CN109343267A - 量子点彩膜基板及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本申请提出了一种量子点彩膜基板及量子点彩膜基板的制备方法。量子点彩膜基板包括：一基板，所述基板包括数个第一子像素区域、数个第二子像素区域、及数个第三子像素区域；其中，所述数个第二子像素区域及所述数个第三子像素区域的材料相同且所述数个第二子像素区域及所述数个第三子像素区域的材料与所述数个第一子像素区域的材料不同。

Description

量子点彩膜基板及其制备方法
技术领域
本申请涉及显示领域，特别涉及一种彩膜基板、及彩膜基板的制备方法。
背景技术
量子点材料的吸收及发射波长随尺寸变化而变化，具有发光光谱集中，色纯度高且发光颜色可通过量子点材料的尺寸、结构或成分进行简易调节的优点。将量子点材料应用在显示设备中可有效提升显示设备的色域及色彩还原能力。
量子点液晶显示装置是依靠量子点材料在背光激发下，电子和空穴复合发光来实现颜色显示的。量子点材料拥有较宽的吸收峰，和较窄的发射峰，使其在颜色显示上可以表现更高的纯度，从而提升液晶显示装置的色域，增加液晶显示面板的竞争力。
在现有量子点液晶显示装置中，量子点层中红色量子点材料、绿色量子点材料以及蓝色量子点材料需要在不同的工序中单独制备，制程工艺复杂，产能较低。
专利编号CN105301827A公开了一种量子点彩膜基板的制备方法及量子点彩膜基板，其方案的核心是：提供了一种量子点彩膜基板，包括基板、滤光层以及量子点层；量子点层包括位于红色子像素区域和绿色子区域上的第一量子点层，及位于蓝色子像素区域上的第二量子点层。所述量子点层由量子点胶形成；所述量子点胶由红色量子点材料、绿色量子点材料及光引发剂混合于热固胶中得到。并公布了所述第一量子点层内的红色量子点材料、绿色量子点材料在蓝色激发下共同发出红光和绿光。所述第二量子点层内的量子点材料在光照下不发光。但制程工艺仍复杂，产能较低。
因此，目前亟需一种显示面板以解决上述问题。
发明内容
有鉴于此，本申请提供一种量子点彩膜基板及其制备方法，以解决现有制程工艺复杂，产能较低的技术问题。
为解决上述问题，本申请提供的技术方案如下：
本申请的一实施例提供一种量子点彩膜基板，包括：
一基板，所述基板包括数个第一子像素区域、数个第二子像素区域、及数个第三子像素区域；其中：
所述数个第二子像素区域及所述数个第三子像素区域的材料相同且所述数个第二子像素区域及所述数个第三子像素区域的材料与所述数个第一子像素区域的材料不同。
本申请的一实施例的量子点彩膜基板，其中所述基板的所述第一子像素区域上具有一蓝色量子点材料。
本申请的一实施例的量子点彩膜基板，其中所述第二子像素区域上具有一层绿色滤光膜、所述第三子像素区域上具有一层红色滤光膜。
本申请的一实施例的量子点彩膜基板，其中所述基板上具有一黑色矩阵分隔所述第一子像素区域、所述第二子像素区域、及所述第三子像素区域。
本申请的一实施例的量子点彩膜基板，其中所述数个第二子像素区域及所述数个第三子像素区域的材料包括一红色量子点材料及一绿色量子点材料。
本发明还提出了一种量子点彩膜基板的制备方法，包括如下步骤：
步骤S1、提供一基板，所述基板包括数个第一子像素区域、数个第二子像素区域、及数个第三子像素区域。
步骤S2、在所述基板上涂布一层光阻材料，所述光阻材料中包括第二量子点材料及第三量子点材料。
步骤S3、对光阻材料进行图案化处理，去除第一子像素区域上的光阻材料。
