CN109444560A - 透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试方法、装置及系统 - Google Patents

透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试方法、装置及系统 Download PDF

Info

Publication number
CN109444560A
CN109444560A CN201811341059.1A CN201811341059A CN109444560A CN 109444560 A CN109444560 A CN 109444560A CN 201811341059 A CN201811341059 A CN 201811341059A CN 109444560 A CN109444560 A CN 109444560A
Authority
CN
China
Prior art keywords
light transmission
shielded film
shield effectiveness
intensity value
transmission shielded
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201811341059.1A
Other languages
English (en)
Inventor
葛欣宏
李旭
张鹰
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Changchun Institute of Optics Fine Mechanics and Physics of CAS
Original Assignee
Changchun Institute of Optics Fine Mechanics and Physics of CAS
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Changchun Institute of Optics Fine Mechanics and Physics of CAS filed Critical Changchun Institute of Optics Fine Mechanics and Physics of CAS
Priority to CN201811341059.1A priority Critical patent/CN109444560A/zh
Publication of CN109444560A publication Critical patent/CN109444560A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R29/00—Arrangements for measuring or indicating electric quantities not covered by groups G01R19/00 - G01R27/00
    • G01R29/08—Measuring electromagnetic field characteristics
    • G01R29/0807—Measuring electromagnetic field characteristics characterised by the application
    • G01R29/0814—Field measurements related to measuring influence on or from apparatus, components or humans, e.g. in ESD, EMI, EMC, EMP testing, measuring radiation leakage; detecting presence of micro- or radiowave emitters; dosimetry; testing shielding; measurements related to lightning
    • G01R29/0835—Testing shielding, e.g. for efficiency
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R29/00—Arrangements for measuring or indicating electric quantities not covered by groups G01R19/00 - G01R27/00
    • G01R29/08—Measuring electromagnetic field characteristics
    • G01R29/0864—Measuring electromagnetic field characteristics characterised by constructional or functional features
    • G01R29/0871—Complete apparatus or systems; circuits, e.g. receivers or amplifiers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)

Abstract

本发明实施例公开了一种透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试系统、方法、装置、设备及计算机可读存储介质。其中，待测光学设备的电子系统放置于金属箱体内，金属箱体为具有安装光学玻璃的窗口的全封闭箱体结构，光学玻璃上设置透光屏蔽薄膜；电磁屏蔽效能计算装置根据电磁波信号采集装置采集的从金属箱体向外出射的第一电磁波强度值和第二电磁波强度值计算透光屏蔽薄膜的屏蔽效能值，第一电磁波强度值为设置透光屏蔽薄膜的金属箱体出射的电磁波信号强度值，第二电磁波强度值为没有设置透光屏蔽薄膜的金属箱体出射的电磁波信号强度值。本申请实现了光学成像类设备在研制阶段前期准确选择匹配的透光屏蔽薄膜，降低光学成像类设备的研制成本。

