CN109462009B - 液晶天线基板及其制作方法和液晶天线及其制作方法 - Google Patents

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Abstract

一种液晶天线基板及其制作方法和液晶天线及其制作方法。该液晶天线基板的制作方法包括:在衬底基板上形成导电图案;在导电图案远离衬底基板的一侧涂覆液态光固化材料;以及以导电图案为掩膜从衬底基板远离导电图案的一侧进行曝光,液态光固化材料对应导电图案的部分之外的部分被固化以形成隔垫物。该液晶天线基板的制作方法可降低液晶天线的制作难度和成本,并且还可提高液晶天线产品的良率。

Description

液晶天线基板及其制作方法和液晶天线及其制作方法
技术领域
本公开的实施例涉及一种液晶天线基板及其制作方法和液晶天线及其制作方法。
背景技术
随着通信技术的不断发展,人们对大容量、高传输速度的通讯需求越来越大。液晶天线是一种利用液晶的介电各向异性,通过控制液晶偏转方向来改变移相器的移相大小,从而调节相控阵天线的对准方向的天线。
与传统的喇叭天线、螺旋天线和阵子天线等相比,液晶天线具有小型化、宽频带、多波段以及高增益等特点,是一种更适合当前技术发展方向的天线。
发明内容
本公开实施例提供一种液晶天线基板及其制作方法和液晶天线及其制作方法。该液晶天线基板的制作方法包括:在衬底基板上形成导电图案;在所述导电图案远离所述衬底基板的一侧涂覆液态光固化材料;以及以所述导电图案为掩膜从所述衬底基板远离所述导电图案的一侧进行曝光,所述液态光固化材料对应所述导电图案的部分之外的部分被固化以形成隔垫物。该液晶天线基板的制作方法利用液态光固化材料可通过曝光固化的特性,使用导电图案作为掩膜对液态光固化材料进行曝光,从而形成隔垫物。一方面,该液晶天线基板的制作方法采用对液态光固化材料进行曝光的方式形成隔垫物,不用采用刻蚀等工艺,从而可减少工艺步骤,降低制作难度和成本;另外,该液晶天线基板的制作方法可仅在导电图案所对应的位置设置液晶,可降低液晶的使用量,从而可进一步降低制作成本。另一方面,该液晶天线基板的制作方法也可避免因形成厚度较厚的隔垫物而导致的配向膜涂覆不均的问题,从而可提高液晶天线产品的良率。
本公开至少一个实施例提供一种液晶天线基板的制作方法,其包括:在衬底基板上形成导电图案;在所述导电图案远离所述衬底基板的一侧涂覆液态光固化材料;以及以所述导电图案为掩膜从所述衬底基板远离所述导电图案的一侧进行曝光,所述液态光固化材料对应所述导电图案的部分之外的部分被固化以形成隔垫物。
例如,本公开一实施例提供的液晶天线基板的制作方法还包括在以所述导电图案为掩膜从所述衬底基板远离所述导电图案的一侧进行曝光之后,去除未被固化的所述液态光固化材料。
例如,在本公开一实施例提供的液晶天线基板的制作方法中,去除未被固化的所述液态光固化材料包括:利用溶剂溶解并去除未被固化的所述液态光固化材料。
例如,在本公开一实施例提供的液晶天线基板的制作方法中,所述液态光固化材料包括环氧树脂、稀释剂和光引发剂。
例如,在本公开一实施例提供的液晶天线基板的制作方法中,所述导电图案在所述衬底基板上的正投影与所述隔垫物在所述衬底基板上的正投影形状互补。
例如,在本公开一实施例提供的液晶天线基板的制作方法中,所述导电图案的材料为不透光材料。
例如,在本公开一实施例提供的液晶天线基板的制作方法中,所述隔垫物沿垂直于所述衬底基板的方向的尺寸大于50微米。
例如,本公开一实施例提供的液晶天线基板的制作方法还包括:在所述导电图案远离所述衬底基板的一侧涂覆液态光固化材料之前,在所述导电图案远离所述衬底基板的一侧形成配向膜。
