CN109355634A - 双面连续镀膜的真空蒸镀装置 - Google Patents
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- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 37
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 34
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 title claims abstract description 19
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 81
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims abstract description 69
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims abstract description 69
- 230000009975 flexible effect Effects 0.000 claims abstract description 41
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 33
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 33
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims abstract description 9
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims abstract description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 54
- 238000004804 winding Methods 0.000 claims description 29
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 16
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 14
- 230000006698 induction Effects 0.000 claims description 6
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 claims description 3
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 claims description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 abstract description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 2
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000010946 fine silver Substances 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000003137 locomotive effect Effects 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000010025 steaming Methods 0.000 description 1
- 238000005019 vapor deposition process Methods 0.000 description 1
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/52—Means for observation of the coating process
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本发明公开了一种双面连续镀膜的真空蒸镀装置，其包括真空腔体、设置在真空腔体内的转向辊机构和两组蒸镀机构，所述两组蒸镀机构上下设置，所述转向辊机构设置两组蒸镀机构的一侧，待蒸镀的柔性基材沿一组所述蒸镀机构进入经所述转向辊机构后沿另一组所述蒸镀机构用于连续对柔性基材的上下两面进行真空蒸镀，这样，本发明通过设置两组蒸镀机构，以及两组蒸镀机构之间设置转向辊机构，能够实现单次工作同时完成在柔性基材的两面蒸镀镀层，本发明获得的柔性基材膜面外观良好，无褶皱和镀空线，并且提高生产效率。
Description
技术领域
本发明属于真空蒸镀技术领域，具体涉及一种双面连续镀膜的真空蒸镀装置。
背景技术
目前，柔性导电材料在电子、屏蔽、电容、汽车、新能源、航天行业得到广泛应用，其主要发展趋势为材料越来越薄、导电/屏蔽等性能要求越来越高，材料的厚度由原来的10～50μm发展到2～16μm，称为超薄柔性导电/屏蔽材料，产品对导电/屏蔽材料的导电性能要求的不断提高，就要求膜面镀层越来越厚，同时镀层品质越来越高。
随着柔性导电/屏蔽等材料性能要求的不断提高，由于导电/屏蔽等材料的厚度较薄，在生产超薄柔性导电/屏蔽等材料时，容易出现基材起皱、镀空线、表面镀层外观不良、针孔等问题。
发明内容
为了克服现有技术的不足，本发明的目的旨在提供一种双面连续镀膜的真空蒸镀装置。
本发明的技术方案是这样实现的：
本发明实施例提供一种双面连续镀膜的真空蒸镀装置，其包括真空腔体、设置在真空腔体内的转向辊机构和两组蒸镀机构，所述两组蒸镀机构上下设置，所述转向辊机构设置两组蒸镀机构的一侧，待蒸镀的柔性基材沿一组所述蒸镀机构进入经所述转向辊机构后沿另一组所述蒸镀机构用于连续对柔性基材的上下两面进行真空蒸镀。
上述方案中，所述蒸镀机构包括卷绕组件、冷却组件和蒸发组件，所述卷绕组件和冷却组件依次排列，所述蒸发组件元设置在冷却组件的底部，所述转向辊机构设置两组蒸镀机构的卷绕组件的一侧；所述卷绕组件用于收卷、放卷以及传送柔性基材，所述冷却组件用于在蒸镀过程中降低柔性基材表面的温度，所述蒸发组件用于在柔性基材表面蒸镀金属或非金属镀层。
上述方案中，所述卷绕组件包括收放卷、摆架单元，所述收放卷用于收卷或者放卷待蒸镀的柔性基材；所述摆架单元包括架体、跟随辊、展平辊和引导辊，所述跟随辊、展平辊和引导辊依次设置在架体上，所述跟随辊靠近收放卷设置，所述引导辊靠近冷却单元设置；所述架体绕引导棍所在的中心转动用于带动跟随辊与收放卷上的柔性基材的膜面最外层保持固定的距离。
上述方案中，所述跟随辊、展平辊和引导辊均设置至少一个
上述方案中，所述冷却组件包括冷却主鼓、前展平辊、后展平辊，所述前展平辊和后展平辊分别设置在冷却主鼓的两侧。
上述方案中，所述展平辊、前展平辊和后展平辊采用弯辊、胶条辊、多段辊或者开幅辊。
上述方案中，所述展平辊、前展平辊和后展平辊采用光面过辊或者毛面过辊。
上述方案中，所述蒸发组件采用电阻式蒸发、中频感应坩埚蒸发或电子束蒸发。
上述方案中，所述转向辊机构包括第一过辊、第二过辊、第三过辊，所述第一过辊和第三过辊靠近分别设置在两组蒸镀机构的冷却组件的一侧，所述第二过辊设置在第一过辊和第三过辊之间。
上述方案中，其还包括第一观察视窗和第二观察视窗，所述第一观察视窗和第二观察视窗设置在真空腔体上分别用于观察两组蒸镀机构的工作状态。
与现有技术相比，本发明实施例提供一种双面连续镀膜的真空蒸镀装置，其包括真空腔体、设置在真空腔体内的转向辊机构和两组蒸镀机构，所述两组蒸镀机构上下设置，所述转向辊机构设置两组蒸镀机构的一侧，待蒸镀的柔性基材沿一组所述蒸镀机构进入经所述转向辊机构后沿另一组所述蒸镀机构用于连续对柔性基材的上下两面进行真空蒸镀，这样，本发明通过设置两组蒸镀机构，以及两组蒸镀机构之间设置转向辊机构，能够实现单次工作同时完成在柔性基材的两面蒸镀镀层，本发明获得的柔性基材膜面外观良好，无褶皱和镀空线，并且提高生产效率。
附图说明
图1为本发明实施例一种双面连续镀膜的真空蒸镀装置的结构示意图。
附图标记如下：
