用湿法蚀刻或氢氟酸蚀刻来形成供应通道246。例如,将掩模应用于分配歧管232的底表面242,以形成通道的位置,精度小于例如2微米。如本文所述,将蚀刻材料(例如氢氟酸)施加到底表面242以从底表面移除材料,从而形成供应通道246。在另一个合适的实施例中,可以使用DRIE或等离子蚀刻来产生供应通道246。或者,供应通道246可以使用任何使得分配歧管232能够如本文所述那样起作用的制造工艺形成在底表面242中。在示例性实施例中,使用关于供应通道246描述的相同蚀刻技术在微针阵列224的后表面234中形成供应槽。
在示例性实施例中,分配歧管232和微针阵列224以面对面接触的方式结合在一起,以密封供应通道246和供应槽248的边缘并使其闭合。在一个合适的实施例中,通过在分配歧管232和微针阵列224之间产生预结合来使用直接结合或直接对准结合,如本文所述。在另一个合适的实施例中,阳极结合用于将分配歧管232结合到微针阵列224。在替代实施例中,分配歧管232和微针阵列224可通过使用激光辅助结合工艺被结合在一起,包括将局部加热施加到分配歧管232和微针阵列224以将它们结合在一起。
在示例性实施例中,分配歧管232由玻璃材料制成。或者,分配歧管232可以由硅制成。微针阵列224由硅制成。然而,在其它实施例中,微针阵列224可以由玻璃材料制成。可以想到分配歧管232和微针阵列224可由任何材料和材料组合制成,使得微针阵列组件220能够如本文所述那样起作用。
在该实施例中,流体经由入口通道244进入供应通道246并且沿供应通道246流动并填充供应通道246以将流体分配到形成在微针阵列224的后表面234上的供应槽248。每个单独的微针228的每个相应的供应槽248的长度不同,使得从分配歧管232的入口通道244到微针228的通道238的流量对于所有微针228是相同的。
图11是与图1中所示的流体递送装置10一起使用的另一示例性微针阵列组件250的分解示意图。尽管本文将微针阵列组件250描述为与示例性流体递送装置10一起使用,但是可以想到微针阵列组件250可以与其它合适的流体递送装置一起使用或以其它方式结合到其它合适的流体递送装置中。例如,流体递送装置10可以用其它合适的用于将流体递送到微针阵列250的入口或入口通道的装置代替。图12是图11的微针阵列组件250的示意性横剖视图。在示例性实施例中,微针阵列组件250经由粘合剂层252结合到安装表面74(图1中示出)。微针阵列组件250包括微针阵列254和膜256,微针阵列254具有与本文关于图3和图4描述的微针阵列170基本相同的构造,并且膜256至少部分地覆盖微针阵列254的多根微针258和基部表面260。微针阵列组件250还包括分配歧管262,其分布在微针阵列254的后表面264上并与之结合。分配歧管262包括流体分配网络266,其包括多个通道274和/或孔272和276,用于向微针阵列254提供流体。膜覆盖的微针258被构造成穿透使用者的皮肤,例如通过形成在每根微针258中的一个或多个孔268将流体提供到使用者的皮肤中。
在示例性实施例中,覆盖膜256与本文关于图3和图4描述的覆盖膜174基本相同地形成。与覆盖膜174一样,在一些合适的实施例中,可以想到微针阵列组件250可以没有覆盖膜256。
在示例性实施例中,微针阵列254可以由刚性、半刚性或柔性材料片制成,例如但不限于金属材料、陶瓷材料、聚合物(例如塑料)材料或使微针阵列254能够如本文所述起作用的任何其它合适的材料。例如,在一个合适的实施例中,微针阵列254通过反应离子蚀刻或任何其它合适的制造技术由硅制成。