Description

透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试方法、装置及系统
技术领域
本发明实施例涉及电磁兼容技术领域，特别是涉及一种透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试系统、方法、装置、设备及计算机可读存储介质。
背景技术
随着光学技术的发展，各类光学成像类设备越来越多投入至日常生活中。能量较高的电磁辐射不仅对处于电磁辐射环境中的电子设备产生干扰甚至毁伤，还对人体有影响，故在光学成像类设备进入市场之前，需要进行电磁辐射发射的标准化测试，只有其电磁辐射发射值在规定的标准范围之内，才可顺利交付、投入市场运营。
对于光学成像类设备，由于光学窗具有电磁透明性，电磁波能够基本无阻碍的传输至设备内部，造成设备的电磁辐射值超标，而透光屏蔽薄膜成为光学成像类设备的有效电磁防护手段。
相关技术中，一般均是在光学类设备制造完成后，将透光屏蔽薄膜施加(例如通过溅射、蒸镀等方式)在光学窗口上，但是当选择的透光屏蔽薄膜不合适时，针对一些特定的镀膜工艺，镀膜后的器件(例如镜头)便无法在使用，增加整个光学成像类设备的成本代价。
鉴于此，如何在光学成像类设备研制阶段前期，实现透光屏蔽薄膜的选型，是本领域技术人员亟待解决的问题。
发明内容
本公开实施例提供了一种透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试系统、方法、装置、设备及计算机可读存储介质，实现了光学成像类设备在研制阶段前期准确选择匹配的透光屏蔽薄膜，降低光学成像类设备的研制成本。
为解决上述技术问题，本发明实施例提供以下技术方案：
本发明实施例一方面提供了一种透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试系统，包括金属箱体、电磁波信号采集装置及电磁屏蔽效能计算装置；
处于研制阶段的待测光学设备的电子系统放置于所述金属箱体内，所述金属箱体为具有安装光学玻璃的窗口的全封闭箱体结构，所述光学玻璃上设置透光屏蔽薄膜；所述透光屏蔽薄膜的面积不小于所述光学玻璃的面积，以覆盖所述光学玻璃；
所述电磁波信号采集装置用于采集从所述金属箱体向外出射的电磁波信号，并将采集的电磁波信号发送至所述电磁屏蔽效能计算装置中；
所述电磁屏蔽效能计算装置用于根据接收到的第一电磁波信号强度值和第二电磁波信号强度值计算所述透光屏蔽薄膜的屏蔽效能值，所述第一电磁波强度值为设置所述透光屏蔽薄膜的所述金属箱体出射的电磁波信号强度值，所述第二电磁波强度值为没有设置所述透光屏蔽薄膜的所述金属箱体出射的电磁波信号强度值。
可选的，所述电磁波信号采集装置包括接收天线和电磁波信号测量接收机；
所述接收天线用于接收从所述金属箱体向外出射的电磁波信号；
所述电磁波信号测量接收机用于采集所述接收天线接收到的电磁波信号。
可选的，所述电磁屏蔽效能计算装置用于根据下述公式计算所述透光屏蔽薄膜的屏蔽效能值：
SE＝E0/E1；
式中，SE为所述屏蔽效能值，E0为设置有所述透光屏蔽薄膜的金属箱体内预设位置处的电场强度，E1为不加所述待测透光屏蔽薄膜的金属箱体内所述预设位置处的电场强度。
可选的，所述金属箱体还包括位于箱体底部的过线孔，以使所述电子系统通过所述过线孔与电源相连；所述过线孔的尺寸与所述电子系统的电源线尺寸相同。
可选的，所述电磁屏蔽效能计算装置还包括电场强度存储器，用于存储所述电磁波信号采集装置发送的电场强度信息。
本发明实施例另一方面提供了一种透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试方法，获取设置在金属箱体内的待测光学设备的电子系统向外辐射电磁波的第一强度值；
获取设置在设置有透光屏蔽薄膜的金属箱体的所述电子系统向外辐射电磁波的第二强度值；
计算所述第一强度值和所述第二强度值的比值，作为所述透光屏蔽薄膜的屏蔽效能值；
其中，所述待测光学设备处于研制阶段，所述金属箱体为具有安装光学玻璃的窗口的全封闭箱体结构，所述透光屏蔽薄膜的面积不小于所述光学玻璃的面积，以覆盖所述光学玻璃。
可选的，在所述计算所述第一强度值和所述第二强度值的比值，作为所述透光屏蔽薄膜的屏蔽效能值之外，还包括：
判断所述屏蔽效能值是否在所述待测光学设备的标准电磁波辐射范围内；
若否，则发送更换透光屏蔽薄膜类型的指令，并进行不符合电磁波辐射标准的提示。
