CN109406899A - 主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试方法、装置及系统 - Google Patents

Abstract

本发明实施例公开了一种主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试系统、方法、装置、设备及计算机可读存储介质。其中，系统包括电磁信号产生装置、金属箱体及电磁屏蔽效能计算装置。电磁信号产生装置产生预设强度电磁波信号，并将电磁波信号辐照至金属箱体的窗口处；金属箱体为具有安装光学玻璃的窗口的全封闭箱体结构，光学玻璃上设置待测透光屏蔽薄膜；透光屏蔽薄膜的面积不小于光学玻璃的面积以覆盖光学玻璃；电磁屏蔽效能计算装置用于采集经待测透光屏蔽薄膜屏蔽后金属箱体内的电磁波信号强度，并计算其与不经待测透光屏蔽薄膜的金属箱体内电磁波信号强度的比值，作为待测透光屏蔽薄膜的屏蔽效能值。本申请实现了对透光屏蔽薄膜屏蔽效能的准确测试。

Description

主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试方法、装置及系统

技术领域

本发明实施例涉及电磁兼容技术领域，特别是涉及一种主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试系统、方法、装置、设备及计算机可读存储介质。

背景技术

随着电子技术的发展，空间环境中的电磁环境越来越复杂，既包括各种电子设备工作过程中发射的无意电磁辐射，也包括各种人为的、有意的、对抗性的因素引起的电磁干扰，甚至在极端情况下会出现电磁脉冲、高功率微波等毁伤性电磁辐射干扰。复杂的电磁环境会对该环境中的电子设备产生干扰甚至毁伤，为了解决电磁干扰的问题，电磁屏蔽技术应运而生。

电磁屏蔽技术通过切断电磁波的传播途径，从而消除电磁干扰，实现有效的电磁防护。但对于光学成像类设备，由于光学窗具有电磁透明性，电磁波能够基本无阻碍的传输至设备内部，造成干扰，鉴于此，透光屏蔽薄膜成为光学成像类设备的有效电磁防护手段。

在这种背景下，研究透光屏蔽薄膜电磁屏蔽效能的测量方法能够有效评价其性能，相关技术一般通过将透光屏蔽薄膜安装于玻璃窗口后置于收发天线间进行屏蔽效能测量。

但是，直接将透光屏蔽薄膜置于开放环境中的天线之间，由于电磁波的绕射等特性，这种方法只能屏蔽中心点附件的电磁屏蔽效能，测量结果有较大的误差，且测量结果反映的为透光屏蔽薄膜材料本身的屏蔽效能，但是透光屏蔽薄膜材料需要安装于实际的光学成像类设备中，测量结果无法评估应用场景下的屏蔽效能。

发明内容

本公开实施例提供了一种主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试系统、方法、装置、设备及计算机可读存储介质，实现了对透光屏蔽薄膜屏蔽效能的准确测试。

为解决上述技术问题，本发明实施例提供以下技术方案：

本发明实施例一方面提供了一种主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试系统，包括电磁信号产生装置、金属箱体及电磁屏蔽效能计算装置；

所述电磁信号产生装置用于产生预设强度电磁波信号，并将所述电磁波信号辐照至所述金属箱体的窗口处；

所述金属箱体为具有安装光学玻璃的窗口的全封闭箱体结构，所述光学玻璃上设置待测透光屏蔽薄膜；所述待测透光屏蔽薄膜的面积不小于所述光学玻璃的面积，以覆盖所述光学玻璃；

所述电磁屏蔽效能计算装置用于采集经所述待测透光屏蔽薄膜屏蔽后所述金属箱体内的电磁波信号强度，并计算其与不经所述待测透光屏蔽薄膜的所述金属箱体内电磁波信号强度的比值，作为所述待测透光屏蔽薄膜的屏蔽效能值。