图13是与图11的微针阵列组件250一起使用的分配歧管262的后表面264的示意性平面图。在示例性实施例中,分配歧管262包括形成在其中的流体分配网络266。流体分配网络包括例如在分配歧管262的顶表面270和后表面264之间延伸的多个通道和/或孔。通道和/或孔包括位于中心的入口通道272,其与多个供应通道274和微针阵列支撑结构42(图1中所示)的流体通道86(图1中所示)流体连通地连接。在示例性实施例中,供应通道274沿分配歧管262延伸,形成流体的曲折路径,从而有助于增加供应通道274的阻力。供应通道274有助于将由入口通道272供应的流体分配至分配歧管262的区域。
每个供应通道274流体连通地连接到出口通道276。每个出口通道276通常与相应的微针258对齐以用于通过微针258的通路268分配流体,如图12所示。在其它实施例中,供应通道274和出口通道276可以以使得分配歧管262能够如本文所述那样起作用的任何构造形成。在示例性实施例中,供应通道274具有大致矩形形状,基本上如本文中关于图6中描述的供应通道192所述。
入口通道272可以通过钻孔、切割、蚀刻和/或任何其它通过分配歧管形成通道或孔的制造技术形成在分配歧管262中。在示例性实施例中,通过将通道274的组模制到分配歧管262中,供应通道274形成在分配歧管262的底表面268上。或者,供应通道274可以使用任何使得分配歧管262能够如本文所述那样起作用的制造工艺形成在底表面268上。
在示例性实施例中,分配歧管262和微针阵列254以面对面接触的方式结合在一起,以密封供应通道274的边缘并使其闭合。在一个合适的实施例中,通过在分配歧管262和微针阵列254之间产生预结合来使用直接结合或直接对齐结合,如本文所述。在另一个合适的实施例中,阳极结合用于将分配歧管262结合到微针阵列254。在替代实施例中,分配歧管262和微针阵列254可通过使用激光辅助结合工艺结合在一起,包括将局部加热施加到分配歧管262和微针阵列254以将它们结合在一起。
在示例性实施例中,分配歧管262由聚二甲基硅氧烷(PDMS)聚合物制成。或者,分配歧管232可由任何材料和材料组合制成,使得微针阵列组件250能够如本文所述那样起作用。
在该实施例中,流体经由入口通道272进入供应通道274并且沿着供应通道274流动并且填充供应通道274以将流体分配到每根单独的微针258。每个供应通道274的长度基本相同,使得从分配歧管262的入口通道272到微针258的通路268的总流动阻力对于所有微针258是相同的。因此,因为对每根微针258的阻力基本相同,所以流量也与所有微针258基本相同。各个供应通道274的路径是基于通道连接到的相应的微针258的位置来确定的。
本文详细描述的装置、系统和方法使得微针阵列组件能够通过微针组件的每根微针分配基本等量的药物。与微针组件一起使用的微流体分配歧管包括流体供应通道特征,其使得每个供应通道中的总流动阻力基本相等,从而产生均衡的流量。另外,流动通道的阻力水平可以被构造成在延长的时间段内实现流体的基本恒定的流量,从而促进使用者血流中的流体的稳态浓度。
以上详细描述了用于微流体分配歧管的装置、系统和方法的示例性实施例。本文描述的装置,系统和方法不限于所描述的特定实施例,而是可以独立地且与本文描述的其它组件和/或步骤分开地利用方法的装置、系统和/或步骤的组件。例如,该方法还可以与其它流体递送装置、系统和方法结合使用,并且不限于仅使用本文所述的装置,系统和方法来实践。而是,示例性实施例可以结合许多流体递送用途来实施和利用。
尽管本文的各种实施例的具体特征可能在一些附图中示出而在其它附图中未示出,但这仅是为了方便。根据本文的原理,可以结合任何其它附图的任何特征来参考和/或要求保护附图的任何特征。
本书面描述使用示例来公开实施例,包括最佳模式,并且还使本领域技术人员能够实践实施例,包括制造和使用任何装置或系统以及执行任何结合的方法。本文的可专利性范围由权利要求书限定,并且可以包括本领域技术人员想到的其它示例。如果这些其它示例不具有与权利要求书的字面语言不同的结构元件,或者如果它们包括与权利要求的字面语言无实质差别的等效结构元件,则这些其它示例旨在落入权利要求书的范围内。