本发明实施例还提供了一种透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试装置，包括：
原始电磁波强度值获取模块，用于获取设置在金属箱体内的处于研制阶段的待测光学设备的电子系统向外辐射电磁波的第一强度值，所述金属箱体为具有安装光学玻璃的窗口的全封闭箱体结构；
电磁屏蔽后的电磁波强度值获取模块，用于获取设置在设置有透光屏蔽薄膜的金属箱体的所述电子系统向外辐射电磁波的第二强度值，所述透光屏蔽薄膜的面积不小于所述光学玻璃的面积，以覆盖所述光学玻璃；
屏蔽效能计算模块，用于计算所述第一强度值和所述第二强度值的比值，作为所述透光屏蔽薄膜的屏蔽效能值。
本发明实施例还提供了一种透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试设备，包括处理器，所述处理器用于执行存储器中存储的计算机程序时实现如前任一项所述透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试方法的步骤。
本发明实施例最后还提供了一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质上存储有透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试程序，所述透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试程序被处理器执行时实现如前任一项所述透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试方法的步骤。
本申请提供的技术方案的优点在于，在处于研发阶段的未成品光学设备的电子系统完成研制后，将其放置在金属箱体内，在金属箱体的光学窗口上设置透光屏蔽薄膜并完全覆盖光学窗口，形成封闭环境。电子系统产生的电磁辐射向金属箱体外辐射，通过采集辐射的电磁波信号强度便可得知透光屏蔽薄膜的屏蔽效能。由于采集的电磁波信号为电子系统在封闭环境中经透光屏蔽薄膜屏蔽后的电磁波强度，不受外部环境干扰，该强度可准确反映透光屏蔽薄膜的屏蔽效果，通过比对透光屏蔽薄膜的屏蔽性能值和光学设备的标准电磁辐射范围，便可实现为光学成像类设备在研制阶段前期准确选择匹配的透光屏蔽薄膜，有利于提高光学成像类成像设备的研发效率，降低光学成像类设备的研制成本。
此外，本发明实施例还针对透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试系统还提供了相对应的测试方法、装置、设备及计算机可读存储介质，进一步使得所述方法更具有实用性，所述方法、装置、设备及计算机可读存储介质具有相应的优点。
应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性的，并不能限制本公开。
附图说明
为了更清楚的说明本发明实施例或相关技术的技术方案，下面将对实施例或相关技术描述中所需要使用的附图作简单的介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本公开根据一示例性实施例示出的一种透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试系统结构示意图；
图2为本公开根据另一示例性实施例示出的一种透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试系统结构示意图；
图3为本发明实施例提供的一种透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试方法的流程示意图；
图4为本发明实施例提供的另一种透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试方法的流程示意图；
图5为本发明实施例提供的透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试装置的一种具体实施方式结构图；
图6为本发明实施例提供的透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试装置的另一种具体实施方式结构图。
具体实施方式