本公开至少一个实施例提供一种液晶天线的制作方法,包括:采用上述任一项所述的液晶天线基板的制作方法制作液晶天线基板;在所述隔垫物之间设置液晶分子材料;以及在所述隔垫物远离所述衬底基板的一侧设置对置基板,所述对置基板包括基板、位于所述基板靠近所述液晶天线基板的一侧的公共电极、以及位于所述基板远离所述液晶天线基板一侧辐射贴片,所述公共电极在所述辐射贴片与所述公共电极的交叠区域具有开孔。
本公开至少一个实施例还提供一种液晶天线基板,其包括:衬底基板;导电图案,位于所述衬底基板上;隔垫物,位于所述导电图案远离所述衬底基板的一侧,所述隔垫物的材料包括光固化材料,所述导电图案在所述衬底基板上的正投影与所述隔垫物在所述衬底基板上的正投影形状互补。
例如,在本公开一实施例提供的液晶天线基板中,所述导电图案包括不透光材料。
例如,在本公开一实施例提供的液晶天线基板中,所述隔垫物沿垂直于所述衬底基板的方向的尺寸大于50微米。
例如,在本公开一实施例提供的液晶天线基板中,其还包括:配向膜,在所述导电图案远离所述衬底基板的一侧。
本公开至少一个实施例还提供一种液晶天线,包括上述的液晶天线基板;对置基板,位于所述隔垫物远离所述衬底基板的一侧;以及液晶层,位于所述衬底基板和所述对置基板之间且位于所述隔垫物之间,所述对置基板包括基板、位于所述基板靠近所述液晶天线基板的一侧的公共电极、以及位于所述基板远离所述液晶天线基板一侧辐射贴片,所述公共电极在所述辐射贴片与所述公共电极的交叠区域具有开孔。
附图说明
为了更清楚地说明本公开实施例的技术方案,下面将对实施例的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅涉及本公开的一些实施例,而非对本公开的限制。
图1为根据本公开一实施例提供的一种液晶天线基板的制作方法的流程图;
图2A-2D为根据本公开一实施例提供的一种液晶天线基板的制作方法的分步示意图;
图3为根据本公开一实施例提供的一种液晶天线基板的平面示意图;
图4A-4B为根据本公开一实施例提供的一种液晶天线的制作方法的分步示意图;
图5为根据本公开一实施例提供的一种液晶天线的立体拆解示意图;以及
图6为根据本公开一实施例提供的一种液晶天线沿图5中BB’方向的剖面示意图。
具体实施方式
为使本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本公开实施例的附图,对本公开实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例是本公开的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于所描述的本公开的实施例,本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都属于本公开保护的范围。
除非另外定义,本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性,而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同,而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接,而是可以包括电性的连接,不管是直接的还是间接的。
目前,由于液晶天线和薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)均包括成膜、曝光、刻蚀、灌注液晶以及对盒及等工艺,因此液晶天线的制作工艺与薄膜晶体管液晶显示器的制作工艺可相互兼容,也就是说,液晶天线可采用制作薄膜晶体管液晶显示器的设备进行制作。然而,由于液晶天线的液晶层较厚,因此液晶天线需要制作较高的隔垫物并且需要更多的液晶材料。而较高的隔垫物制作困难,液晶材料的价格也较高。所以,液晶天线的制作具有较高的难度,并且制作成本也较高。