1——真空腔体、2——转向辊机构、21——第一过辊、22——第二过辊、23——第三过辊、3——蒸镀机构、31——卷绕组件、311——收放卷、312——摆架单元、313——架体、314——跟随辊、315——展平辊、316——引导辊、32——冷却组件、321——冷却主鼓、322——前展平辊、323——后展平辊、33——蒸发组件、4——第一观察视窗、5——第二观察视窗。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
本发明实施例提供一种双面连续镀膜的真空蒸镀装置，如图1所示，真空腔体1、设置在真空腔体1内的转向辊机构2和两组蒸镀机构3，所述两组蒸镀机构3上下设置，所述转向辊机构2设置两组蒸镀机构3的一侧，待蒸镀的柔性基材沿一组所述蒸镀机构3进入经所述转向辊机构2后沿另一组所述蒸镀机构3用于连续对柔性基材的上下两面进行真空蒸镀。
本发明具有上下两个蒸镀机构，能够采用自上侧的蒸镀机构放卷下侧的蒸镀机构收卷和自下侧的蒸镀机构放卷上侧的两种方式进行工作，这两组工作方式均能够实现双面连续真空蒸发镀膜的功能，本发明通过上下设置两组蒸镀机构，并且两组蒸镀机构的每个部件上下对应设置，以及两组蒸镀机构之间设置转向辊机构，能够实现单次工作同时完成在柔性基材的两面蒸镀镀层，本发明获得的柔性基材膜面外观良好，无褶皱和镀空线，并且提高生产效率。
其中，所述蒸镀机构3包括卷绕组件31、冷却组件32和蒸发组件33，所述卷绕组件31和冷却组件32依次排列，所述蒸发组件33元设置在冷却组件32的底部，所述转向辊机构2设置两组蒸镀机构3的卷绕组件的31一侧；所述卷绕组件31用于收卷、放卷以及传送柔性基材，所述冷却组件32用于在蒸镀过程中降低柔性基材表面的温度，所述蒸发组件33用于在柔性基材表面蒸镀镀层。
其中，所述卷绕组件31包括收放卷311、摆架单元312，所述收放卷311用于收卷或者放卷待蒸镀的柔性基材；所述摆架单元312包括架体313、跟随辊314、展平辊315和引导辊316，所述跟随辊314、展平辊315和引导辊316依次设置在架体313上，所述跟随辊314靠近收放卷311设置，所述引导辊316靠近冷却单元32设置；所述架体313绕引导棍316所在的中心转动用于带动跟随辊314与收放卷311上的柔性基材的膜面最外层保持固定的距离。
该摆架单元312在收卷或放卷时，随着收放卷311处的卷料的增大或减小，摆架单元312具有跟随移动功能，架体313以引导棍316所在的轴心为圆心进行旋转，从而使架体313摆动，进而使摆架单元312中跟随辊314能够始终与收放卷311的柔性基材的膜面最外层保持一定的距离，以保证收放卷过程膜面平整；
展平辊315用于对收/放卷的膜面进行展平，放卷展平的作用在于保障膜面进入冷却主鼓321前膜面的平整效果，收卷展平的作用在于保障收卷膜面的平整度和总体收卷外观效果；
引导辊316采用普通过辊，其作用在于传导引导膜面，也可以作为张力检测辊使用。
其中，所述冷却组件32包括冷却主鼓321、前展平辊322、后展平辊323，所述前展平辊322和后展平辊323分别设置在冷却主鼓321的两侧。
冷却主鼓321的主要作用是为柔性基材提供冷却量，将蒸发过程形成的热量传递到设备外部，保持膜面在降低的温度状态下完成蒸镀过程；
前展平辊322作为进入冷却主鼓321的展平辊用于在膜进入冷却主鼓321时提前展平，保障进入冷却主鼓321鼓面的基材是完全平整的，这样来保证基材与冷却主鼓321的完全贴合；后展平辊323作为出冷却主鼓321的展平辊时，用于利用其展平拖动作用，保证基材与冷却主鼓321的拉紧贴合状态；在进出冷却主鼓321的前后分别设置前展平辊322和后展平辊323，能够保障完美的贴鼓状态，进而保证良好的导热效果，减少基材起皱和镀空线的出现。
其中，所述展平辊315、前展平辊322和后展平辊323均最优的可选用弯辊或胶条辊，也可以选用多段辊、开幅辊等，还可以更换为具有相同功能的普通过辊，可以是光面的过辊，也可以是具有一定摩擦系数的毛面过辊，可以全部更换也可以组合更换使用，另外，所述跟随辊314、展平辊315和引导辊316均设置至少一个。
其中，蒸发组件33采用电阻式蒸发、中频感应坩埚蒸发或电子束蒸发。
蒸发组件33作为蒸发源用于将蒸镀原材料在真空下蒸发为气态，气态分子在真空中扩散至基材表面形成镀层；蒸发源的类型可采用电阻式蒸发、中频感应坩埚蒸发、电子束蒸发等。