为了使本技术领域的人员更好地理解本发明方案，下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步的详细说明。显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本申请的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”、“第三”“第四”等是用于区别不同的对象，而不是用于描述特定的顺序。此外术语“包括”和“具有”以及他们任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。例如包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备没有限定于已列出的步骤或单元，而是可包括没有列出的步骤或单元。
在介绍了本发明实施例的技术方案后，下面详细的说明本申请的各种非限制性实施方式。
首先请参阅图1，图1为本发明实施例提供的一种透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试系统结构框图，本发明实施例可包括以下内容：
透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试系统可包括金属箱体1、电磁波信号采集装置2及电磁屏蔽效能计算装置3。
该系统用于对处于研制阶段的光学设备的透光屏蔽薄膜进行选型，尤其是处于研制阶段前期的光学设备，在其电子系统0研制完成后，通过在结合电子系统0模拟光学设备的应用场景中施加的透光屏蔽薄膜的屏蔽效能测试结果来确定选型是否合适，可选的，可将待测光学设备的电子系统0放入封闭的金属箱体内，金属箱体设有光学窗口，该窗口可设置有透光屏蔽薄膜，可模拟光学设备的透光屏蔽薄膜的透光屏蔽薄膜的效能测试。
金属箱体1用于提供封闭的测试环境，其可为具有安装光学玻璃的窗口的全封闭箱体结构，可使用任何一种金属组合或焊接为金属箱体1，窗口可设置在金属箱体1的任何一个表面上，窗口的面积可进行随意选择，这均不影响本申请的实现。
金属箱体1的窗口上安装光学玻璃，光学玻璃的尺寸和窗口的尺寸相匹配，光学玻璃上设置透光屏蔽薄膜，透光屏蔽薄膜的面积不小于光学玻璃的面积，透光屏蔽薄膜的边缘部分需要与金属箱体1完整搭接，使得透光屏蔽薄膜完全覆盖光学玻璃，以保证整个金属箱体1结构的封闭性。金属箱体1作为有开孔的电磁屏蔽体，且在箱体不设置其他任何一种材料(例如吸波材料)，可真实、准确的模拟实际工程条件(例如航天、航空领域)中的光学设备的透明屏蔽薄膜的屏蔽效能。
考虑到电子系统0一般需要连接电源，可选的，可在金属箱体1的箱体底部设置过线孔，电子系统0的电源线通过过线孔与外部电源相连接，过线孔的尺寸与电源线的尺寸相同，以维持整个金属箱体1的封闭性。此外，为了使得金属箱体1具有更好的封闭性能，可在金属箱体1底部设置具有两个接口的电源线，一个接口与电子系统0相连，一个接口与电源相连，电源线和金属箱体1为一体，例如可一体成型制备。
电磁波信号采集装置2用于采集从金属箱体1向外出射的电磁波信号，并将采集的电磁波信号发送至电磁屏蔽效能计算装置3中。电磁波信号采集装置2设置在金属箱体1之外，可在金属箱体1的电子系统辐射电磁波时，实时的进行采集。
在一种具体的实施方式中，请参阅图2，电磁波信号采集装置2可包括接收天线21和与之相连的电磁波信号测量接收机22。
接收天线21可接收从金属箱体向外出射的电磁波信号；接收天线21可为任何一种将传输线中的电磁波转化为电流信号的设备，本申请对此不做任何限定。
电磁波信号测量接收机22可采集接收天线21发送的电信号的强度信息，并将电信号的强度信息发送至电磁屏蔽效能计算装置3。电磁波信号测量接收机22可为任何一种可实现采集电场强度信息并将其发送至目标的设备，这均不影响本申请的实现。
电磁屏蔽效能计算装置3可用于根据接收到的第一电磁波信号强度值和第二电磁波信号强度值计算透光屏蔽薄膜的屏蔽效能值，第一电磁波强度值为设置透光屏蔽薄膜的金属箱体出射的电磁波信号强度值，第二电磁波强度值为没有设置透光屏蔽薄膜的金属箱体1出射的电磁波信号强度值。
电磁屏蔽效能计算装置3在计算得到透光屏蔽薄膜的屏蔽效能值之后，还可进一步判断该屏蔽效能值是否待测光学系统的标准电磁波辐射范围，标准电磁波辐射范围即为国家或业内规定的可作为产品销售或研究的光学设备的电磁波辐射范围，也就是说判断待测光学系统在研制完成后，设置当前类型的透光屏蔽薄膜后，是否可顺利通过国家规定的电磁辐射发射的标准化测试。如果计算得到的屏蔽效能值不在待测光学系统的标准电磁波辐射范围，需要重新更换其他类型的透光屏蔽薄膜进行屏蔽效能的测试，直至当前类型的透光屏蔽薄膜的屏蔽效能满足条件。