本公开实施例提供一种液晶天线基板及其制作方法和液晶天线及其制作方法。该液晶天线基板的制作方法包括:在衬底基板上形成导电图案;在所述导电图案远离所述衬底基板的一侧涂覆液态光固化材料;以及以所述导电图案为掩膜从所述衬底基板远离所述导电图案的一侧进行曝光,所述液态光固化材料对应所述导电图案的部分之外的部分被固化以形成隔垫物。该液晶天线基板的制作方法利用液态光固化材料可通过曝光固化的特性,使用导电图案作为掩膜对液态光固化材料进行曝光,从而形成隔垫物。一方面,该液晶天线基板的制作方法采用对液态光固化材料进行曝光的方式形成隔垫物,不需要采用刻蚀等工艺,从而可减少工艺步骤,降低制作难度和成本;另外,该液晶天线基板的制作方法可仅在导电图案所对应的位置设置液晶,可降低液晶的使用量,从而可进一步降低制作成本。另一方面,该液晶天线基板的制作方法也可避免因形成厚度较厚的隔垫物而导致的配向膜涂覆不均的问题,从而可提高产品的良率。
下面结合附图对本公开实施例提供的液晶天线基板及其制作方法和液晶天线及其制作方法进行说明。
本公开一实施例提供一种液晶天线基板的制作方法。图1为根据本公开一实施例提供的一种液晶天线基板的制作方法的流程图。图2A-2D为根据本公开一实施例提供的一种液晶天线基板的制作方法的分步示意图。如图1所示,该液晶天线基板的制作方法包括以下步骤S101-S103。
步骤S101:在衬底基板上形成导电图案。
例如,如图2A所示,在衬底基板110上形成导电图案120。
例如,衬底基板可采用玻璃基板、塑料基板、石英基板等透明基板。导电图案可通过先在衬底基板上形成导电膜层,然后经过图案化工艺形成。导电膜层的材料可选择金属材料,例如,铜、银、金、铝等。
步骤S102:在导电图案远离衬底基板的一侧涂覆液态光固化材料。
例如,如图2B所示,在导电图案120远离衬底基板110的一侧涂覆液态光固化材料130。例如,液态光固化材料可为液态光固化胶。
例如,涂覆的液态光固化材料的量可根据需要形成的隔垫物的高度来确定;当需要形成的隔垫物的高度较高时,涂覆的液态光固化材料的量可较多,当需要形成的隔垫物的高度较低时,涂覆的液态光固化材料的量可相对较少。
步骤S103:以导电图案为掩膜从衬底基板远离导电图案的一侧对液态光固化材料进行曝光,从而使得液态光固化材料对应导电图案的部分之外的部分被固化以形成隔垫物。
例如,如图2C所示,以导电图案120为掩膜从衬底基板110远离导电图案120的一侧对液态光固化材料130进行曝光,例如,可利用紫外光进行曝光。之后,如图2C所示,液态光固化材料130经过曝光的部分132会固化,形成固态光固化材料132,液态光固化材料130未被曝光的部分134保持液态。
在本实施例提供的液晶天线基板的制作方法中,以导电图案为掩膜从衬底基板远离导电图案的一侧对液态光固化材料进行曝光之后,液态光固化材料经过曝光的部分会固化,形成固态光固化材料,液态光固化材料未被曝光的部分保持液态。液态光固化材料对应导电图案的部分未被曝光,液态光固化材料对应导电图案的部分之外的部分被曝光,此时液态光固化材料对应导电图案的部分之外的部分固化,从而可形成固态的隔垫物。该液晶天线基板的制作方法采用对液态光固化材料进行曝光的方式形成隔垫物,不需要采用刻蚀等工艺,从而可减少工艺步骤,降低制作难度和成本,并且上述的曝光过程利用导电图案作为掩膜,也节省了掩膜板,从而进一步降低了制作成本;另外,该液晶天线基板的制作方法可仅在导电图案所对应的位置设置液晶,可降低液晶的使用量,从而可进一步降低制作成本。
例如,在一些示例中,导电图案可包括弯折导电线,弯折导电线可作为液晶天线的信号线。
