CN109440087A - 一种12管高产能pecvd设备 - Google Patents

一种12管高产能pecvd设备 Download PDF

Info

Publication number
CN109440087A
CN109440087A CN201811571879.XA CN201811571879A CN109440087A CN 109440087 A CN109440087 A CN 109440087A CN 201811571879 A CN201811571879 A CN 201811571879A CN 109440087 A CN109440087 A CN 109440087A
Authority
CN
China
Prior art keywords
fixedly connected
heating furnace
furnace body
production capacity
push
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201811571879.XA
Other languages
English (en)
Inventor
崔慧敏
林罡
王鹏
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ideal semiconductor equipment (Shanghai) Co., Ltd
Original Assignee
Wuxi Huayuan Jingdian Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Wuxi Huayuan Jingdian Technology Co Ltd filed Critical Wuxi Huayuan Jingdian Technology Co Ltd
Priority to CN201811571879.XA priority Critical patent/CN109440087A/zh
Publication of CN109440087A publication Critical patent/CN109440087A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/50—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
    • C23C16/513—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges using plasma jets

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

本发明公开了一种12管高产能PECVD设备，包括气源柜、主机和工作台框架，气源柜的右侧与主机的左侧固定连接，主机的右侧与工作台框架表面的一侧固定连接，工作台框架的顶部固定连接有加热炉体，加热炉体的表面活动连接有真空炉门机构，加热炉体的表面固定连接有自动控制系统，本发明涉及太阳能电池技术领域。该12管高产能PECVD设备，通过加热炉体、自动送取料系统和推拉舟使得载有待镀膜晶片的石墨舟传送给上下料机械手，通过这个全自动机械手的精准定位，把石墨舟放到每管对应的推拉舟上，然后再由推拉舟送入工艺管内，晶片在工艺管内，通过密封炉门机构和真空系统，达到所需要的工艺真空度，然后通入工艺气体。