可选的，所述电磁信号产生装置包括信号发生器、功率放大器及发射天线；

所述信号发生器将产生的信号通过所述功率放大器放大后，馈入所述发射天线的输入端，以使所述发射天线产生电磁波信号辐照至所述窗口处。

可选的，所述电磁屏蔽效能计算装置包括电场强度采集器、场强监视器和效能计算器；

所述电场强度采集器设置在所述金属箱体内部，用于采集所述电磁波信号透射进入所述金属箱体内部的电场强度；

所述场强监视器与所述电场强度采集器相连，用于实时接收所述电场强度采集器发送的电场强度信息；

所述效能计算器用于根据接收到的电场强度信息计算所述待测透光屏蔽薄膜的屏蔽效能值。

可选的，所述效能计算器用于根据下述公式计算所述待测透光屏蔽薄膜的屏蔽效能值：

SE＝E₀/E₁；

式中，SE为所述屏蔽效能值，E₀为设置有所述待测透光屏蔽薄膜的金属箱体内预设位置处的电场强度，E₁为不加所述待测透光屏蔽薄膜的金属箱体内所述预设位置处的电场强度。

可选的，所述电场强度采集器为电场测量探头。

可选的，所述效能计算器还包括电场强度存储器，用于存储所述场强监视器发送的电场强度信息。

本发明实施例另一方面提供了一种主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试方法，包括：

获取电磁波信号辐照至金属箱体内，在预设位置处的第一电场强度值；

获取所述电磁波信号经设置有透光屏蔽薄膜的窗口透射至所述金属箱体内后，在所述预设位置处的第二电场强度值；

计算所述第一电场强度值和所述第二电场强度值的比值，作为所述待测透光屏蔽薄膜的屏蔽效能值；

其中，所述金属箱体为具有安装光学玻璃的窗口的全封闭箱体结构，所述待测透光屏蔽薄膜的面积不小于所述光学玻璃的面积，以覆盖所述光学玻璃。

本发明实施例还提供了一种主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试装置，包括：

原始电磁波强度值获取模块，用于获取电磁波信号辐照至金属箱体内，在预设位置处的第一电场强度值，所述金属箱体为具有安装光学玻璃的窗口的全封闭箱体结构；

电磁屏蔽后的电磁波强度值获取模块，用于获取所述电磁波信号经设置有透光屏蔽薄膜的窗口透射至所述金属箱体内后，在所述预设位置处的第二电场强度值，所述待测透光屏蔽薄膜的面积不小于所述光学玻璃的面积，以覆盖所述光学玻璃；

屏蔽效能计算模块，用于计算所述第一电场强度值和所述第二电场强度值的比值，作为所述待测透光屏蔽薄膜的屏蔽效能值。

本发明实施例还提供了一种主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试设备，包括处理器，所述处理器用于执行存储器中存储的计算机程序时实现如前任一项所述主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试方法的步骤。

本发明实施例最后还提供了一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质上存储有主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试程序，所述主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试程序被处理器执行时实现如前任一项所述主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试方法的步骤。

本申请提供的技术方案的优点在于，在进行透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试时，将透光屏蔽薄膜设置在金属箱体的光学窗口上并完全覆盖光学窗口，形成封闭环境。将电磁波信号辐照至该金属箱体光学窗口处，电磁波信号经光学窗口上的透光屏蔽薄膜后进入箱体内部，采集箱体内部任意位置处的电磁波强度。由于是在封闭环境中采集经透光屏蔽薄膜屏蔽后的电磁波强度，该强度可准确反映透光屏蔽薄膜的屏蔽效果，不受外部环境干扰，且可避免电磁波绕射特性导致的一些问题，大幅简化数据计算量，有利于提升透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试效率，最后通过对比相同条件下不设置透光屏蔽薄膜的箱体内部的电磁波强度，计算透光屏蔽薄膜的屏蔽性能，提高了透光屏蔽薄膜屏蔽性能测试的准确度和精度。

此外，本发明实施例还针对主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试系统还提供了相对应的测试方法、装置、设备及计算机可读存储介质，进一步使得所述方法更具有实用性，所述方法、装置、设备及计算机可读存储介质具有相应的优点。

应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性的，并不能限制本公开。

附图说明

为了更清楚的说明本发明实施例或相关技术的技术方案，下面将对实施例或相关技术描述中所需要使用的附图作简单的介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本公开根据一示例性实施例示出的一种主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试系统结构示意图；