由于在不脱离本文的范围的情况下可以对上述实施例进行各种改变,所以包含在以上描述中并且在附图中示出的所有内容应当理解为说明性的而非限制性的。
Claims (17)
1.一种微针阵列组件,包括:
微针阵列,其包括多根微针;和
分配歧管,其包括在所述分配歧管的底表面上纵向延伸的多个基本平行的等间距的供应通道,每个供应通道与多个阻力通道流体连通地连接,每个阻力通道流体连通地连接到多个出口通道中的对应的一个出口通道,且每个出口通道均流体连通地连接到多根微针中的对应的一根微针,
其中,流体流经多个所述阻力通道中的每一个阻力通道的阻力值是流体流经所述供应通道的阻力值的5倍至100倍。
2.根据权利要求1所述的微针阵列组件,其中,流体流经多个所述阻力通道中的每一个阻力通道的流体的阻力值是流体流经所述供应通道的所述阻力值的至少30倍。
3.根据权利要求1所述的微针阵列组件,其中,多个所述阻力通道中的每一个阻力通道形成用于所述流体流动的曲折的流动路径,以增大所述阻力通道对所述流体流动的阻力值。
4.根据权利要求1所述的微针阵列组件,其中,所述分配歧管包括基底基板,所述基底基板连接到盖基板以限定出所述供应通道和多个所述阻力通道。
5.根据权利要求1所述的微针阵列组件,其中,所述分配歧管还包括入口通道,所述入口通道上游流体连通地连接到所述供应通道;和多个出口通道,所述多个出口通道中的每一个出口通道在下游流体连通地连接到所述多个阻力通道中的对应的一个阻力通道。
6.根据权利要求5所述的微针阵列组件,其中,所述入口通道和多个所述出口通道的每个出口通道之间的压降基本相同。
7.根据权利要求1所述的微针阵列组件,其中,所述分配歧管由玻璃、硅和聚二甲基硅氧烷(PDMS)聚合物中的一种或多种制成。
8.根据权利要求1所述的微针阵列组件,其中,在多根所述微针的每根微针的出口处流动的所述流体的压力在2千帕至50千帕的范围内。
9.一种流体递送装置,包括:
含有液体的贮存器;和
微针阵列组件,其包括:
微针阵列,其包括形成在上游侧的多个阻力通道和从下游侧延伸的多根微针,每根微针流体连通地连接到多个出口通道中的对应的一个出口通道,且每个出口通道均流体连通地连接到多个阻力通道中的对应的一个阻力通道;和
分配歧管,其包括在所述分配歧管的底表面上纵向延伸的多个基本平行的等间距的供应通道,每个供应通道与多个所述阻力通道流体连通地连接,
其中,流体流经多个所述阻力通道中的每一个阻力通道的阻力值是流体流经所述供应通道的阻力值的5倍至100倍。
10.根据权利要求9所述的流体递送装置,其中,流体流经所述多个阻力通道的每一个阻力通道的阻力值是流体流经所述供应通道的所述阻力的至少30倍。
11.根据权利要求9所述的流体递送装置,其中,所述多个阻力通道中的每一个阻力通道形成用于所述流体流动的曲折的流动路径,以增大所述阻力通道对所述流体流动的阻力值。
12.根据权利要求9所述的流体递送装置,还包括偏压构件,其用于使至少一些流体从所述贮存器流向所述微针阵列组件。
13.根据权利要求12所述的流体递送装置,其中,所述偏压构件被构造成将在多根所述微针的每一根微针的出口处流动的流体的压力维持在20千帕以上,直至至少90%的流体体积的流体从所述贮存器流出。
14.根据权利要求9所述的流体递送装置,其中,所述分配歧管还包括入口通道,所述入口通道在上游流体连通地连接到所述供应通道和所述贮存器。
15.根据权利要求14所述的流体递送装置,其中,所述入口通道与多根所述微针中的每一根微针之间的压降基本相同。
16.根据权利要求9所述的流体递送装置,其中,所述分配歧管由玻璃、硅和聚二甲基硅氧烷(PDMS)聚合物中的一种或多种制成。
17.根据权利要求9所述的流体递送装置,其中,在所述多根微针的每一根微针的出口处流动的流体的压力在2千帕至50千帕的范围内。
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