CN109473569B - 封装基板及其制备方法、oled显示装置及其制备方法 - Google Patents

Abstract

本发明实施例提供一种封装基板及其制备方法、OLED显示装置及其制备方法，涉及显示技术领域，可改善填充胶固化不完全的问题。该封装基板包括：衬底基板以及设置在所述衬底基板上的彩色光阻图案和用于间隔所述彩色光阻图案的黑矩阵图案；所述黑矩阵图案包括依次设置在所述衬底基板上的配向层和遮光层；所述遮光层包括液晶；其中，所述配向层用于使液晶分子的长轴沿垂直或平行于所述衬底基板的方向排列。用于固化填充胶。

Description

封装基板及其制备方法、OLED显示装置及其制备方法

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种封装基板及其制备方法、OLED显示装置及其制备方法。

背景技术

OLED(Organic Light Emitting Diode，有机电致发光二极管)显示装置由于具有全固态结构、自发光、响应速度快、亮度高、全视角、可柔性显示等一系列优点，因而成为目前极具竞争力和良好发展前景的一类显示装置。

OLED显示装置包括阳极、阴极以及发光层，在阳极和阴极施加电压时，发光层会发光。目前，OLED显示装置包括两种，一种是发光层可发出三原色光如红光、绿光和蓝光。另一种是发光层发白光，在发光层发白光的情况下，为了实现彩色显示，OLED显示装置还包括彩色膜层(Color Film，简称CF)，彩色膜层包括彩色光阻图案，通过彩色光阻图案能够得到三原色光。

发明内容

本发明的实施例提供一种封装基板及其制备方法、OLED显示装置及其制备方法，可改善填充胶固化不完全的问题。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

第一方面，提供一种封装基板，包括：衬底基板以及设置在所述衬底基板上的彩色光阻图案和用于间隔所述彩色光阻图案的黑矩阵图案；所述黑矩阵图案包括依次设置在所述衬底基板上的配向层和遮光层；所述遮光层包括液晶；其中，所述配向层用于使液晶分子的长轴沿垂直或平行于所述衬底基板的方向排列。

在一些实施例中，所述配向层为光配向层，所述光配向层用于在第一波长光的照射下进行配向，以使所述液晶分子的长轴沿垂直或平行于所述衬底基板的方向排列。

在一些实施例中，所述光配向层的材料包括带有偶氮苯基团的聚合物。

在一些实施例中，所述第一波长光为紫外光。

在一些实施例中，所述遮光层还包括掺杂在所述液晶中的遮光材料。

在一些实施例中，所述遮光材料包括黑色染料。

第二方面，提供一种OLED显示装置，包括：OLED基板、用于封装所述OLED基板的封装基板以及设置在所述OLED基板和所述封装基板之间的填充胶；其中，所述封装基板为上述的封装基板。

第三方面，提供一种封装基板的制备方法，包括：在衬底基板上形成黑矩阵图案，所述黑矩阵图案包括多个镂空区域；其中，所述黑矩阵图案包括依次形成在所述衬底基板上的配向层和遮光层；所述遮光层包括液晶；所述配向层用于使液晶分子的长轴沿垂直或平行于所述衬底基板的方向排列；在所述黑矩阵图案的镂空区域形成彩色光阻图案。

第四方面，提供一种OLED显示装置的制备方法，包括：在OLED基板上形成填充胶；将上述的封装基板贴附在所述填充胶上；利用第二波长光照射所述封装基板，以固化所述填充胶。

在一些实施例中，在封装基板的配向层为光配向层的情况下，在将上述的封装基板贴附在所述填充胶上之后，利用第二波长光照射所述封装基板之前，所述OLED显示装置的制备方法还包括：利用第一波长光照射所述封装基板使所述封装基板中的光配向层进行配向，以使液晶分子的长轴沿垂直或平行于衬底基板的方向排列；其中，所述第一波长光和所述第二波长光相同或者不相同。

