CN109470448A - 一种触摸屏成像的检测方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开一种触摸屏成像的检测方法；解决的问题针对现有电容式触摸屏的功能片主要是依靠对ITO镀层进行图案设计从而实现触控功能，该ITO镀层在加工制作或者客户使用不当过程中容易造成损坏，在以往的失效分析过程中，在不破坏产品的情况下，分析止步于位置判定，不能对图形原像进行清晰呈现，降低分析效率和数据统计水平的技术问题。采取方案检测方法包括步骤1、将触摸屏置于贴合台面上；2、在盖板上全覆盖抗环境光干扰材料层；3、取出触摸屏；4、将触摸屏置于显微镜台面上；5、环境光进入触摸屏；6、成像。优点加强对触摸电容屏ITO层的原像对比，减少对显微镜仪器技术发展的依赖，降低检测成本，满足电容屏行业技术发展需求。
Description
技术领域
本发明涉及一种触摸屏成像的检测方法，在不破坏其整体成品结构的状态下，进行触摸屏关键功能部件ITO层原像检测的方法，属于触摸屏技术领域。
背景技术
触摸屏产品已经广泛应用在如手机、媒体播放器、导航系统、数码相机、数码相框、PDA、游戏设备、显示器、电器控制、医疗设备等各类电子产品中，在我们日常生活各个领域都可见到。但是在使用环境变化，操作不当，生产异常时，经常处于功能失效状态。触摸屏的主要功能部件ITO涂层是在被蚀刻成为特定图形之后，通过OCA/盖板等部件的贴合并被保护在其中，再经过控制IC处理，最终实现触控功能。ITO涂层被贴合在中间后，由于OCA中间的胶层和玻璃盖板的影响，极不容易被检测和观察。
目前，电容式触摸屏的功能片主要是依靠对ITO镀层进行图案设计从而实现触控功能，该ITO镀层在加工制作或者客户使用不当过程中容易造成损坏，在以往的失效分析过程中，在不破坏产品的情况下，分析止步于位置判定，不能对图形原像进行清晰呈现，降低了分析效率和数据统计水平。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是：针对现有技术中电容式触摸屏的功能片主要是依靠对ITO镀层进行图案设计从而实现触控功能，该ITO镀层在加工制作或者客户使用不当过程中容易造成损坏，在以往的失效分析过程中，在不破坏产品的情况下，分析止步于位置判定，不能对图形原像进行清晰呈现，降低了分析效率和数据统计水平的技术问题。
为解决上述技术问题，本发明采用的技术方案是：
一种触摸屏成像的检测方法，包括如下步骤：
步骤1、将触摸屏置于贴合台面上且触摸屏的盖板面朝上，在触摸屏上对称的两个转角处采用转角支架固定；触摸屏包括柔性线路板、ITO膜基材、ITO涂层、固态光学胶和盖板，ITO膜基材全覆盖在柔性线路板上，ITO涂层部分覆盖在ITO膜基材上，盖板通过固态光学胶设置在ITO涂层上；
步骤2、在步骤1中的盖板上全覆盖抗环境光干扰材料层；
步骤3、取出步骤2中的带动抗环境光干扰材料层的触摸屏；
步骤4、将步骤3中的触摸屏置于显微镜台面上且触摸屏的ITO膜基材面朝上；
步骤5、环境光进入触摸屏，定义触摸屏内在ITO膜基材与固态光学胶之间未覆盖ITO涂层处均为ITO膜基材检测点，定义触摸屏内的在ITO膜基材与固态光学胶之间覆盖有ITO涂层的均为ITO涂层检测点；观察显微镜内的ITO膜基材检测点的ITO膜基材检测点成像和ITO涂层检测点的ITO涂层检测点成像；
步骤6、对比步骤5中的ITO膜基材检测点成像和ITO涂层检测点成像有较高对比度并可清晰成像，完成对触摸屏的检测。
本发明技术方案，在触摸屏的盖板上全覆盖抗环境光干扰材料层，减少环境光线对清晰成像的干扰，保留有效反射光线，以增强成像对比度，从而清晰可辨。
对本发明技术方案的优选，步骤2中的抗环境光干扰材料层为透过率和反射率均小于3％的PE或者PET为基材的膜材。