本申请的一实施例的量子点彩膜基板的制备方法，其中，所述基板的所述第一子像素区域上具有一层第一量子点材料。本申请的一实施例的量子点彩膜基板的制备方法，其中所述提供一基板的步骤中，所述基板的所述第二子像素区域上具有一层绿色滤光膜、所述第三子像素区域上具有一层红色滤光膜。
本申请的一实施例的量子点彩膜基板的制备方法，其中，对光阻材料进行图案化处理的步骤更包括：
对所述光阻材料进行曝光、显影、及烘烤。
本申请的一实施例的量子点彩膜基板的制备方法，其中所述提供一基板的步骤中，所述基板上具有一黑色矩阵分隔所述第一子像素区域、所述第二子像素区域、及所述第三子像素区域。
本申请的一实施例的量子点彩膜基板的制备方法，其中，所述第二量子点材料及所述第三量子点材料混合的比例依照产品需求特性进行调整。
本申请的一实施例的量子点彩膜基板的制备方法，其中，所述第一量子点材料为蓝色量子点材料。
本申请的一实施例的量子点彩膜基板的制备方法，其中，所述第二量子点材料为绿色量子点材料，所述第三量子点材料为红色量子点材料。
本发明还提出了一种量子点显示面板的制备方法，包括如下步骤：
步骤P1、提供一蓝光背光模块。
步骤P2、提供一量子点彩膜基板置于所述蓝光背光模块上。
步骤P3、提供一液晶面板置于所述量子点彩膜基板上。其中，量子点彩膜基板的制备方法，包括如下步骤：
步骤S1、提供一基板，所述基板包括数个第一子像素区域、数个第二子像素区域、及数个第三子像素区域。
步骤S2、在所述基板上涂布一层光阻材料，所述光阻材料中包括第二量子点材料及第三量子点材料。
步骤S3、对光阻材料进行图案化处理，去除第一子像素区域上的光阻材料。
本申请的一实施例的量子点显示面板的制备方法，其中，所述基板的所述第一子像素区域上具有一层第一量子点材料。
本申请的一实施例的量子点显示面板的制备方法，其中所述提供一基板的步骤中，所述基板的所述第二子像素区域上具有一层绿色滤光膜、所述第三子像素区域上具有一层红色滤光膜。
本申请的一实施例的量子点显示面板的制备方法，其中所述提供一基板的步骤中，所述基板上具有一黑色矩阵分隔所述第一子像素区域、所述第二子像素区域、及所述第三子像素区域。
有益效果：本申请通过。红色子像素区域和绿色子像素区域上的量子点材料在同一道光罩工艺中制备，红色量子点材料和绿色量子点材料混合的比例会依照产品需求特性进行调整，在保证颜色的同时进而节省一道制程工艺，提升工厂产能。
为让本发明的上述内容能更明显易懂，下文特举优选实施例，并配合所附图式，作详细说明如下：
附图说明
图1为本申请量子点彩膜基板的制备方法步骤示意图。
图2为本申请量子点显示面板的制备方法步骤示意图。
图3为本申请量子点彩膜基板制备方法的步骤1的方法示意图。
图4为本申请量子点彩膜基板制备方法的步骤2的方法示意图。
图5为本申请量子点彩膜基板制备方法的步骤3的曝光制程示意图。
图6为本申请量子点彩膜基板制备方法的步骤3的显影制程示意图。
图7为本申请量子点彩膜基板的应用方式示意图。
图8为本申请量子点彩膜基板的光阻材料被蓝光照射后所激发的光的光谱图。
图9为本申请量子点彩膜基板的光阻材料被蓝光照射后的激发光经过红色滤光膜后的光谱图。
图10为本申请量子点彩膜基板的光阻材料被蓝光照射后的激发光经过绿色滤光膜后的光谱图。
具体实施方式
以下各实施例的说明是参考附加的图式，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。再者，本发明所提到的方向用语，例如上、下、顶、底、前、后、左、右、内、外、侧面、周围、中央、水平、横向、垂直、纵向、轴向、径向、最上层或最下层等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。
请参阅图6，本申请的一实施例提供一种量子点彩膜基板100，包括：