Description

一种12管高产能PECVD设备
技术领域
本发明涉及太阳能电池技术领域，具体为一种12管高产能PECVD设备。
背景技术
PECVD是指等离子体增强化学的气相沉积法，是太阳能电池片中比较重要的工序，也是体现一个企业太阳能电池片效率的一个重要指标。镀膜技术是整个光伏行业比较重视的技术，太阳能电池的效率提升可以通过镀膜技术的提升来实现。光在硅表面的反射损失率高达35%左右，减反膜可以极高地提高电池片对太阳光的利用率，提高光电转换效率。
PECVD 是指等离子体增强化学的气相沉积法，是太阳能电池片中比较重要的工序，现在的设备生产状态下，原先的设备量已经无法满足产能的需求。而通过增加设备数量来提高产能，又会带来占地面积的问题，并且大多数电池片生产厂家的设备用地已经达到饱和，在这种情况下，提高设备本身的产能就成了迫切的需求。
发明内容
针对现有技术的不足，本发明提供了一种12管高产能PECVD设备，解决了原先设备量已经无法满足产能需求的问题。
为实现以上目的，本发明通过以下技术方案予以实现：一种12管高产能PECVD设备12管高产能PECVD设备，包括气源柜、主机和工作台框架，所述气源柜的右侧与主机的左侧固定连接，所述主机的右侧与工作台框架表面的一侧固定连接，所述工作台框架的顶部固定连接有加热炉体，所述加热炉体的表面活动连接有真空炉门机构，所述加热炉体的表面固定连接有自动控制系统，所述加热炉体内壁的底部固定连接有工作台，所述加热炉体内壁底部的两侧均活动连接有自动送取料系统，所述加热炉体的内部活动连接有推拉舟，所述加热炉体内壁的一侧固定连接有间歇台，所述加热炉体内壁的一侧活动连接有上下料机械手。
优选的，所述推拉舟包括外框，所述外框内壁的两侧均固定连接有滑动轨道板，所述滑动轨道板的内表面活动连接有滚动轮。
优选的，所述滚动轮的表面固定连接有限位环板，所述滚动轮的轴心处固定连接有移动杆。
优选的，所述移动杆的底部活动连接有支撑板，所述移动杆的表面活动连接有稳定块，所述稳定块的内部安装有驱动设备。
优选的，所述稳定块的顶部通过旋转轴转动连接有推拉臂，所述推拉臂的一端固定连接有接触块。
优选的，所述加热炉体内部工作时保持工艺气体内的压力恒定在需求数值。
有益效果
本发明提供了一种12管高产能PECVD设备。与现有技术相比具备以下有益效果：
（1）、该12管高产能PECVD设备，通过工作台框架的顶部固定连接有加热炉体，加热炉体的表面活动连接有真空炉门机构，加热炉体的表面固定连接有自动控制系统，加热炉体内壁的底部固定连接有工作台，加热炉体内壁底部的两侧均活动连接有自动送取料系统，加热炉体的内部活动连接有推拉舟，加热炉体内壁的一侧固定连接有间歇台，加热炉体内壁的一侧活动连接有上下料机械手，通过加热炉体、自动送取料系统和推拉舟使得载有待镀膜晶片的石墨舟传送给上下料机械手，通过这个全自动机械手的精准定位，把石墨舟放到每管对应的推拉舟上，然后再由推拉舟送入工艺管内，晶片在工艺管内，通过密封炉门机构和真空系统，达到所需要的工艺真空度，然后通入工艺气体，在此过程中，控制系统发挥着大脑的指挥作用，通过一整套严密的闭环控制软件，使得镀膜工艺能够保持在稳定的低压环境。
（2）、该12管高产能PECVD设备，通过外框内壁的两侧均固定连接有滑动轨道板，滑动轨道板的内表面活动连接有滚动轮，滚动轮的表面固定连接有限位环板，滚动轮的轴心处固定连接有移动杆，移动杆的底部活动连接有支撑板，移动杆的表面活动连接有稳定块，稳定块的顶部通过旋转轴转动连接有推拉臂，推拉臂的一端固定连接有接触块，通过推拉舟、滑动轨道板、移动杆和稳定块的设置，推拉舟机构不仅有横向进出机构，还增加了水平传动系统，使得此送料机构在每层的两根管之间的移动，以达到送取料的目的，推拉舟机构不仅有横向进出机构，还增加了水平传动系统，使得此送料机构在每层的两根管之间的移动，以达到送取料的目的，在此基础上，两列工艺管可以共用工作台的送取料系统，这样在很大幅度上降低了晶片的生产成本，给企业带来更高的效益。
附图说明
图1为本发明结构的主视图；
图2为本发明结构的侧视图；
图3为本发明推拉舟结构的俯视图；
图4为本发明滚动轮结构的剖视图。
图中：1-气源柜、2-主机、3-工作台框架、4-加热炉体、5-真空炉门机构、6-自动控制系统、7-工作台、8-自动送取料系统、9-推拉舟、91-外框、92-滑动轨道板、93-滚动轮、94-限位环板、95-移动杆、96-支撑板、97-稳定块、98-推拉臂、99-接触块、10-间歇台、11-上下料机械手。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
请参阅图1-4，本发明提供一种技术方案：一种12管高产能PECVD设备，包括气源柜1、主机2和工作台框架3，气源柜1的右侧与主机2的左侧固定连接，主机2的右侧与工作台框架3表面的一侧固定连接，工作台框架3的顶部固定连接有加热炉体4，加热炉体4的表面活动连接有真空炉门机构5，加热炉体4的表面固定连接有自动控制系统6，加热炉体4内壁的底部固定连接有工作台7，加热炉体4内壁底部的两侧均活动连接有自动送取料系统8，加热炉体4的内部活动连接有推拉舟9，加热炉体4内壁的一侧固定连接有间歇台10，通过推拉舟9、滑动轨道板92、移动杆95和稳定块97的设置，推拉舟9机构不仅有横向进出机构，还增加了水平传动系统，使得此送料机构在每层的两根管之间的移动，以达到送取料的目的，推拉舟9机构不仅有横向进出机构，还增加了水平传动系统，使得此送料机构在每层的两根管之间的移动，以达到送取料的目的，加热炉体4内壁的一侧活动连接有上下料机械手11，推拉舟9包括外框91，外框91内壁的两侧均固定连接有滑动轨道板92，滑动轨道板92的内表面活动连接有滚动轮93，滚动轮93的表面固定连接有限位环板94，滚动轮93的轴心处固定连接有移动杆95，移动杆95的底部活动连接有支撑板96，移动杆95的表面活动连接有稳定块97，稳定块97的内部安装有驱动设备，驱动设备可以带动稳定块在滑动轨道板92内移动，在移动杆95表面移动，稳定块97的顶部通过旋转轴转动连接有推拉臂98，推拉臂98的一端固定连接有接触块99，加热炉体4内部工作时保持工艺气体内的压力恒定在需求数值。
工作时，将装置调节稳定，自动送取料系统8安装在工作台7上，其功能就是把载有待镀膜晶片的石墨舟传送给上下料机械手11，通过这个全自动机械手的精准定位，把石墨舟放到每管对应的推拉舟9上，然后再由推拉舟9送入工艺管内，晶片在工艺管内，通过真空炉门机构5和真空系统，达到所需要的工艺真空度，然后通入工艺气体，在此过程中，自动控制系统6发挥着大脑的指挥作用，通过一整套严密的闭环控制软件，使得镀膜工艺保持在稳定的低压环境。工艺结束后，由推拉舟9把石墨舟从工艺管中取出，然后由上下料机械手11把高温石墨舟放置在间歇台10，并由循环风冷系统进行冷却，待到合适温度后，由自动送取料系统8传送出工作台，然后可以进行取石墨舟程序，工艺结束后，经过对工艺腔体解压后，打开加热炉体4表面的真空炉门机构5，然后由自动送取料系统8把石墨舟取出。
需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (6)