电磁波信号测量接收机22还将其接收到的电场强度信息发送至电磁屏蔽效能计算装置3进行计算，也可直至发送至电场强度存储器31中进行存储该电场强度信息。当然，电场强度存储器31还可存储电磁屏蔽效能计算装置3的计算结果。
电磁屏蔽效能计算装置3可为计算机或笔记本电脑或任何一种带有处理器的智能设备，可根据下述公式计算透光屏蔽薄膜的屏蔽效能值：
SE＝E0/E1；
式中，SE为屏蔽效能值，E0为设置有透光屏蔽薄膜的金属箱体内预设位置处的电场强度，E1为不加待测透光屏蔽薄膜的金属箱体内预设位置处的电场强度。
透光屏蔽薄膜屏蔽的屏蔽效能可预先进行定义，例如可为针对电子系统发射的同一强度的电磁波信号从金属箱体1辐照出去，对同一个金属箱体1在设置透光屏蔽薄膜和不设置待测透光屏蔽薄膜两种应用场景中，分别采集同一位置处的电场强度，利用这两种应用场景下的电场强度的比值作为反映透光屏蔽薄膜屏蔽性能的值。当然，也可采用其他定义方法，例如采集设置透光屏蔽薄膜的金属箱体1内部任意一点的电场强度值，然后采集电磁波信号在该金属箱体1外部的电场强度值，利用这两个值的比值衡量透光屏蔽薄膜屏蔽性能。
基于控制变量法原理，在除是否设置透光屏蔽薄膜这一条件之外，其他条件均相同时的数据衡量待测透光屏蔽薄膜的屏蔽效能，提升了透光屏蔽薄膜的屏蔽效能计算的准确度。
在本发明实施例提供的技术方案中，在处于研发阶段的未成品光学设备的电子系统完成研制后，将其放置在金属箱体内，在金属箱体的光学窗口上设置透光屏蔽薄膜并完全覆盖光学窗口，形成封闭环境。电子系统产生的电磁辐射向金属箱体外辐射，通过采集辐射的电磁波信号强度便可得知透光屏蔽薄膜的屏蔽效能。由于采集的电磁波信号为电子系统在封闭环境中经透光屏蔽薄膜屏蔽后的电磁波强度，不受外部环境干扰，该强度可准确反映透光屏蔽薄膜的屏蔽效果，通过比对透光屏蔽薄膜的屏蔽性能值和光学设备的标准电磁辐射范围，便可实现为光学成像类设备在研制阶段前期准确选择匹配的透光屏蔽薄膜，有利于提高光学成像类成像设备的研发效率，降低光学成像类设备的研制成本。
下面对本发明实施例提供的透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试方法进行介绍，下文描述的透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试方法与上文描述的透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试系统可相互对应参照。
首先参见图3，图3为本发明实施例提供的一种透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试方法的流程示意图，本发明实施例可包括以下内容：
S301：获取设置在金属箱体内的待测光学设备的电子系统向外辐射电磁波的第一强度值。
在该步骤中，金属箱体的窗口的光学玻璃上不设置透光屏蔽薄膜。
S302：获取设置在设置有透光屏蔽薄膜的金属箱体的电子系统向外辐射电磁波的第二强度值。
S303：计算第一强度值和第二强度值的比值，作为透光屏蔽薄膜的屏蔽效能值。
待测光学设备处于研制阶段，金属箱体为具有安装光学玻璃的窗口的全封闭箱体结构，透光屏蔽薄膜的面积不小于光学玻璃的面积，以覆盖光学玻璃。
基于上述实施例，请参阅图4，还可包括：
S304：判断所屏蔽效能值是否在待测光学设备的标准电磁波辐射范围内，若是，则结束；若否，则执行S305。
S305：发送更换透光屏蔽薄膜类型的指令，并进行不符合电磁波辐射标准的提示。
更换透光屏蔽薄膜的类型进行屏蔽效能值测试，直至相应的屏蔽效能值在标准电磁波辐射范围内。
不符合电磁波辐射标准的提示可为任何一种可实现提示用户当前透光屏蔽薄膜的选型不正确方法，可为语音提示，也可为文字、图像提示，本申请对此不做任何限定。
由上可知，本发明实施例实现了光学成像类设备在研制阶段前期准确选择匹配的透光屏蔽薄膜，降低光学成像类设备的研制成本。
本发明实施例还针对透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试方法提供了相应的实现装置，进一步使得所述方法更具有实用性。
参见图5，图5为本发明实施例提供的透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试装置在一种具体实施方式下的结构图，该装置可包括：
原始电磁波强度值获取模块501，用于获取设置在金属箱体内的处于研制阶段的待测光学设备的电子系统向外辐射电磁波的第一强度值，金属箱体为具有安装光学玻璃的窗口的全封闭箱体结构；