例如,在一些示例中,该液晶天线基板的制作方法还包括:在以导电图案为掩膜从衬底基板远离导电图案的一侧进行曝光之后,去除未被固化的液态光固化材料。液态光固化材料经过曝光的部分会固化,形成固态光固化材料,液态光固化材料未被曝光的部分保持液态。因此,可简单地去除未被固化的液态光固化材料,使得保留的固态光固化材料形成隔垫物。
例如,如图2D所示,通过去除未被固化的液态光固化材料134,从而可得到固态光固化材料132,即隔垫物132。
例如,在一些示例中,在该液晶天线基板的制作方法中,去除未被固化的液态光固化材料包括:利用溶剂溶解并去除未被固化的液态光固化材料。由此,通过溶剂溶解并去除未被固化的液态光固化材料,对衬底基板上其他的膜层或结构影响较小,有利于提高产品的质量。
例如,在一些示例中,液态光固化材料包括环氧树脂、稀释剂和光引发剂。当然,本公开实施例包括但不限于此,液态光固化材料还可包括助剂,例如,分散剂、稳定剂等。
例如,环氧树脂可为NOA65,稀释剂为丙烯酸异冰片酯,光引发剂为1184光引发剂。
例如,在一些示例中,由于隔垫物是以导电图案为掩膜从衬底基板远离导电图案的一侧对液态光固化材料进行曝光而形成的,所以导电图案在衬底基板上的正投影与隔垫物在衬底基板上的正投影形状互补。因此,在后续设置液晶材料的工艺中,由于隔垫物与导电图案在衬底基板上的正投影形状互补,只需要在导电图案对应的位置设置液晶材料,从而可减少液晶材料的使用量,降低该液晶天线基板的制作成本。需要说明的是,上述的形状互补是指导电图案在衬底基板上的正投影与隔垫物在衬底基板上的正投影互不交叠,并且相互邻接以占据一个完整的区域。
例如,在一些示例中,导电图案包括不透光材料,从而便于作为掩膜。
例如,在一些示例中,隔垫物沿垂直于衬底基板的方向上的尺寸大于50微米。又例如,隔垫物沿垂直于衬底基板的方向上的尺寸大于100微米。
例如,在一些示例中,该液晶天线基板的制作方法还包括:在导电图案远离衬底基板的一侧涂覆液态光固化材料之前,在导电图案远离衬底基板的一侧形成配向膜。需要说明的是,上述的配向膜可为完成配向的配向膜,例如经过摩擦配向的配向膜。由于厚度较高的隔垫物(例如,厚度大于50微米的隔垫物)在后续的涂覆配向膜的工艺中容易导致隔垫物周围的配向膜涂覆不均,而本实施例提供的液晶天线基板的制作方法可在形成配向膜之后再形成隔垫物,从而可避免因形成厚度较厚的隔垫物而导致的配向膜涂覆不均的问题,从而可提高产品的良率。
例如,如图2B所示,在导电图案120远离衬底基板110的一侧涂覆液态光固化材料130之前,在导电图案120远离衬底基板110的一侧形成配向膜140。
例如,配向膜140的材料可包括聚酰亚胺。当然,本公开实施例包括但不限于此。
本公开一实施例还提供一种液晶天线基板。如图2D所示,该液晶天线基板包括衬底基板110;位于衬底基板110上的导电图案120;以及位于导电图案120远离衬底基板110的一侧的隔垫物132。隔垫物132的材料可包括光固化胶,也就是说,隔垫物132采用光固化胶形成。如图3所示,导电图案120在衬底基板110上的正投影与隔垫物132在衬底基板110上的正投影形状互补。
在本公开实施例提供的液晶天线基板中,隔垫物可采用对液态光固化材料进行曝光的方式形成,不用采用刻蚀等工艺,从而可减少工艺步骤,降低制作难度和成本,并且上述的曝光过程可利用导电图案作为掩膜,也节省了掩膜板,从而进一步降低了制作成本;另外,由于隔垫物与导电图案在衬底基板上的正投影形状互补,只需要在导电图案对应的位置设置液晶材料,从而可减少液晶材料的使用量,降低该液晶天线基板的制作成本。
例如,衬底基板可采用玻璃基板、塑料基板、石英基板等透明基板。导电图案可通过先在衬底基板上形成导电膜层,然后经过图案化工艺形成。导电膜层的材料可选择金属材料,例如,铜、银、金、铝等。