图2为本公开根据另一示例性实施例示出的一种主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试系统结构示意图；

图3为本发明实施例提供的一种主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试方法的流程示意图；

图4为本发明实施例提供的主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试装置的一种具体实施方式结构图。

具体实施方式

为了使本技术领域的人员更好地理解本发明方案，下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步的详细说明。显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本申请的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”、“第三”“第四”等是用于区别不同的对象，而不是用于描述特定的顺序。此外术语“包括”和“具有”以及他们任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。例如包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备没有限定于已列出的步骤或单元，而是可包括没有列出的步骤或单元。

在介绍了本发明实施例的技术方案后，下面详细的说明本申请的各种非限制性实施方式。

首先请参阅图1，图1为本发明实施例提供的一种主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试系统结构框图，本发明实施例可包括以下内容：

主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试系统可包括电磁信号产生装置1、金属箱体2及电磁屏蔽效能计算装置3。

电磁信号产生装置1用于产生预设强度电磁波信号，电磁波信号的强度可根据实际应用场景和选择的电磁信号产生装置的硬件参数进行确定，这均不影响本申请的实现。

调整电磁信号产生装置1和金属箱体2空间位置关系，使其出射的电磁波信号辐照至金属箱体2的窗口处。

在一种具体的实施方式中，请参阅图2，电磁信号产生装置1可包括信号发生器11、功率放大器12及发射天线13，其中，信号发生器11与功率放大器12相连，功率放大器12与发射天线13相连。

信号发生器11用于提供各种频率、波形和输出电平电信号，可采用任何一种可实现上述功能的设备，本申请对此不作任何限制。

功率放大器12用于接收信号发生器11出射的电信号，并将其放大后馈入发射天线13的输入端。功率放大器12可为任何一种可将电信号功率放大的设备，这均不影响本申请的实现。

发射天线13将传输线上的电信号，基于电磁感应原理，转化为无界媒介(通常是自由空间)电磁波进行传播。发射天线13可为任何一种将高频电流转化为电磁波的设备，本申请对此不做任何限定。调整发射天线13的位置，使其发射的电磁波辐照至金属箱体2的窗口处。

金属箱体2用于提供封闭的测试环境，其可为具有安装光学玻璃的窗口的全封闭箱体结构，可使用任何一种金属组合或焊接为金属箱体2，窗口可设置在金属箱体2的任何一个表面上，窗口的面积可进行随意选择，这均不影响本申请的实现。

金属箱体2的窗口上安装光学玻璃，光学玻璃的尺寸和窗口的尺寸相匹配，光学玻璃上设置待测透光屏蔽薄膜，透光屏蔽薄膜的面积不小于光学玻璃的面积，待测透光屏蔽薄膜的边缘部分需要与金属箱体2完整搭接，使得待测透光屏蔽薄膜完全覆盖光学玻璃，以保证整个金属箱体2结构的封闭性。金属箱体2作为有开孔的电磁屏蔽体，且在箱体不设置其他任何一种材料(例如吸波材料)，可真实、准确的模拟实际工程条件(例如航天、航空领域)中的光学设备的透明屏蔽薄膜的屏蔽效能。

电磁屏蔽效能计算装置3用于采集经待测透光屏蔽薄膜屏蔽后金属箱体内的电磁波信号强度，并计算其与不经待测透光屏蔽薄膜的金属箱体内电磁波信号强度的比值，作为待测透光屏蔽薄膜的屏蔽效能值。

待测透光屏蔽薄膜屏蔽的屏蔽效能可预先进行定义，例如可为针对同一强度的电磁波信号辐照至金属箱体2后，对同一个金属箱体2在设置待测透光屏蔽薄膜和不设置待测透光屏蔽薄膜两种应用场景中，分别采集同一位置处的电场强度，利用这两种应用场景下的电场强度的比值作为反映待测透光屏蔽薄膜屏蔽性能的值。当然，也可采用其他定义方法，例如采集设置待测透光屏蔽薄膜的金属箱体2内部任意一点的电场强度值，然后采集电磁波信号在该金属箱体2外部(例如距离窗口1cm的位置处)的电场强度值，利用这两个值的比值衡量待测透光屏蔽薄膜屏蔽性能。