对本发明技术方案的优选，步骤2中的抗环境光干扰材料层为透过率和反射率均小于3％的油墨材料。
对本发明技术方案的优选，步骤2中的抗环境光干扰材料层为透过率和反射率均小于3％的高分子纳米材料。
对本发明技术方案的优选，盖板的材质为钢化玻璃或PC或PMMA。
本发明中的柔性线路板、ITO膜基材、ITO涂层、固态光学胶和盖板是通过现有技术中的热压工艺，集成为一个整体。
本发明与现有技术相比，其有益效果是：
1、本发明检测方法，加强对触摸电容屏ITO膜基材和ITO涂层的原像对比，减少对显微镜仪器技术发展的依赖，降低检测成本，满足电容屏行业技术发展需求。
2、本发明检测方法，在检测触摸电容屏成品过程中，即使ITO膜层上有OCA和盖板等层的覆盖，仍可以有效去除环境光干扰部分，清晰的显示电容屏中关键功能部件ITO层原像；通过本发明，可以在不破坏电容屏的基础上，有效检测ITO层原像的完整性，对产品的最终分析给予证明，弥补了电容屏失效分析技术的空白。
3、本发明检测方法，可以检测电容屏上ITO涂层原像，解决了显微镜对多层贴合后的电容屏无法检测ITO涂层的问题，满足了失效分析模式中对原像的呈现和数据处理的技术优化需求。
附图说明
图1是本实施例触摸屏的结构示意图。
图2是触摸屏上全覆盖抗环境光干扰材料层的结构示意图。
图3是触摸屏贴合抗环境光干扰材料层的过程图。
图4是触摸屏检测的装置示意图。
图5是触摸屏检测的光路图。
具体实施方式
下面对本发明技术方案进行详细说明，但是本发明的保护范围不局限于所述实施例。
为使本发明的内容更加明显易懂，以下结合附图1-图5和具体实施方式做进一步的描述。
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
本实施例中的触摸屏成像的检测方法，包括如下步骤：
步骤1、将触摸屏置于贴合台面8上且触摸屏的盖板5面朝上，在触摸屏上对称的两个转角处采用转角支架7固定；触摸屏包括柔性线路板1、ITO膜基材2、ITO涂层3、固态光学胶4和盖板5，ITO膜基材2全覆盖在柔性线路板1上，ITO涂层3部分覆盖在ITO膜基材2上，盖板5通过固态光学胶4设置在ITO涂层3上；
步骤2、在步骤1中的盖板5上全覆盖抗环境光干扰材料层6；
步骤3、取出步骤2中的带动抗环境光干扰材料层6的触摸屏；
步骤4、将步骤3中的触摸屏置于显微镜台面上且触摸屏的ITO膜基材2面朝上；
步骤5、环境光进入触摸屏，定义触摸屏内在ITO膜基材2与固态光学胶4之间未覆盖ITO涂层3处均为ITO膜基材检测点22，定义触摸屏内的在ITO膜基材2与固态光学胶4之间覆盖有ITO涂层3的均为ITO涂层检测点33；观察显微镜内的ITO膜基材检测点22的ITO膜基材检测点成像222和ITO涂层检测点33的ITO涂层检测点成像333；
步骤6、对比步骤5中的ITO膜基材检测点成像222和ITO涂层检测点成像333有较高对比度并可清晰成像，完成对触摸屏的检测。
如图3所示，本实施例步骤1中的转角支架7和贴合台面8均属于触摸屏的装配工装，步骤1中触摸屏通过转角支架7固定在贴合台面8上。转角支架7是固定待测触摸屏，一般采用电木材料，符合待测品尺寸并具有防静电作用。贴合台面，一般采用不锈钢材料，带吸风吸附功能，在贴合抗环境光干扰材料层6时，待测触摸屏不会发生偏位。
如图3所示，本实施例步骤1盖板5的材质为钢化玻璃或PC或PMMA。步骤1中触摸屏的柔性线路板、ITO膜基材、ITO涂层、固态光学胶和盖板是通过现有技术中的热压工艺，集成为一个整体。
如图3所示，本实施例步骤2中，在触摸屏的盖板5上全覆盖抗环境光干扰材料层6，减少环境光线对清晰成像的干扰，保留有效反射光线，以增强成像对比度，从而清晰可辨。本实施例步骤2中的抗环境光干扰材料层6为透过率和反射率均小于3％的PE或者PET为基材的膜材。还可以是透过率和反射率均小于3％的油墨材料和透过率和反射率均小于3％的高分子纳米材料。