1.一种12管高产能PECVD设备，包括气源柜（1）、主机（2）和工作台框架（3），其特征在于：所述气源柜（1）的右侧与主机（2）的左侧固定连接，所述主机（2）的右侧与工作台框架（3）表面的一侧固定连接，所述工作台框架（3）的顶部固定连接有加热炉体（4），所述加热炉体（4）的表面活动连接有真空炉门机构（5），所述加热炉体（4）的表面固定连接有自动控制系统（6），所述加热炉体（4）内壁的底部固定连接有工作台（7），所述加热炉体（4）内壁底部的两侧均活动连接有自动送取料系统（8），所述加热炉体（4）的内部活动连接有推拉舟（9），所述加热炉体（4）内壁的一侧固定连接有间歇台（10），所述加热炉体（4）内壁的一侧活动连接有上下料机械手（11）。
2.根据权利要求1所述的一种12管高产能PECVD设备，其特征在于：所述推拉舟（9）包括外框（91），所述外框（91）内壁的两侧均固定连接有滑动轨道板（92），所述滑动轨道板（92）的内表面活动连接有滚动轮（93）。
3.根据权利要求2所述的一种12管高产能PECVD设备，其特征在于：所述滚动轮（93）的表面固定连接有限位环板（94），所述滚动轮（93）的轴心处固定连接有移动杆（95）。
4.根据权利要求3所述的一种12管高产能PECVD设备，其特征在于：所述移动杆（95）的底部活动连接有支撑板（96），所述移动杆（95）的表面活动连接有稳定块（97），所述稳定块（97）的内部安装有驱动设备。
5.根据权利要求4所述的一种12管高产能PECVD设备，其特征在于：所述稳定块（97）的顶部通过旋转轴转动连接有推拉臂（98），所述推拉臂（98）的一端固定连接有接触块（99）。
6.根据权利要求1所述的一种12管高产能PECVD设备，其特征在于：所述加热炉体（4）内部工作时保持工艺气体内的压力恒定在需求数值。
CN201811571879.XA 2018-12-21 2018-12-21 一种12管高产能pecvd设备 Pending CN109440087A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201811571879.XA CN109440087A (zh) 2018-12-21 2018-12-21 一种12管高产能pecvd设备

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201811571879.XA CN109440087A (zh) 2018-12-21 2018-12-21 一种12管高产能pecvd设备

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN109440087A true CN109440087A (zh) 2019-03-08

Family

ID=65534873

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201811571879.XA Pending CN109440087A (zh) 2018-12-21 2018-12-21 一种12管高产能pecvd设备

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN109440087A (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110184590A (zh) * 2019-06-26 2019-08-30 苏州卫鹏机电科技有限公司 翻转滑动式腔门结构、等离子真空腔体及等离子处理设备