电磁屏蔽效能计算装置3包括电场强度采集装置和计算装置共同实现对待测透光屏蔽薄膜屏蔽效能的测试。可选的，请参阅图2，电磁屏蔽效能计算装置3可包括电场强度采集器31、场强监视器32和效能计算器33，其中，电场强度采集器31与场强监视器32相连，场强监视器32和效能计算器33相连。

电场强度采集器31用于采集电磁波信号透射进入金属箱体内部任意一点处的电场强度，例如可为电场测量探头，故其可设置在金属箱体2内部。当然，电场强度采集器31可为任何一种实现电信号强度采集功能的设备，这均不影响本申请的实现。

场强监视器32用于实时接收电场强度采集器发送的电场强度信息，并将其接收到的电场强度信息发送至效能计算器33进行计算，也可直至发送至电场强度存储器34中进行存储。电场强度存储器34当然，还可存储效能计算器33的计算结果，为了避免场强监视器32和对效能计算器33对电场强度采集器31采集的信号产生干扰，可将强监视器32和对效能计算器33设置在金属箱体2之外。

效能计算器33用于根据接收到的电场强度信息计算待测透光屏蔽薄膜的屏蔽效能值，效能计算器33可为计算机或笔记本电脑或任何一种带有处理器的智能设备，可根据下述公式计算待测透光屏蔽薄膜的屏蔽效能值：

SE＝E₀/E₁；

式中，SE为屏蔽效能值，E₀为设置有待测透光屏蔽薄膜的金属箱体内预设位置处的电场强度，E₁为不加待测透光屏蔽薄膜的金属箱体内预设位置处的电场强度。

基于控制变量法原理，在除是否设置待测透光屏蔽薄膜这一条件之外，其他条件均相同时的数据衡量待测透光屏蔽薄膜的屏蔽效能，提升了待测透光屏蔽薄膜的屏蔽效能计算的准确度。

在本发明实施例提供的技术方案中，在进行透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试时，将透光屏蔽薄膜设置在金属箱体的光学窗口上并完全覆盖光学窗口，形成封闭环境。将电磁波信号辐照至该金属箱体光学窗口处，电磁波信号经光学窗口上的透光屏蔽薄膜后进入箱体内部，采集箱体内部任意位置处的电磁波强度。由于是在封闭环境中采集经透光屏蔽薄膜屏蔽后的电磁波强度，该强度可准确反映透光屏蔽薄膜的屏蔽效果，不受外部环境干扰，且可避免电磁波绕射特性导致的一些问题，大幅简化数据计算量，有利于提升透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试效率，最后通过对比相同条件下不设置透光屏蔽薄膜的箱体内部的电磁波强度，计算透光屏蔽薄膜的屏蔽性能，提高了透光屏蔽薄膜屏蔽性能测试的准确度和精度。

下面对本发明实施例提供的主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试方法进行介绍，下文描述的主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试方法与上文描述的主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试系统可相互对应参照。

请参见图3，图3为本发明实施例提供的一种主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试方法的流程示意图，应用于主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试系统，本发明实施例可包括以下内容：

S301：获取电磁波信号辐照至金属箱体内，在预设位置处的第一电场强度值。

在该步骤中，金属箱体的窗口的光学玻璃上不设置透光屏蔽薄膜，可从设置在金属箱体内部的电信号采集装置中获取其采集的电场强度值。

S302：获取电磁波信号经设置有透光屏蔽薄膜的窗口透射至金属箱体内后，在预设位置处的第二电场强度值。

S301中的预设位置和S302中的预设位置可为同一位置处，也可为不同位置处，这均不影响本申请的实现。

S303：计算第一电场强度值和第二电场强度值的比值，作为待测透光屏蔽薄膜的屏蔽效能值。

可根据下述公式计算待测透光屏蔽薄膜的屏蔽效能值：

SE＝E₀/E₁；

式中，SE为屏蔽效能值，E₀为设置有待测透光屏蔽薄膜的金属箱体内预设位置处的电场强度，E₁为不加待测透光屏蔽薄膜的金属箱体内预设位置处的电场强度。

金属箱体为具有安装光学玻璃的窗口的全封闭箱体结构，待测透光屏蔽薄膜的面积不小于光学玻璃的面积，以覆盖光学玻璃。

由上可知，本发明实施例实现了对透光屏蔽薄膜屏蔽效能的准确测试。

本发明实施例还针对主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试方法提供了相应的实现装置，进一步使得所述方法更具有实用性。