图3为根据本公开一实施例提供的一种液晶天线基板的平面示意图。图2D为图3所示的液晶天线基板沿AA’方向的剖面示意图。如图3所示,导电图案120可包括弯折导电线121,例如,蛇形弯折导线121,以作为液晶天线的信号线。
例如,在一些示例中,隔垫物的材料可包括环氧树脂、稀释剂和光引发剂。当然,本公开实施例包括但不限于此,隔垫物的材料还可包括助剂,例如,分散剂、稳定剂等。
例如,在一些示例中,导电图案包括不透光材料,也就是说,导电图案不透明,从而便于作为掩膜。
例如,在一些示例中,隔垫物沿垂直于衬底基板的方向上的尺寸大于50微米。又例如,隔垫物沿垂直于衬底基板的方向上的尺寸大于100微米。
例如,在一些示例中,如图2D所示,该液晶天线基板还包括在导电图案120与隔垫物132之间的配向膜140。需要说明的是,上述的配向膜140可为完成配向的配向膜,例如经过摩擦配向的配向膜。由于厚度较高的隔垫物在后续的涂覆配向膜的工艺中容易导致隔垫物周围的配向膜涂覆不均,而本实施例提供的液晶天线基板可在形成配向膜之后再形成隔垫物,从而可避免因形成厚度较厚的隔垫物而导致的配向膜涂覆不均的问题,从而可提高产品的良率。
例如,配向膜140的材料可包括聚酰亚胺。当然,本公开实施例包括但不限于此。
本公开至少一个实施例还提供一种液晶天线的制作方法。图4A-4B为本公开一实施例提供的一种液晶天线的制作方法的分步示意图。该液晶天线的制作方法包括:采用上述任一项的液晶天线基板的制作方法制作液晶天线基板;在隔垫物之间设置液晶分子材料;以及在隔垫物远离衬底基板的一侧设置对置基板,对置基板包括基板、位于基板靠近液晶天线基板的一侧的公共电极、以及位于基板远离液晶天线基板一侧辐射贴片,公共电极在辐射贴片与公共电极的交叠区域具有开孔。在隔垫物远离衬底基板的一侧设置的对置基板将液晶分子材料密封在衬底基板与对置基板之间。例如,该液晶天线的制作方法所制作的液晶天线可利用液晶分子材料的介电各向异性,通过导电图案控制液晶偏转方向来改变移相器的移相大小,从而调节相控阵天线的对准方向。
例如,如图4A所示,在隔垫物132之间设置液晶分子材料以形成液晶层150。例如,如图4B所示,在隔垫物132远离衬底基板110的一侧设置对置基板190。
例如,如图4B所示,对置基板190包括基板191、位于基板191靠近液晶天线基板的一侧的公共电极192、以及位于基板191远离液晶天线基板一侧辐射贴片195,公共电极192在辐射贴片195与导电图案120的交叠区域具有开孔1920,以使电磁波信号可以从辐射贴片195发射出去。
例如,在一些示例中,该液晶天线基板的制作方法还包括:提供对置基板。提供对置基板可包括:在基板上形成公共电极;在公共电极远离基板的一侧形成配向膜,从而形成对置基板;以及在基板远离公共电极的一侧形成辐射贴片。
本公开一实施例还提供一种液晶天线。图5为根据本公开一实施例提供的一种液晶天线的立体拆解示意图。图6为根据本公开一实施例提供的一种液晶天线掩图5中BB’方向的剖面示意图。如图5所示,该液晶天线包括上述的液晶天线基板100;对置基板190,位于隔垫物132远离衬底基板110的一侧;以及液晶层150,位于衬底基板110和对置基板190之间且位于隔垫物132之间,对置基板190包括基板191、位于基板191靠近液晶天线基板100的一侧的公共电极192、以及位于基板191远离液晶天线基板100一侧辐射贴片195,公共电极192在辐射贴片195与导电图案120的交叠区域具有开孔1920。
例如,该液晶天线可利用液晶分子材料的介电各向异性,通过导电图案控制液晶偏转方向来改变移相器的移相大小,从而调节相控阵天线的对准方向。
例如,在一些示例中,如图6所示,对置基板190包括基板191、基板191上的公共电极图案192、以及在公共电极图案192远离基板191的一侧的配向膜193。配向膜140和配向膜193可共同对液晶层150中的液晶分子进行配向。