本发明实施例提供一种封装基板及其制备方法、OLED显示装置及其制备方法，封装基板中的黑矩阵图案包括依次设置在衬底基板上的配向层和遮光层，遮光层包括液晶，由于在配向层的作用下，液晶分子的长轴沿垂直或平行于衬底基板的方向排列，因而在利用光垂直照射黑矩阵图案时，光可以透过黑矩阵图案。这样一来，在封装基板应用于OLED显示装置中，在制备OLED显示装置的过程中，利用光垂直照射OLED显示装置，对填充胶进行固化时，由于光不仅可以照射到填充胶中与彩色光阻图案正对区域，而且光还可以透过黑矩阵图案照射到填充胶中与黑矩阵图案正对的区域，因此光能够照射到整层填充胶，有利于对整层填充胶进行固化，从而改善了相关技术中因黑矩阵图案遮挡导致的填充胶固化不完全的问题。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为相关技术提供的一种OLED显示装置的结构示意图；

图2为本发明实施例提供的一种封装基板的结构示意图；

图3为本发明实施例提供的一种黑矩阵图案的结构示意图；

图4为本发明实施例提供的一种OLED显示装置的结构示意图；

图5为本发明实施例提供的另一种OLED显示装置的结构示意图；

图6为本发明实施例提供的一种封装基板的制备方法的流程示意图；

图7为本发明实施例提供的一种在衬底基板上形成黑矩阵图案的结构示意图；

图8为本发明实施例提供的一种OLED显示装置的制备方法的流程示意图；

图9为本发明实施例提供的一种在OLED基板上形成填充胶的结构示意图。

附图标记：

01-OLED基板；02-封装基板；03-亚像素；10-填充胶；20-衬底基板；301-彩色光阻图案；302-黑矩阵图案；3021-配向层；3022-遮光层；40-基底；50-像素界定层；60-第一电极；70-发光层；80-第二电极。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

相关技术中，OLED显示装置的制备过程包括：如图1所示，在OLED基板01上涂覆填充胶(Filler)10，再将封装基板02贴附在填充胶10上，之后，对填充胶10进行固化，从而实现OLED基板01的封装。在OLED显示装置(也称WOLED显示装置)的发光层发白光的情况下，如图1所示，封装基板02包括设置在衬底基板20上的彩色光阻图案301和用于间隔彩色光阻图案301的黑矩阵图案302(Black Matrix，简称BM)。由于黑矩阵图案302的材料为黑色树脂，这样一来，填充胶10在固化过程中，黑矩阵图案302阻挡了部分光，因而导致紫外(Ultraviolet，简称UV)光无法照射到填充胶10中与黑矩阵图案302正对的区域，从而容易引发填充胶10固化不完全、易流动、产生气体(outgas)等不良。

基于此，本发明实施例提供一种OLED显示装置，如图4所示，包括OLED基板01、用于封装OLED基板01的封装基板02以及设置在OLED基板01和封装基板02之间的填充胶10。

此处，用封装基板02封装OLED基板01时，在OLED基板01和封装基板02之间设置填充胶10，填充胶10用于起平坦化作用，使得形成的OLED显示装置发出的光是均匀的。

以下对封装基板02的结构进行详细说明。

在本发明的一些实施例中，如图2所示，封装基板02包括：衬底基板20。对于衬底基板20的材料不进行限定，在一些实施例中，衬底基板20为刚性衬底基板，刚性衬底基板的材料例如为玻璃。在另一些实施例中，衬底基板20为柔性衬底基板，柔性衬底基板的材料例如为有机材料，具体地，例如为PI(Polyimide，聚酰亚胺)。在OLED显示装置为柔性显示装置的情况下，衬底基板20为柔性衬底基板。

如图2所示，封装基板02还包括：设置在衬底基板20上的彩色光阻图案301和用于间隔彩色光阻图案301的黑矩阵图案302。彩色光阻图案301例如为红色光阻图案(R)、绿色光阻图案(G)和蓝色光阻图案(B)。黑矩阵图案302包括依次设置在衬底基板20上的配向层3021和遮光层3022；遮光层3022包括液晶。在一些实施例中，配向层3021用于使液晶分子的长轴沿垂直于衬底基板20的方向排列，即液晶分子竖直排列。在另一些实施例中，配向层3021用于使液晶分子的长轴沿平行于衬底基板20的方向排列，即液晶分子水平排列。本发明实施例优选的，配向层3021用于使液晶分子的长轴沿垂直于衬底基板20的方向排列。