电磁屏蔽后的电磁波强度值获取模块502，用于获取设置在设置有透光屏蔽薄膜的金属箱体的电子系统向外辐射电磁波的第二强度值，透光屏蔽薄膜的面积不小于光学玻璃的面积，以覆盖光学玻璃；
屏蔽效能计算模块503，用于计算第一强度值和第二强度值的比值，作为透光屏蔽薄膜的屏蔽效能值。
可选的，请参阅图6，在本实施例的一些实施方式中，所述装置例如还可以包括：
判断模块504，用于判断屏蔽效能值是否在待测光学设备的标准电磁波辐射范围内。
提示模块505，用于在屏蔽效能值不在待测光学设备的标准电磁波辐射范围内时，进行不符合电磁波辐射标准的提示。
更换类型指令模块506，用于在屏蔽效能值不在待测光学设备的标准电磁波辐射范围内时，发送更换透光屏蔽薄膜类型的指令。
本发明实施例所述透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试装置的各功能模块的功能可根据上述方法实施例中的方法具体实现，其具体实现过程可以参照上述方法实施例的相关描述，此处不再赘述。
由上可知，本发明实施例实现了光学成像类设备在研制阶段前期准确选择匹配的透光屏蔽薄膜，降低光学成像类设备的研制成本。
本发明实施例还提供了一种透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试设备，具体可包括：
存储器，用于存储计算机程序；
处理器，用于执行计算机程序以实现如上任意一实施例所述透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试方法的步骤。
本发明实施例所述透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试设备的各功能模块的功能可根据上述方法实施例中的方法具体实现，其具体实现过程可以参照上述方法实施例的相关描述，此处不再赘述。
由上可知，本发明实施例实现了光学成像类设备在研制阶段前期准确选择匹配的透光屏蔽薄膜，降低光学成像类设备的研制成本。
本发明实施例还提供了一种计算机可读存储介质，存储有透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试程序，所述透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试程序被处理器执行时如上任意一实施例所述透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试方法的步骤。
本发明实施例所述计算机可读存储介质的各功能模块的功能可根据上述方法实施例中的方法具体实现，其具体实现过程可以参照上述方法实施例的相关描述，此处不再赘述。
由上可知，本发明实施例实现了光学成像类设备在研制阶段前期准确选择匹配的透光屏蔽薄膜，降低光学成像类设备的研制成本。
本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其它实施例的不同之处，各个实施例之间相同或相似部分互相参见即可。对于实施例公开的装置而言，由于其与实施例公开的方法相对应，所以描述的比较简单，相关之处参见方法部分说明即可。
专业人员还可以进一步意识到，结合本文中所公开的实施例描述的各示例的单元及算法步骤，能够以电子硬件、计算机软件或者二者的结合来实现，为了清楚地说明硬件和软件的可互换性，在上述说明中已经按照功能一般性地描述了各示例的组成及步骤。这些功能究竟以硬件还是软件方式来执行，取决于技术方案的特定应用和设计约束条件。专业技术人员可以对每个特定的应用来使用不同方法来实现所描述的功能，但是这种实现不应认为超出本发明的范围。
结合本文中所公开的实施例描述的方法或算法的步骤可以直接用硬件、处理器执行的软件模块，或者二者的结合来实施。软件模块可以置于随机存储器(RAM)、内存、只读存储器(ROM)、电可编程ROM、电可擦除可编程ROM、寄存器、硬盘、可移动磁盘、CD-ROM、或技术领域内所公知的任意其它形式的存储介质中。
以上对本发明所提供的一种透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试方法、装置、设备及计算机可读存储介质进行了详细介绍。本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以对本发明进行若干改进和修饰，这些改进和修饰也落入本发明权利要求的保护范围内。