一基板1，所述基板包括数个第一子像素区域2、数个第二子像素区域3、及数个第三子像素区域4。
具体的，所述数个第一子像素区域2例如是蓝色子像素区域，所述数个第二子像素区域3例如是绿色子像素区域，所述数个第三子像素区域4例如是红色子像素区域，本发明不限于此。本领域的一般技艺人士当可依此说明适当选择不同的颜色组合。
所述数个第二子像素区域3及所述数个第三子像素区域4的材料相同且所述数个第二子像素区域3及所述数个第三子像素区域4的材料与所述数个第一子像素区域2的材料不同。
本申请的一实施例的量子点彩膜基板100，其中所述第一子像素区域2上具有一第一量子点材料21，所述第一量子点材料21为蓝色量子点材料。
本申请的一实施例的量子点彩膜基板100，其中所述第二子像素区域3上具有一层绿色滤光膜6、所述第三子像素区域4上具有一层红色滤光膜7。
本申请的一实施例的量子点彩膜基板100，其中所述基板1上具有一黑色矩阵11分隔所述第一子像素区域2、所述第二子像素区域3、及所述第三子像素区域4。
本申请的一实施例的量子点彩膜基板100，其中所述数个第二子像素区域3、及所述数个第三子像素区域4的材料包括一第三量子点材料9及一第二量子点材料10。所述第三量子点材料9为红色量子点材料，所述第二量子点材料10为绿色量子点材料。本发明不限于此。本领域的一般技艺人士当可依此说明适当选择不同的颜色组合。
请参阅图1，图1为本申请量子点彩膜基板的制备方法步骤示意图。
本申请的一实施例提供一种量子点彩膜基板的制备方法，包括如下步骤：
步骤S1、提供一基板，所述基板包括数个第一子像素区域、数个第二子像素区域、及数个第三子像素区域。
步骤S2、在所述基板上涂布一层光阻材料，所述光阻材料中包括第二量子点材料及第三量子点材料。
步骤S3、对光阻材料进行图案化处理，去除第一子像素区域上的光阻材料。
请参阅图3，具体的，本申请的一实施例的一种量子点彩膜基板的制备方法的步骤S1、包括：提供一基板1，所述基板包括数个第一子像素区域2、数个第二子像素区域3、及数个第三子像素区域4。
具体的，所述数个第一子像素区域2例如是蓝色子像素区域，所述数个第二子像素区域3例如是绿色子像素区域，所述数个第三子像素区域4例如是红色子像素区域，本发明不限于此。本领域的一般技艺人士当可依此说明适当选择不同的颜色组合。
本申请的一实施例的量子点彩膜基板的制备方法，其中，所述基板1的所述第一子像素区域2上具有一层第一量子点材料5。
本申请的一实施例的量子点彩膜基板的制备方法，其中所述提供一基板的步骤S1中，所述基板1的所述第二子像素区域3上具有一层绿色滤光膜6、所述第三子像素区域4上具有一层红色滤光膜7。
请参阅图4，具体的，本申请的一实施例的一种量子点彩膜基板的制备方法的步骤S2、包括：在所述基板1上涂布一层光阻材料8，所述光阻材料8中包括第三量子点材料9及第二量子点材料10。
请参阅图5及图6，本申请的一实施例的量子点彩膜基板的制备方法，其中，对光阻材料进行图案化处理的方式可以是光刻或其他方式。
步骤S3更包括：
步骤S3-1：对所述光阻材料进行曝光、步骤S3-2：对所述光阻材料进行显影及烘烤。
本申请的一实施例的量子点彩膜基板的制备方法，其中所述提供一基板的步骤S1中，所述基板上具有一黑色矩阵11分隔所述第一子像素区域2、所述第二子像素区域3、及所述第三子像素区域4。
本申请的一实施例的量子点彩膜基板的制备方法，其中，所述第三量子点材料9及所述第二量子点材料10混合的比例依照产品需求特性进行调整。