其中，转向辊机构2包括第一过辊21、第二过辊22、第三过辊23，所述第一过辊21和第三过辊23靠近分别设置在两组蒸镀机构3的冷却组件32的一侧，所述第二过辊22设置在第一过辊21和第三过辊23之间。
转向辊机构2用于连接上下两组蒸镀机构3的膜面，减少自由膜长度；第一过辊21、第二过辊22、第三过辊23可以采用普通的光面辊，也可以采用各种形式的展平辊，也可以组合使用。
真空腔体1为整个组蒸镀机构提供真空工作环境，第一观察视窗4和第二观察视窗5设置在真空腔体1上分别用于观察两组蒸镀机构3的蒸发组件33的工作状态。
本发明实施例提供的一种双面连续镀膜的真空蒸镀装置的工作过程为：采用以自上放卷下部收卷为例，卷料放置在上侧蒸镀机构3的收放卷311上，卷料经过上侧跟随辊314后，进入上侧的展平辊315，之后通过引导辊316进入上侧的冷却组件32的冷却主鼓321，此时基材是A面位于冷却主鼓321的内侧，B面位于冷却主鼓321的外侧并且正对蒸发组件33，B面在上侧的蒸镀机构3上首先被镀上镀层；
经过转向辊机构2转向后对基材的B面进行蒸镀，具体地，经过后展平辊323后，依次经第一过辊21、第二过辊22、第三过辊23，进入下侧冷却组件32的前展平辊322后，柔性基材进入下侧的冷却主鼓321，此时基材变为B面在冷却主鼓321的内侧，A面在冷却主鼓321的外侧并且正对下方的蒸发组件33，A面在下侧的蒸镀机构3上也被镀上镀层；最后，经过下侧冷却组件32的后展平辊323后，经下侧的摆架单元312，最后被下侧的收放卷311收卷。经过这样一次镀膜即可实现在柔性基材上同时完成在膜面两面都镀上镀层。
本发明适用于较薄材料的真空蒸发镀膜过程，如2～30μm塑料薄膜、复合柔性基材、纸张、布料等基材在真空环境的蒸发镀膜过程；最优地，本系统更适于2～8μm塑料柔性基材如PET、PEN、PI、PP、PE以及无纺布、薄纸张等在真空环境的蒸发镀膜过程。
实施例1
本实施例1的放卷直径为600mm，柔性基材材料为卷状PI薄膜等，蒸发源为中频感应坩埚，坩埚中投入纯银颗粒，银的纯度≥99.995％；
本实施例1采用以自下放卷上部收卷的模式，穿料顺序为：下侧的收放卷311→下侧的跟随辊314→下侧的展平辊315→下侧的引导辊316→下侧的前展平辊322→下侧的冷却主鼓321→下侧的后展平辊323→第三过辊23→第二过辊22→第一过辊21→上侧的后展平辊323→上侧的冷却主鼓321→上侧的前展平辊322→上侧的引导辊316→上侧的展平辊315→上侧的跟随辊314→上侧的收放卷311，冷却主鼓采用冷却液循环冷却，冷却温度-20℃，在真空≤5×10-2Pa的条件下镀膜，以100～600m/min的走膜速度，一次可以同时在基材两面得到厚度的银镀层，该方法膜面外观良好，无褶皱，无镀空线。
实施例2
本实施例2的放卷直径为600mm，基材材料为聚酯纤维布，蒸发源为中频感应加热坩埚，将铜粒放入中频感应坩埚内，铜的纯度≥99.95％；
本实施例2采用以自上放卷下部收卷的模式，穿料顺序为：上侧的收放卷311→上侧的跟随辊314→上侧的展平辊315→上侧的引导辊316→上侧的前展平辊322→上侧的冷却主鼓321→上侧的后展平辊323→第一过辊21→第二过辊22→第三过辊23→下侧的后展平辊323→下侧的冷却主鼓321→下侧的前展平辊322→下侧的引导辊316→下侧的展平辊315→下侧的跟随辊314→下侧的收放卷311，冷却主鼓采用冷却液循环冷却，冷却温度-15℃，在真空≤6.7×10-2Pa的条件下镀膜，以100～600m/min的走膜速度，一次可以同时在基材两面得到厚度的铜镀层，该方法膜面外观良好，无褶皱，无镀空线。
以上所述，仅为本发明的较佳实施例而已，并非用于限定本发明的保护范围。
Claims (10)
1.一种双面连续镀膜的真空蒸镀装置，其特征在于，包括真空腔体(1)、设置在真空腔体(1)内的转向辊机构(2)和两组蒸镀机构(3)，所述转向辊机构(2)设置两组蒸镀机构(3)的之间用于变向柔性基材，两组蒸镀机构用于连续对柔性基材的上下两面进行真空蒸镀，待蒸镀的柔性基材沿一组所述蒸镀机构(3)进入经所述转向辊机构(2)后的另一组所述蒸镀机构(3)。