本实施例步骤2抗环境光干扰材料层6通过涂布工具9全覆盖贴合在触摸屏的盖板5上，确保贴合无折痕无气泡。涂布工具9为现有技术的工装，本实施例对涂布工具9不作详细说明。涂布工具，一般采用硅胶材料的滚轮，或者是喷头等工具，用于将抗环境光干扰材料层6均匀涂布在触摸电容屏盖板面上，并且无气泡无折痕。
本实施例步骤3松开固定在贴合台面8上的转角支架7，取出贴合有抗环境光干扰材料层6的触摸屏。
本实施例步骤4将贴合有抗环境光干扰材料层6的触摸屏置于显微镜台面上且触摸屏的ITO膜基材2面朝上，观察显微镜对产品进行检测。
如图4和5所示，图5中为了能更清楚地理解环境光进入触摸屏后的光路，本实施例在图5中示意了两路，分别对应ITO膜基材检测点22和ITO涂层检测点33，最终形成ITO膜基材检测点成像222和ITO涂层检测点成像333。
对应ITO膜基材检测点22的光路为由抗环境光干扰材料层6进入的环境光在盖板5面上形成第一路盖板面环境光入射光线201，第一路盖板面环境光入射光线201进入盖板5形成第一路盖板面环境光投射光线202，第一路盖板面环境光投射光线202进入ITO膜基材2形成ITO膜基材面环境光反射光线220；同时由盖板5侧面进入在盖板5面上形成第二路盖板面环境光入射光线211，第二路盖板面环境光入射光线211在盖板5面上进行反射形成第一路盖板面环境光反射光线212，第一路盖板面环境光反射光线212进入ITO膜基材2形成ITO膜基材面环境光反射光线220。
对应ITO涂层检测点成像333的光路为由抗环境光干扰材料层6进入的环境光在盖板5面上形成第三路盖板面环境光入射光线301，第三路盖板面环境光入射光线301进入盖板5形成第二路盖板面环境光投射光线302，第二路盖板面环境光投射光线302进入ITO涂层3形成ITO涂层面环境光反射光线330；同时由盖板5侧面进入在盖板5面上形成第四路盖板面环境光入射光线311，第四路盖板面环境光入射光线311在盖板5面上进行反射形成第二路盖板面环境光反射光线312，第二路盖板面环境光反射光线312进入ITO涂层3形成ITO涂层面环境光反射光线330。
在此过程中，通过抗环境光干扰材料层6对第一路盖板面环境光入射光线201和第三路盖板面环境光入射光线301进行遮光处理，对第二路盖板面环境光入射光线211和第四路盖板面环境光入射光线311进行抗反射处理，即减少第一路盖板面环境光投射光线202、第二路盖板面环境光投射光线302、第一路盖板面环境光反射光线212和第二路盖板面环境光反射光线312对检测位置的作用，促使有效光线ITO膜基材面环境光反射光线220和ITO涂层面环境光反射光线330作用在ITO膜基材检测点22和ITO涂层检测点33位置上不受干扰。ITO膜基材检测点22通过显微镜透镜成像为ITO膜基材检测点成像222，ITO涂层检测点33通过显微镜透镜成像为ITO涂层检测点成像333，由于ITO膜基材检测点22和ITO涂层检测点33在反射率上的差异，同时有效光线ITO膜基材面环境光反射光线220和ITO涂层面环境光反射光线330未受干扰，致使ITO膜基材检测点成像222和ITO涂层检测点成像333有较高对比度，可清晰成像，即可对触摸屏实施有效检测。
如图5所示，第一路盖板面环境光入射光线201，是指环境光入射到触摸电容屏盖板面，最终通过透射作用于ITO膜基材检测位置上。第一路盖板面环境光投射光线202，是指第一路盖板面环境光入射光线201已透过触摸电容屏盖板面的光线，最终作用于ITO膜基材检测位置上。第二路盖板面环境光入射光线211，是指环境光入射到触摸电容屏盖板面，通过反射作用于ITO膜基材检测位置上。第一路盖板面环境光反射光线212，是指环境光入射光211已通过电容屏盖板面的光线，最终反射作用于ITO膜基材检测位置上。ITO膜基材面环境光反射光线220为有效光线，是指环境光通过ITO膜基材检测位置反射进入透镜成像的光线，是检测触摸电容屏的有效光线。