需要说明的是，配向层3021起着控制液晶分子排列方向的作用，通过控制配向层3021的取向(也称配向)，配向层3021能够诱导液晶分子的长轴沿垂直或平行于衬底基板20的方向排列。

对于配向层3021的类型不进行限定，以能诱导液晶分子的长轴沿垂直或平行于衬底基板20的方向排列为准。在一些实施例中，配向层3021为摩擦配向层。摩擦配向层的配向原理是在高分子材料表面用绒布滚轮进行接触式的定向机械摩擦，摩擦高分子表面所供的能量使高分子主链因延伸而定向排列，从而控制液晶分子的排列方向(如控制液晶分子的长轴沿垂直于衬底基板20的方向排列)。在另一些实施例中，配向层3021为非摩擦配向层，例如为光配向层。光配向层的配向原理是利用光配向层材料的光化学反应产生各向异性，液晶分子与光配向层表面分子相互作用，为了达到能量最小的稳定状态，液晶分子沿着光配向所定义的受力最大的方向(如垂直于衬底基板20的方向)排列。考虑到摩擦配向层易积累静电、产生粉尘颗粒等缺陷，因此本发明实施例优选配向层3021为光配向层，光配向层用于在第一波长光的照射下进行配向，以使液晶分子的长轴沿垂直或平行于衬底基板20的方向排列。

基于上述，对于光配向层的材料不进行限定，在一些实施例中，光配向层的材料为偶氮类，例如偶氮苯。在另一些实施例中，光配向层的材料为光交联类，例如聚乙烯肉桂酸。在另一些实施例中，光配向层的材料为光降解类，例如聚酰亚胺。由于偶氮类进行配向时所需的能量较低，因而本发明实施例，优选的，光配向层的材料包括偶氮类。进一步优选的，光配向层的材料包括带有偶氮苯基团的聚合物。

利用第一波长光对光配向层照射进行光配向，以使液晶分子的长轴沿垂直或平行于衬底基板20的方向排列时，可以根据光配向层的材料和液晶分子的排列方向选择第一波长光、照射时间以及照射角度等参数。在此基础上，在一些实施例中，第一波长光为线性偏振光。在另一些实施例中，第一波长光为非线性偏振光。示例的，光配向层的材料包括带有偶氮苯基团的聚合物，第一波长光为UV光，利用UV光照射带有偶氮苯基团的聚合物，带有偶氮苯基团的聚合物进行配向，从而诱导液晶分子的长轴沿垂直或平行于衬底基板20的方向排列。考虑到填充胶10常选用UV光进行固化，因此在本发明的一些实施例中，第一波长光为UV光，这样利用UV光不仅可以对光配向层进行配向，以使液晶分子的长轴沿垂直或平行于衬底基板20的方向排列，而且还可以使填充胶10固化，简化了制备OLED显示装置的工序。

基于光配向层材料的不同，在第一波长光的照射下，光配向层进行配向的原理不同。以带有偶氮苯基团的聚合物为例，在UV光的照射下，光配向层产生分子指向性变化，即光配向层发生垂直方向侧链的变化，这样在光配向层的作用下，液晶分子发生分子旋转变化，从而诱导液晶分子的长轴沿垂直或平行于衬底基板20的方向排列。

本发明实施例提供一种封装基板02，封装基板02中的黑矩阵图案302包括依次设置在衬底基板20上的配向层3021和遮光层3022，遮光层3022包括液晶，由于在配向层3021的作用(诱导)下，液晶分子的长轴沿垂直或平行于衬底基板20的方向排列，因而如图3所示，在利用光垂直照射黑矩阵图案302时，光可以透过黑矩阵图案302。这样一来，在封装基板02应用于OLED显示装置中，在制备OLED显示装置的过程中，利用光垂直照射OLED显示装置，对填充胶10进行固化时，由于光不仅可以照射到填充胶10中与彩色光阻图案301正对区域，而且光还可以透过黑矩阵图案302照射到填充胶10中与黑矩阵图案302正对的区域，因此光能够照射到整层填充胶10，有利于对整层填充胶10进行固化，从而改善了相关技术中因黑矩阵图案302遮挡导致的填充胶10固化不完全的问题。