Claims (10)

1.一种透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试系统，其特征在于，包括金属箱体、电磁波信号采集装置及电磁屏蔽效能计算装置；
处于研制阶段的待测光学设备的电子系统放置于所述金属箱体内，所述金属箱体为具有安装光学玻璃的窗口的全封闭箱体结构，所述光学玻璃上设置透光屏蔽薄膜；所述透光屏蔽薄膜的面积不小于所述光学玻璃的面积，以覆盖所述光学玻璃；
所述电磁波信号采集装置用于采集从所述金属箱体向外出射的电磁波信号，并将采集的电磁波信号发送至所述电磁屏蔽效能计算装置中；
所述电磁屏蔽效能计算装置用于根据接收到的第一电磁波信号强度值和第二电磁波信号强度值计算所述透光屏蔽薄膜的屏蔽效能值，所述第一电磁波强度值为设置所述透光屏蔽薄膜的所述金属箱体出射的电磁波信号强度值，所述第二电磁波强度值为没有设置所述透光屏蔽薄膜的所述金属箱体出射的电磁波信号强度值。
2.根据权利要求1所述的透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试系统，其特征在于，所述电磁波信号采集装置包括接收天线和电磁波信号测量接收机；
所述接收天线用于接收从所述金属箱体向外出射的电磁波信号；
所述电磁波信号测量接收机用于采集所述接收天线接收到的电磁波信号。
3.根据权利要求1所述的透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试系统，其特征在于，所述电磁屏蔽效能计算装置用于根据下述公式计算所述透光屏蔽薄膜的屏蔽效能值：
SE＝E0/E1；
式中，SE为所述屏蔽效能值，E0为设置有所述透光屏蔽薄膜的金属箱体内预设位置处的电场强度，E1为不加所述待测透光屏蔽薄膜的金属箱体内所述预设位置处的电场强度。
4.根据权利要求1-3任意一项所述的透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试系统，其特征在于，所述金属箱体还包括位于箱体底部的过线孔，以使所述电子系统通过所述过线孔与电源相连；所述过线孔的尺寸与所述电子系统的电源线尺寸相同。
5.根据权利要求4所述的透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试系统，其特征在于，所述电磁屏蔽效能计算装置还包括电场强度存储器，用于存储所述电磁波信号采集装置发送的电场强度信息。
6.一种透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试方法，其特征在于，包括：
获取设置在金属箱体内的待测光学设备的电子系统向外辐射电磁波的第一强度值；
获取设置在设置有透光屏蔽薄膜的金属箱体的所述电子系统向外辐射电磁波的第二强度值；
计算所述第一强度值和所述第二强度值的比值，作为所述透光屏蔽薄膜的屏蔽效能值；
其中，所述待测光学设备处于研制阶段，所述金属箱体为具有安装光学玻璃的窗口的全封闭箱体结构，所述透光屏蔽薄膜的面积不小于所述光学玻璃的面积，以覆盖所述光学玻璃。
7.根据权利要求6所述的透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试方法，其特征在于，在所述计算所述第一强度值和所述第二强度值的比值，作为所述透光屏蔽薄膜的屏蔽效能值之外，还包括：
判断所述屏蔽效能值是否在所述待测光学设备的标准电磁波辐射范围内；
若否，则发送更换透光屏蔽薄膜类型的指令，并进行不符合电磁波辐射标准的提示。
8.一种透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试装置，其特征在于，包括：
原始电磁波强度值获取模块，用于获取设置在金属箱体内的处于研制阶段的待测光学设备的电子系统向外辐射电磁波的第一强度值，所述金属箱体为具有安装光学玻璃的窗口的全封闭箱体结构；
电磁屏蔽后的电磁波强度值获取模块，用于获取设置在设置有透光屏蔽薄膜的金属箱体的所述电子系统向外辐射电磁波的第二强度值，所述透光屏蔽薄膜的面积不小于所述光学玻璃的面积，以覆盖所述光学玻璃；
屏蔽效能计算模块，用于计算所述第一强度值和所述第二强度值的比值，作为所述透光屏蔽薄膜的屏蔽效能值。
9.一种透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试设备，其特征在于，包括处理器，所述处理器用于执行存储器中存储的计算机程序时实现如权利要求6或7所述透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试方法的步骤。
10.一种计算机可读存储介质，其特征在于，所述计算机可读存储介质上存储有透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试程序，所述透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试程序被处理器执行时实现如权利要求6或7所述透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试方法的步骤。
CN201811341059.1A 2018-11-12 2018-11-12 透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试方法、装置及系统 Pending CN109444560A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201811341059.1A CN109444560A (zh) 2018-11-12 2018-11-12 透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试方法、装置及系统