参见图4，图4为本发明实施例提供的主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试装置在一种具体实施方式下的结构图，该装置可包括：

原始电磁波强度值获取模块401，用于获取电磁波信号辐照至金属箱体内，在预设位置处的第一电场强度值，金属箱体为具有安装光学玻璃的窗口的全封闭箱体结构。

电磁屏蔽后的电磁波强度值获取模块402，用于获取电磁波信号经设置有透光屏蔽薄膜的窗口透射至金属箱体内后，在预设位置处的第二电场强度值，待测透光屏蔽薄膜的面积不小于光学玻璃的面积，以覆盖光学玻璃。

屏蔽效能计算模块403，用于计算第一电场强度值和第二电场强度值的比值，作为待测透光屏蔽薄膜的屏蔽效能值。

本发明实施例所述主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试装置的各功能模块的功能可根据上述方法实施例中的方法具体实现，其具体实现过程可以参照上述方法实施例的相关描述，此处不再赘述。

由上可知，本发明实施例实现了对透光屏蔽薄膜屏蔽效能的准确测试。

本发明实施例还提供了一种主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试设备，具体可包括：

存储器，用于存储计算机程序；

处理器，用于执行计算机程序以实现如上任意一实施例所述主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试方法的步骤。

本发明实施例所述主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试设备的各功能模块的功能可根据上述方法实施例中的方法具体实现，其具体实现过程可以参照上述方法实施例的相关描述，此处不再赘述。

由上可知，本发明实施例实现了对透光屏蔽薄膜屏蔽效能的准确测试。

本发明实施例还提供了一种计算机可读存储介质，存储有主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试程序，所述主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试程序被处理器执行时如上任意一实施例所述主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试方法的步骤。

本发明实施例所述计算机可读存储介质的各功能模块的功能可根据上述方法实施例中的方法具体实现，其具体实现过程可以参照上述方法实施例的相关描述，此处不再赘述。

由上可知，本发明实施例实现了对透光屏蔽薄膜屏蔽效能的准确测试。

本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其它实施例的不同之处，各个实施例之间相同或相似部分互相参见即可。对于实施例公开的装置而言，由于其与实施例公开的方法相对应，所以描述的比较简单，相关之处参见方法部分说明即可。

专业人员还可以进一步意识到，结合本文中所公开的实施例描述的各示例的单元及算法步骤，能够以电子硬件、计算机软件或者二者的结合来实现，为了清楚地说明硬件和软件的可互换性，在上述说明中已经按照功能一般性地描述了各示例的组成及步骤。这些功能究竟以硬件还是软件方式来执行，取决于技术方案的特定应用和设计约束条件。专业技术人员可以对每个特定的应用来使用不同方法来实现所描述的功能，但是这种实现不应认为超出本发明的范围。

结合本文中所公开的实施例描述的方法或算法的步骤可以直接用硬件、处理器执行的软件模块，或者二者的结合来实施。软件模块可以置于随机存储器(RAM)、内存、只读存储器(ROM)、电可编程ROM、电可擦除可编程ROM、寄存器、硬盘、可移动磁盘、CD-ROM、或技术领域内所公知的任意其它形式的存储介质中。

以上对本发明所提供的一种主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试方法、装置、设备及计算机可读存储介质进行了详细介绍。本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以对本发明进行若干改进和修饰，这些改进和修饰也落入本发明权利要求的保护范围内。

Claims (10)

1.一种主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试系统，其特征在于，包括电磁信号产生装置、金属箱体及电磁屏蔽效能计算装置；