如图5所示，本实施例中第三路盖板面环境光入射光线301，是指环境光入射到电容屏盖板面，通过透射作用于ITO膜涂层检测位置上。第二路盖板面环境光投射光线302，是指第三路盖板面环境光入射光线301已透过触摸电容屏盖板面的光线，最终作用于ITO膜涂层检测位置上。第四路盖板面环境光入射光线311，是指环境光入射到触摸电容屏盖板面，通过反射作用于ITO膜涂层检测位置上。第二路盖板面环境光反射光线312，是指第四路盖板面环境光入射光线311已通过触摸电容屏盖板面的光线，最终反射作用于ITO膜涂层检测位置上。ITO涂层面环境光反射光线330为有效光线，是指环境光通过ITO膜涂层检测位置反射进入透镜成像的光线，是检测触摸电容屏的有效光线。
如图5所示，本实施例中ITO膜基材检测点22，是指ITO膜在触摸屏蚀刻工艺后，被裸露出来的ITO膜基材。ITO膜基材检测点成像222，是指ITO膜在触摸屏蚀刻工艺后，被裸露出来的ITO膜基材的成像。
ITO涂层检测点33，是指ITO膜在触摸屏蚀刻工艺后所保留的ITO涂层。ITO涂层检测点成像333，是指ITO膜在触摸屏蚀刻工艺后所保留的ITO涂层的成像。
本实施例的检测方法，加强对触摸电容屏ITO层的原像对比，减少对显微镜仪器技术发展的依赖，降低检测成本，满足电容屏行业技术发展需求。
如上所述，尽管参照特定的优选实施例已经表示和表述了本发明，但其不得解释为对本发明自身的限制。在不脱离所附权利要求定义的本发明的精神和范围前提下，可对其在形式上和细节上作出各种变化。
Claims (5)
1.一种触摸屏成像的检测方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤1、将触摸屏置于贴合台面(8)上且触摸屏的盖板(5)面朝上，在触摸屏上对称的两个转角处采用转角支架(7)固定；触摸屏包括柔性线路板(1)、ITO膜基材(2)、ITO涂层(3)、固态光学胶(4)和盖板(5)，ITO膜基材(2)全覆盖在柔性线路板(1)上，ITO涂层(3)部分覆盖在ITO膜基材(2)上，盖板(5)通过固态光学胶(4)设置在ITO涂层(3)上；
步骤2、在步骤1中的盖板(5)上全覆盖抗环境光干扰材料层(6)；
步骤3、取出步骤2中的带动抗环境光干扰材料层(6)的触摸屏；
步骤4、将步骤3中的触摸屏置于显微镜台面上且触摸屏的ITO膜基材(2)面朝上；
步骤5、环境光进入触摸屏，定义触摸屏内在ITO膜基材(2)与固态光学胶(4)之间未覆盖ITO涂层(3)处均为ITO膜基材检测点(22)，定义触摸屏内的在ITO膜基材(2)与固态光学胶(4)之间覆盖有ITO涂层(3)的均为ITO涂层检测点(33)；观察显微镜内的ITO膜基材检测点(22)的ITO膜基材检测点成像(222)和ITO涂层检测点(33)的ITO涂层检测点成像(333)；
步骤6、对比步骤5中的ITO膜基材检测点成像(222)和ITO涂层检测点成像(333)有较高对比度并可清晰成像，完成对触摸屏的检测。
2.如权利要求1所述的触摸屏成像的检测方法，其特征在于，步骤2中的抗环境光干扰材料层(6)为透过率和反射率均小于3％的PE或者PET为基材的膜材。
3.如权利要求1所述的触摸屏成像的检测方法，其特征在于，步骤2中的抗环境光干扰材料层(6)为透过率和反射率均小于3％的油墨材料。
4.如权利要求1所述的触摸屏成像的检测方法，其特征在于，步骤2中的抗环境光干扰材料层(6)为透过率和反射率均小于3％的高分子纳米材料。
5.如权利要求1所述的触摸屏成像的检测方法，其特征在于，盖板(5)的材质为钢化玻璃或PC或PMMA。
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