需要说明的是，OLED显示装置中，由于彩色光阻图案301与OLED基板01中的发光区域对应设置，黑矩阵图案302与OLED基板01中的非发光区域对应设置，因而OLED基板01中的发光区域发出的光是倾斜照射到黑矩阵图案302上，而黑矩阵图案302的遮光层3022中的液晶分子的长轴是沿垂直或平行于衬底基板20的方向排列的，因此遮光层3022可以对OLED基板01发出的光进行阻挡。这样一来，黑矩阵图案302能够起到间隔相邻彩色光阻图案301发出光的作用，即该黑矩阵图案302能够改善像素间漏光不良。

由于黑矩阵图案302是通过遮光层3022中的液晶分子的长轴沿垂直或平行于衬底基板20的方向排列来阻挡OLED基板01中发光区域发出的光，考虑到OLED基板01中的发光区域发出的光可能还会有部分光透过黑矩阵图案302，因此在本发明的一些实施例中，遮光层3022还包括掺杂在液晶中的遮光材料。液晶和遮光材料掺杂一起形成混合胶体。

此处，对于遮光材料不进行限定，以能够遮光为准。在一些实施例中，遮光材料包括黑色染料。具体的，在一些实施例中，黑色染料为黑色树脂。在另一些实施例中，黑色染料为黑色油墨。

此外，对于遮光层3022中液晶和遮光材料的掺杂比例不进行限定，可以根据需要进行合理设置。液晶占遮光层3022的比例越大，对填充胶10进行固化时，光透过黑矩阵图案302的透过率越大，这样便能够更好地对填充胶10进行固化。遮光材料占遮光层3022的比例越大，能够更有效地阻挡OLED基板01中发光区域发出的光透过黑矩阵图案302。

需要说明的是，虽然黑矩阵图案302的遮光层3022中有遮光材料，但是由于遮光层3022还包括液晶，且液晶分子是的长轴沿垂直或平行于衬底基板20的方向规则排列的，遮光材料掺杂在液晶中，因此光可以透过黑矩阵图案302，相对于相关技术中黑矩阵图案302仅包括遮光材料，本发明实施例提供的黑矩阵图案302的透过率提高。

本发明实施例，由于遮光层3022的液晶中掺杂有遮光材料，因而黑矩阵图案302可以更有效地阻挡OLED基板01中发光区域发出的光，进而能够有效的改善像素间的漏光现象。

以下对OLED基板01的结构进行详细说明。

参考图4和图5，OLED基板01包括多个亚像素03以及设置在基底40上用于间隔亚像素03的像素界定层50。在OLED显示装置中，OLED基板01中的像素界定层50(非发光区域)与封装基板02中的黑矩阵图案302对应设置，OLED基板01中的亚像素03(发光区域)与封装基板02中的彩色光阻图案301对应设置。此处，对于形成像素界定层50的方法不进行限定，示例的，采用涂布像素界定薄膜、曝光、显影等工艺形成像素界定层50。

此处，在一些实施例中，基底40为衬底基板。在另一些实施例中，基底40包括衬底基板和设置在衬底基板上的薄膜晶体管。薄膜晶体管包括源极、漏极、有源层、栅极以及栅绝缘层。在此基础上，在一些实施例中，基底40中的衬底基板为刚性衬底基板，刚性衬底基板的材料例如为玻璃。在另一些实施例中，基底40中的衬底基板为柔性衬底基板，柔性衬底基板的材料例如为有机材料，具体地，例如为PI。在OLED显示装置为柔性显示装置的情况下，基底40中的衬底基板为柔性衬底基板。

OLED基板01中的亚像素03包括依次设置在基底40上的第一电极60、发光层70以及第二电极80。

在一些实施例中，如图4所示，发光层70用于发出白光。此时，各个亚像素03中的发光层70可以连接在一起，即发光层70设置为一整层。在另一些实施中，如图5所示，发光层70用于发出三原色光。三原色光例如为红光、绿光和蓝光。三原色光又例如为品红光、黄色光和青色光。此外，示例的，在发光层70用于发出三原色光的情况下，用于发红光的发光层70与红色光阻图案对应设置，用于发绿光的发光层70与绿色光阻图案对应设置，用于发蓝光的发光层70与蓝色光阻图案对应设置。在此基础上，在一些实施例中，发光层70的材料为有机材料，对于采用何种方式形成发光层70不进行限定，示例的，采用蒸镀方式形成发光层70。