2.根据权利要求1所述的双面连续镀膜的真空蒸镀装置，其特征在于，所述蒸镀机构(3)包括卷绕组件(31)、冷却组件(32)和蒸发组件(33)，所述卷绕组件(31)和冷却组件(32)依次排列，所述蒸发组件(33)元设置在冷却组件(32)的底部，所述转向辊机构(2)设置两组蒸镀机构(3)的卷绕组件(31)的一侧；所述卷绕组件(31)用于收卷、放卷以及传送柔性基材，所述冷却组件(32)用于在蒸镀过程中降低柔性基材表面的温度，所述蒸发组件(33)用于在柔性基材表面蒸镀镀层。
3.根据权利要求2所述的双面连续镀膜的真空蒸镀装置，其特征在于，所述卷绕组件(31)包括收放卷(311)、摆架单元(312)，所述收放卷(311)用于收卷或者放卷待蒸镀的柔性基材；所述摆架单元(312)包括架体(313)、跟随辊(314)、展平辊(315)和引导辊(316)，所述跟随辊(314)、展平辊(315)和引导辊(316)依次设置在架体(313)上，所述跟随辊(314)靠近收放卷(311)设置，所述引导辊(316)靠近冷却单元(32)设置；所述架体(313)绕引导棍(316)所在的中心转动用于带动跟随辊(314)与收放卷(311)上的柔性基材的膜面最外层保持固定的距离。
4.根据权利要求3所述的双面连续镀膜的真空蒸镀装置，其特征在于，所述跟随辊(314)、展平辊(315)和引导辊(316)均设置至少一个。
5.根据权利要求3所述的双面连续镀膜的真空蒸镀装置，其特征在于，所述冷却组件(32)包括冷却主鼓(321)、前展平辊(322)、后展平辊(323)，所述前展平辊(322)和后展平辊(323)分别设置在冷却主鼓(321)的两侧。
6.根据权利要求4所述的双面连续镀膜的真空蒸镀装置，其特征在于，所述展平辊(315)、前展平辊(322)和后展平辊(323)均采用弯辊、胶条辊、多段辊或者开幅辊。
7.根据权利要求4所述的双面连续镀膜的真空蒸镀装置，其特征在于，所述展平辊(315)、前展平辊(322)和后展平辊(323)均采用光面过辊或者毛面过辊。
8.根据权利要求2所述的双面连续镀膜的真空蒸镀装置，其特征在于，所述蒸发组件(33)采用电阻式蒸发、中频感应坩埚蒸发或电子束蒸发。
9.根据权利要求2所述的双面连续镀膜的真空蒸镀装置，其特征在于，所述转向辊机构(2)包括第一过辊(21)、第二过辊(22)、第三过辊(23)，所述第一过辊(21)和第三过辊(23)靠近分别设置在两组蒸镀机构(3)的冷却组件(32)的一侧，所述第二过辊(22)设置在第一过辊(21)和第三过辊(23)之间。
10.根据权利要求1-9任意一项所述的双面连续镀膜的真空蒸镀装置，其特征在于，其还包括第一观察视窗(4)和第二观察视窗(5)，所述第一观察视窗(4)和第二观察视窗(5)设置在真空腔体(1)上分别用于观察两组蒸镀机构(3)的工作状态。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Country Status (1)
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| CN (1) | CN109355634A (zh) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113265623A (zh) * | 2021-06-24 | 2021-08-17 | 广东腾胜科技创新有限公司 | 一种采用大功率电子束蒸镀的双面卷绕镀膜机 |
| CN113981408A (zh) * | 2021-11-12 | 2022-01-28 | 重庆金美新材料科技有限公司 | 一种薄膜蒸镀装置 |
| CN114438456A (zh) * | 2021-12-24 | 2022-05-06 | 重庆金美新材料科技有限公司 | 一种轻质、高导电薄膜的制备装置和制备工艺 |
| CN114481034A (zh) * | 2022-01-04 | 2022-05-13 | 重庆金美新材料科技有限公司 | 一种复合金属箔的制备方法、设备和系统 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2018
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