有以下几点需要说明:
(1)本公开实施例附图中,只涉及到与本公开实施例涉及到的结构,其他结构可参考通常设计。
(2)在不冲突的情况下,本公开同一实施例及不同实施例中的特征可以相互组合。
以上,仅为本公开的具体实施方式,但本公开的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本公开揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本公开的保护范围之内。因此,本公开的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

Claims (11)

1.一种液晶天线基板的制作方法,包括:
在衬底基板上形成导电图案;
在所述导电图案远离所述衬底基板的一侧涂覆液态光固化材料;以及
以所述导电图案为掩膜从所述衬底基板远离所述导电图案的一侧对液态光固化材料进行曝光,
其中,所述液态光固化材料对应所述导电图案的部分之外的部分被固化以形成隔垫物,所述导电图案包括弯折导电线,所述弯折导电线在所述衬底基板上的正投影与所述隔垫物在所述衬底基板上的正投影形状互补,
所述制作方法还包括:在所述导电图案远离所述衬底基板的一侧涂覆液态光固化材料之前,在所述导电图案远离所述衬底基板的一侧形成配向膜。
2.根据权利要求1所述的液晶天线基板的制作方法,还包括:
在以所述导电图案为掩膜从所述衬底基板远离所述导电图案的一侧进行曝光之后,去除未被固化的所述液态光固化材料。
3.根据权利要求2所述的液晶天线基板的制作方法,其中,去除未被固化的所述液态光固化材料包括:
利用溶剂溶解并去除未被固化的所述液态光固化材料。
4.根据权利要求1-3中任一项所述的液晶天线基板的制作方法,其中,所述液态光固化材料包括环氧树脂、稀释剂和光引发剂。
5.根据权利要求1-3中任一项所述的液晶天线基板的制作方法,其中,所述导电图案的材料为不透光材料。
6.根据权利要求1-3中任一项所述的液晶天线基板的制作方法,其中,所述隔垫物沿垂直于所述衬底基板的方向的尺寸大于50微米。
7.一种液晶天线的制作方法,包括:
采用根据权利要求1-6中任一项所述的液晶天线基板的制作方法制作液晶天线基板;
在所述隔垫物之间设置液晶分子材料;以及
在所述隔垫物远离所述衬底基板的一侧设置对置基板,
其中,所述对置基板包括基板、位于所述基板靠近所述液晶天线基板的一侧的公共电极、以及位于所述基板远离所述液晶天线基板一侧辐射贴片,所述公共电极在所述辐射贴片与所述导电图案的交叠区域具有开孔。
8.一种液晶天线基板,包括:
衬底基板;
导电图案,位于所述衬底基板上;
隔垫物,位于所述导电图案远离所述衬底基板的一侧,
其中,所述隔垫物的材料包括光固化材料,所述导电图案包括弯折导电线,所述弯折导电线在所述衬底基板上的正投影与所述隔垫物在所述衬底基板上的正投影形状互补,
所述液晶天线基板,还包括:配向膜,在所述导电图案与所述隔垫物之间。
9.根据权利要求8所述的液晶天线基板,其中,所述导电图案的材料为不透光材料。
10.根据权利要求8所述的液晶天线基板,其中,所述隔垫物沿垂直于所述衬底基板的方向的尺寸大于50微米。
11.一种液晶天线,包括:
根据权利要求8所述的液晶天线基板;
对置基板,位于所述隔垫物远离所述衬底基板的一侧;以及
液晶层,位于所述衬底基板和所述对置基板之间且位于所述隔垫物之间,
其中,所述对置基板包括基板、位于所述基板靠近所述液晶天线基板的一侧的公共电极、以及位于所述基板远离所述液晶天线基板一侧辐射贴片,所述公共电极在所述辐射贴片与所述导电图案的交叠区域具有开孔。
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