在一些实施例中，第一电极60为阳极，第二电极80为阴极。在另一些实施例中，第一电极60为阴极，第二电极80为阳极。此外，各个亚像素03的第一电极60相互不连接。在一些实施例中，各个亚像素03的第二电极80相互不连接。在另一些实施例中，如图4和图5所示，各个亚像素03的第二电极80连接在一起，即第二电极80设置为一整层。将第二电极80设置为一整层，简化了OLED基板01的制作工艺。

需要说明的是，第二电极80为透明电极。在一些实施例中，第二电极80的材料选自ITO(Indium Tin Oxide，氧化铟锡)或IZO(Indium Zinc Oxide，氧化铟锌)中的至少一种。对于形成第二电极80的方法不进行限定，例如可以采用溅射(sputter)的方式形成第二电极80。在一些实施例中，第一电极60为透明电极，在这种情况下，形成的OLED显示装置能够进行双面显示。此时，第一电极60的材料可以选自ITO或IZO中的至少一种。在另一些实施例中，第一电极60为反射电极，在这种情况下，形成的OLED显示装置只能在封装基板02远离OLED基板01的一侧进行显示。此时，第一电极60的材料可以为Ag(银)或ITO/Ag/ITO叠层材料。对于形成第一电极60的方法不进行限定，例如，可以采用溅射(sputter)的方式形成(或沉积)第二电极80。

本发明实施例提供一种OLED显示装置，利用光垂直照射OLED显示装置，对OLED显示装置中的填充胶10进行固化时，由于OLED显示装置中的封装基板为上述的封装基板02，因而光不仅可以照射到填充胶10中与彩色光阻图案301正对区域，而且光还可以透过黑矩阵图案302照射到填充胶10中与黑矩阵图案302正对的区域，因此光能够照射到整层填充胶10，对整层填充胶10进行固化，从而改善了相关技术中因黑矩阵图案302遮挡导致的填充胶10固化不完全的问题。

本发明实施例提供一种封装基板的制备方法，如图6所示，包括：

S100、如图7所示，在衬底基板20上形成黑矩阵图案302，黑矩阵图案302包括多个镂空区域。其中，黑矩阵图案302包括依次形成在衬底基板20上的配向层3021和遮光层3022；遮光层3022包括液晶。在一些实施例中，配向层3021用于使液晶分子的长轴沿垂直于衬底基板20的方向排列，即液晶分子竖直排列。在另一些实施例中，配向层3021用于使液晶分子的长轴沿平行于衬底基板20的方向排列，即液晶分子水平排列。本发明实施例优选的，配向层3021用于使液晶分子的长轴沿垂直于衬底基板20的方向排列。

此处，对于如何在衬底基板20上形成黑矩阵图案302不进行限定。以下提供一种黑矩阵图案302的具体制备过程。

S200、在衬底基板20上形成(如涂布)配向薄膜，对配向薄膜进行构图工艺以形成配向层3021，配向层3021包括多个第一镂空区域。在一些实施例中，构图工艺包括曝光、显影等工艺。

对于配向层3021的类型不进行限定，以能诱导液晶分子的长轴沿垂直或平行于衬底基板20的方向排列为准。在一些实施例中，配向层3021为摩擦配向层。在另一些实施例中，配向层3021为非摩擦配向层，例如光配向层。本发明实施例优选配向层3021为光配向层，光配向层用于在第一波长光的照射下进行配向，以使液晶分子的长轴沿垂直或平行于衬底基板20的方向排列。

基于上述，对于光配向层的材料不进行限定，在一些实施例中，光配向层的材料为偶氮类，例如偶氮苯。在另一些实施例中，光配向层的材料为光交联类，例如聚乙烯肉桂酸。在另一些实施例中，光配向层的材料为光降解类，例如聚酰亚胺。由于偶氮类进行配向时所需的能量较低，因而本发明实施例，优选的，光配向层的材料包括偶氮类。进一步优选的，光配向层的材料包括带有偶氮苯基团的聚合物。