所述电磁信号产生装置用于产生预设强度电磁波信号，并将所述电磁波信号辐照至所述金属箱体的窗口处；

所述金属箱体为具有安装光学玻璃的窗口的全封闭箱体结构，所述光学玻璃上设置待测透光屏蔽薄膜；所述待测透光屏蔽薄膜的面积不小于所述光学玻璃的面积，以覆盖所述光学玻璃；

所述电磁屏蔽效能计算装置用于采集经所述待测透光屏蔽薄膜屏蔽后所述金属箱体内的电磁波信号强度，并计算其与不经所述待测透光屏蔽薄膜的所述金属箱体内电磁波信号强度的比值，作为所述待测透光屏蔽薄膜的屏蔽效能值。

2.根据权利要求1所述的主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试系统，其特征在于，所述电磁信号产生装置包括信号发生器、功率放大器及发射天线；

所述信号发生器将产生的信号通过所述功率放大器放大后，馈入所述发射天线的输入端，以使所述发射天线产生电磁波信号辐照至所述窗口处。

3.根据权利要求1所述的主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试系统，其特征在于，所述电磁屏蔽效能计算装置包括电场强度采集器、场强监视器和效能计算器；

所述电场强度采集器设置在所述金属箱体内部，用于采集所述电磁波信号透射进入所述金属箱体内部的电场强度；

所述场强监视器与所述电场强度采集器相连，用于实时接收所述电场强度采集器发送的电场强度信息；

所述效能计算器用于根据接收到的电场强度信息计算所述待测透光屏蔽薄膜的屏蔽效能值。

4.根据权利要求3所述的主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试系统，其特征在于，所述效能计算器用于根据下述公式计算所述待测透光屏蔽薄膜的屏蔽效能值：

SE＝E₀/E₁；

式中，SE为所述屏蔽效能值，E₀为设置有所述待测透光屏蔽薄膜的金属箱体内预设位置处的电场强度，E₁为不加所述待测透光屏蔽薄膜的金属箱体内所述预设位置处的电场强度。

5.根据权利要求4所述的主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试系统，其特征在于，所述电场强度采集器为电场测量探头。

6.根据权利要求5所述的主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试系统，其特征在于，所述效能计算器还包括电场强度存储器，用于存储所述场强监视器发送的电场强度信息。

7.一种主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试方法，其特征在于，包括：

获取电磁波信号辐照至金属箱体内，在预设位置处的第一电场强度值；

获取所述电磁波信号经设置有透光屏蔽薄膜的窗口透射至所述金属箱体内后，在所述预设位置处的第二电场强度值；

计算所述第一电场强度值和所述第二电场强度值的比值，作为所述待测透光屏蔽薄膜的屏蔽效能值；

其中，所述金属箱体为具有安装光学玻璃的窗口的全封闭箱体结构，所述待测透光屏蔽薄膜的面积不小于所述光学玻璃的面积，以覆盖所述光学玻璃。

8.一种主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试装置，其特征在于，包括：

原始电磁波强度值获取模块，用于获取电磁波信号辐照至金属箱体内，在预设位置处的第一电场强度值，所述金属箱体为具有安装光学玻璃的窗口的全封闭箱体结构；

电磁屏蔽后的电磁波强度值获取模块，用于获取所述电磁波信号经设置有透光屏蔽薄膜的窗口透射至所述金属箱体内后，在所述预设位置处的第二电场强度值，所述待测透光屏蔽薄膜的面积不小于所述光学玻璃的面积，以覆盖所述光学玻璃；

屏蔽效能计算模块，用于计算所述第一电场强度值和所述第二电场强度值的比值，作为所述待测透光屏蔽薄膜的屏蔽效能值。

9.一种主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试设备，其特征在于，包括处理器，所述处理器用于执行存储器中存储的计算机程序时实现如权利要求7所述主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试方法的步骤。

10.一种计算机可读存储介质，其特征在于，所述计算机可读存储介质上存储有主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试程序，所述主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试程序被处理器执行时实现如权利要求7所述主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试方法的步骤。