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102061456A (zh) * 2010-10-29 2011-05-18 华南理工大学 一种用于pecvd装置的悬臂式推拉舟系统
CN202332927U (zh) * 2011-11-18 2012-07-11 青岛赛瑞达电子科技有限公司 分体式pecvd及扩散设备架
CN107039324A (zh) * 2017-04-14 2017-08-11 东莞市启天自动化设备股份有限公司 一种全自动管式pecvd上下料机及方法
CN107283402A (zh) * 2017-08-04 2017-10-24 深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司 可精确控制伸缩量的机械手及多管反应室上舟系统
CN209537623U (zh) * 2018-12-21 2019-10-25 无锡华源晶电科技有限公司 一种12管高产能pecvd设备

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102061456A (zh) * 2010-10-29 2011-05-18 华南理工大学 一种用于pecvd装置的悬臂式推拉舟系统
CN202332927U (zh) * 2011-11-18 2012-07-11 青岛赛瑞达电子科技有限公司 分体式pecvd及扩散设备架
CN107039324A (zh) * 2017-04-14 2017-08-11 东莞市启天自动化设备股份有限公司 一种全自动管式pecvd上下料机及方法
CN107283402A (zh) * 2017-08-04 2017-10-24 深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司 可精确控制伸缩量的机械手及多管反应室上舟系统
CN209537623U (zh) * 2018-12-21 2019-10-25 无锡华源晶电科技有限公司 一种12管高产能pecvd设备

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110184590A (zh) * 2019-06-26 2019-08-30 苏州卫鹏机电科技有限公司 翻转滑动式腔门结构、等离子真空腔体及等离子处理设备

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN202090053U (zh) 太阳光谱选择性吸收涂层卷对卷连续镀膜生产线
CN101872807A (zh) 太阳能光伏组件背板生产方法及生产设备
CN209537623U (zh) 一种12管高产能pecvd设备
CN101851748A (zh) 全自动大型平板pecvd氮化硅覆膜制备系统
CN109440087A (zh) 一种12管高产能pecvd设备
CN109440085A (zh) 一种10管高产能pecvd设备
CN204939599U (zh) 一种大型立式不锈钢长管离子镀膜设备
CN108164259B (zh) 物料排胶和烧结生产线
CN107799448A (zh) 太阳能电池片抗光衰设备及其上下料系统和上下料方法
CN207716862U (zh) 锂电池材料箱式烧结炉
CN201386135Y (zh) 一种全自动大型平板pecvd氮化硅覆膜制备系统
CN202792872U (zh) 室式干燥室干燥能量自动控制装置
CN201678731U (zh) 一种平板pecvd氮化硅覆膜的系统
CN209568142U (zh) 一种10管高产能pecvd设备
CN110394881A (zh) 一种发泡陶瓷模具以及发泡陶瓷边围板取放装置
CN201655831U (zh) 一种平板pecvd氮化硅覆膜系统
CN215695534U (zh) 一种喷粉生产线用智能控温粉末固化烘道
CN103469160A (zh) 远红外线能量发热管专用生产设备
CN108091722B (zh) 一种自动上下料及自动翻片系统及其工作方法
CN213866409U (zh) 立式光伏电池钝化沉积装置
CN212476523U (zh) 薄膜太阳能电池钢化炉
CN207208802U (zh) 一种光伏组件升降存放系统
CN203934375U (zh) 光伏地下降温仓库
CN202131362U (zh) Low-E玻璃的真空镀膜操作中将基片输入负压室的系统
CN212093053U (zh) 一种桌面级薄膜刮涂机

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
TA01 Transfer of patent application right

Effective date of registration: 20210531

Address after: Room 402, building 3, 3255 Sixian Road, Songjiang District, Shanghai

Applicant after: Ideal semiconductor equipment (Shanghai) Co., Ltd

Address before: 214000 rooms 101 and 201, building 12 (B3), Wuxi Zhongguancun Software Park, Xinwu District, Wuxi City, Jiangsu Province

Applicant before: WUXI HUAYUAN JIANDIAN TECHNOLOGY Co.,Ltd.

TA01 Transfer of patent application right