S201、在配向层3021上形成遮光层3022，遮光层3022包括多个第二镂空区域，第一镂空区域和第二镂空区域在衬底基板20上的正投影重叠。在一些实施例中，可以利用喷墨打印(Ink-Jet Printing，简称IJP)或丝网印刷等工艺形成遮光层3022。

在本发明的一些实施例中，遮光层3022还包括掺杂在液晶中的遮光材料。

此处，对于遮光材料不进行限定，以能够遮光为准。在一些实施例中，遮光材料包括黑色染料。具体的，在一些实施例中，黑色染料为黑色树脂。在另一些实施例中，黑色染料为黑色油墨。

S101、如图2所示，在黑矩阵图案302的镂空区域形成彩色光阻图案301。

在一些实施例中，彩色光阻图案301为红色光阻图案、绿色光阻图案和蓝色光阻图案。基于此，在黑矩阵图案302的镂空区域形成彩色光阻图案301具体包括：在黑矩阵图案302的镂空区域依次形成红色光阻图案、绿色光阻图案和蓝色光阻图案。其中，对于形成红色光阻图案、绿色光阻图案和蓝色光阻图案的顺序不进行限定，可以是任意的。

以红色光阻图案为例，说明彩色光阻图案301的制作过程：形成红色光阻薄膜，对红色光阻薄膜进行构图工艺，以在黑矩阵图案302的镂空区域形成红色光阻图案。在一些实施例中，构图工艺包括曝光、显影等工艺。

本发明实施例提供一种封装基板的制备方法，封装基板的制备方法与上述实施例提供的封装基板02具有相同的结构和有益效果，由于上述实施例已经对封装基板02的结构和有益效果进行了详细的描述，因而此处不再赘述。

本发明实施例还提供一种OLED显示装置的制备方法，如图8所示，包括：

S300、如图9所示，在OLED基板01上形成填充胶10。

在一些实施例中，采用涂布或旋涂的方式在OLED基板01上形成填充胶10。在OLED基板01上形成填充胶10是为了起平坦化作用，以使得后续形成的OLED显示装置发出的光是均匀的。

此处，对于OLED基板01的结构不进行限定，可以是任意的OLED基板01。由于上述实施例已经对OLED基板01的结构进行了详细的描述，因而此处不再赘述。

S301、如图4和图5所示，将上述的封装基板02贴附在填充胶10上。

由于上述实施例已经对封装基板02的结构进行了详细的描述，因而此处不再赘述。

将封装基板02贴附在填充胶10上时，OLED基板01中的像素界定层50与封装基板02中的黑矩阵图案302对应，OLED基板01中的亚像素03与封装基板02中的彩色光阻图案301对应。

S302、利用第二波长光照射封装基板02，以固化填充胶10。

此处，对于第二波长光不进行限定，可以根据填充胶10的类型选择相应的第二波长光。在一些实施例中，第二波长光为紫外光。

需要说明的是，利用第二波长光照射OLED显示装置时，将光源放置在靠近封装基板02的一侧，光源发出的光透过封装基板02照射到填充胶10，从而使填充胶10固化。

在制备OLED显示装置的过程中，由于本发明实施例提供的封装基板02的黑矩阵图案302包括依次设置在衬底基板20上的配向层3021和遮光层3022，遮光层3022包括液晶，在配向层3021的作用(诱导)下，液晶分子的长轴沿垂直或平行于衬底基板20的方向排列，因而利用第二波长光照射OLED显示装置时，第二波长光不仅可以照射到填充胶10中与彩色光阻图案301正对区域，而且还可以透过黑矩阵图案302照射到填充胶10中与黑矩阵图案302正对的区域，因此第二波长光能够照射到整层填充胶10，有利于对整层填充胶10进行固化，从而改善了相关技术中因黑矩阵图案302遮挡导致的填充胶10固化不完全的问题。