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201811341059.1A CN109444560A (zh) 2018-11-12 2018-11-12 透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试方法、装置及系统

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN109444560A true CN109444560A (zh) 2019-03-08

Family

ID=65552572

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201811341059.1A Pending CN109444560A (zh) 2018-11-12 2018-11-12 透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试方法、装置及系统

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN109444560A (zh)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107462775A (zh) * 2017-07-03 2017-12-12 上海无线电设备研究所 一种电磁屏蔽效能测试系统及其改善屏蔽效能的测试方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107462775A (zh) * 2017-07-03 2017-12-12 上海无线电设备研究所 一种电磁屏蔽效能测试系统及其改善屏蔽效能的测试方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Treister et al. New observational constraints on the growth of the first supermassive black holes
Hoppe et al. Interpretation of runaway electron synchrotron and bremsstrahlung images
Bulla et al. Polarization spectral synthesis for Type Ia supernova explosion models
CN110264978A (zh) 光强度修正方法、光强度修正装置和电子设备
CN110147317A (zh) 代码测试方法及装置、电子设备和存储介质
CN110113538A (zh) 智能拍摄设备、智能控制方法和装置
Davis et al. Effect of a chameleon scalar field on the cosmic microwave background
CN106226033B (zh) 检测透光基板透过率的方法及装置
CN109151202A (zh) 一种移动终端显示屏的控制方法及移动终端
Gallo et al. Interpretative transport modeling of the WEST boundary plasma: main plasma and light impurities
CN109146906A (zh) 图像处理方法和装置、电子设备、计算机可读存储介质
CN106842224A (zh) 用于电子设备的距离传感器的安装结构检测方法及装置
Bocchino et al. ROSAT PSPC observation of the NE region of the VELA supernova remnant. III. The two-component nature of the X-ray emission and its implications on the ISM
Tinguely et al. Measurements of runaway electron synchrotron spectra at high magnetic fields in Alcator C-Mod
CN110335232A (zh) 图像处理装置、异物检查装置以及图像处理方法
CN109444560A (zh) 透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试方法、装置及系统
CN109406899A (zh) 主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试方法、装置及系统
CN109900702A (zh) 车辆损伤检测的处理方法、装置、设备、服务器和系统
Choudhury et al. A NICER View of the Nearest and Brightest Millisecond Pulsar: PSR J0437–4715
Das et al. Time-efficient EMI risk evaluation method in a hospital environment
Guttenfelder et al. Initial transport and turbulence analysis and gyrokinetic simulation validation in NSTX-U L-mode plasmas
CN110859641A (zh) 光射野视觉检测方法及光射野视觉检测设备
Hagen et al. What drives the variability in AGN? Explaining the UV-Xray disconnect through propagating fluctuations
CN110318953A (zh) 风电机组电控系统的温度监控方法和设备
Hajduk et al. Evidence for cold plasma in planetary nebulae from radio observations with the LOw Frequency ARray (LOFAR)

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20190308