在封装基板02的黑矩阵图案302中的配向层3021为光配向层的情况下，在S301之后，S302之前，上述OLED显示装置的制备方法还包括：

利用第一波长光照射封装基板02使封装基板02中的光配向层进行配向，以使液晶分子的长轴沿垂直或平行于衬底基板20的方向排列。

在一些实施例中，可以根据光配向层的材料和液晶分子的排列方向选择第一波长光、照射时间以及照射角度等参数。在此基础上，在一些实施例中，第一波长光为线性偏振光。在另一些实施例中，第一波长光为非线性偏振光。示例的，光配向层的材料包括带有偶氮苯基团的聚合物，第一波长光为UV光，利用UV光照射带有偶氮苯基团的聚合物，带有偶氮苯基团的聚合物进行配向，从而诱导液晶分子的长轴沿垂直或平行于衬底基板20的方向排列。

在一些实施例中，第一波长光和第二波长光相同。示例的，第一波长光和第二波长光均为UV光。在另一些实施例中，第一波长光和第二波长光不相同。

考虑到若第一波长光和第二波长光不相同，则需要先利用第一波长光照射封装基板02使封装基板02中的光配向层进行配向，以使液晶分子的长轴沿垂直或平行于衬底基板20的方向排列，再利用第二波长光照射OLED显示装置，以对填充胶10进行固化，这样就需要两种光源，从而使得制备OLED显示装置的成本和工序增加，基于此，本发明实施例优选的第一波长光和第二波长光相同，这样利用同一种光(例如紫外光)照射OLED显示装置，可以对光配向层进行配向，以使液晶分子的长轴沿垂直或平行于衬底基板20的方向排列的同时，还可以对填充胶10进行固化。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种封装基板，包括：衬底基板以及设置在所述衬底基板上的彩色光阻图案和用于间隔所述彩色光阻图案的黑矩阵图案；其特征在于，所述黑矩阵图案包括依次设置在所述衬底基板上的配向层和遮光层；所述遮光层包括液晶；

其中，所述配向层用于使液晶分子的长轴沿垂直或平行于所述衬底基板的方向排列。

2.根据权利要求1所述的封装基板，其特征在于，所述配向层为光配向层，所述光配向层用于在第一波长光的照射下进行配向，以使所述液晶分子的长轴沿垂直或平行于所述衬底基板的方向排列。

3.根据权利要求2所述的封装基板，其特征在于，所述光配向层的材料包括带有偶氮苯基团的聚合物。

4.根据权利要求2或3所述的封装基板，其特征在于，所述第一波长光为紫外光。

5.根据权利要求1所述的封装基板，其特征在于，所述遮光层还包括掺杂在所述液晶中的遮光材料。

6.根据权利要求5所述的封装基板，其特征在于，所述遮光材料包括黑色染料。

7.一种OLED显示装置，其特征在于，包括：OLED基板、用于封装所述OLED基板的封装基板以及设置在所述OLED基板和所述封装基板之间的填充胶；

其中，所述封装基板为权利要求1-6任一项所述的封装基板。

8.一种封装基板的制备方法，其特征在于，包括：

在衬底基板上形成黑矩阵图案，所述黑矩阵图案包括多个镂空区域；其中，所述黑矩阵图案包括依次形成在所述衬底基板上的配向层和遮光层；所述遮光层包括液晶；所述配向层用于使液晶分子的长轴沿垂直或平行于所述衬底基板的方向排列；

在所述黑矩阵图案的镂空区域形成彩色光阻图案。

9.一种OLED显示装置的制备方法，其特征在于，包括：

在OLED基板上形成填充胶；

将权利要求1-6任一项所述的封装基板贴附在所述填充胶上；

利用第二波长光照射所述封装基板，以固化所述填充胶。

10.根据权利要求9所述的OLED显示装置的制备方法，其特征在于，在封装基板的配向层为光配向层的情况下，在将权利要求1-6任一项所述的封装基板贴附在所述填充胶上之后，利用第二波长光照射所述封装基板之前，所述OLED显示装置的制备方法还包括：

利用第一波长光照射所述封装基板使所述封装基板中的光配向层进行配向，以使液晶分子的长轴沿垂直或平行于衬底基板的方向排列；

其中，所述第一波长光和所述第二波长光相同或者不相同。

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