具体的，所述第一量子点材料5为蓝色量子点材料。所述第二量子点材料10为绿色量子点材料，所述第三量子点材料9为红色量子点材料。本发明不限于此。本领域的一般技艺人士当可依此说明适当选择不同的颜色组合。
具体的，所述量子点材料为II-VI族量子点材料、I-III-VI族量子点材料中的一种或多种。具体的，所述量子点材料为ZnCdSe2,CdSe,CdTe,CuInS2,或ZnCuInS3中的一种或多种。
请参阅图2及图1，本发明还提出了一种量子点显示面板的制备方法，包括如下步骤：
步骤P1、提供一蓝光背光模块。
步骤P2、提供一量子点彩膜基板置于所述蓝光背光模块上。
步骤P3、提供一液晶面板置于所述量子点彩膜基板上。其中，量子点彩膜基板的制备方法，包括如下步骤：
步骤S1、提供一基板，所述基板包括数个第一子像素区域、数个第二子像素区域、及数个第三子像素区域。
步骤S2、在所述基板上涂布一层光阻材料，所述光阻材料中包括第二量子点材料及第三量子点材料。
步骤S3、对光阻材料进行图案化处理，去除第一子像素区域上的光阻材料。
具体的，所述数个第一子像素区域2例如是蓝色子像素区域，所述数个第二子像素区域3例如是绿色子像素区域，所述数个第三子像素区域4例如是红色子像素区域，本发明不限于此。本领域的一般技艺人士当可依此说明适当选择不同的颜色组合。
具体的，所述第一量子点材料5为蓝色量子点材料。所述第二量子点材料10为绿色量子点材料，所述第三量子点材料9为红色量子点材料。本发明不限于此。本领域的一般技艺人士当可依此说明适当选择不同的颜色组合。
请参阅图7，本申请量子点彩膜基板的应用方式，具体的，当蓝色背光模块所发出的蓝色光束12通过本申请的量子点彩膜基板时，蓝色光束12通过蓝色子像素区域2的蓝色量子点材料5，激发蓝色量子点材料5发出蓝光13。
蓝色光束12通过绿色子像素区域3的红色量子点材料9及绿色量子点材料10，激发红色量子点材料9及绿色量子点材料10对应发出红光15及绿光14。然后，红光15及绿光14通过绿色滤光膜6时，红光15被滤掉而仅绿光14通过。
蓝色光束12通过红色子像素区域4的红色量子点材料9及绿色量子点材料10，激发红色量子点材料9及绿色量子点材料10对应发出红光15及绿光14。然后，红光15及绿光14通过红色滤光膜7时，绿光14被滤掉而仅红光15通过。
请参阅图8-10，由图8的量子点彩膜基板的光阻材料被蓝光照射后所激发的光的光谱图中可看出，激发的光含有红光及绿光的成分。
由图9的量子点彩膜基板的光阻材料被蓝光照射后的激发光经过红色滤光膜后的光谱图中可看出，被激发的红光及绿光经过红色滤光膜后仅剩红光的成分。
由图10的量子点彩膜基板的光阻材料被蓝光照射后的激发光经过绿色滤光膜后的光谱图中可看出，被激发的红光及绿光经过绿色滤光膜后仅剩绿光的成分。
有益效果：本申请通过红色子像素区域和绿色子像素区域上的量子点材料在同一道光罩工艺中制备，红色量子点材料和绿色量子点材料混合的比例会依照产品需求特性进行调整，在保证颜色的同时进而节省一道制程工艺，提升工厂产能。
综上所述，虽然本申请已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本申请，本领域的普通技术人员，在不脱离本申请的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本申请的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims (10)

1.一种量子点彩膜基板，包括：
一基板，所述基板包括数个第一子像素区域、数个第二子像素区域、及
数个第三子像素区域；其特征在于：
所述数个第二子像素区域及所述数个第三子像素区域的材料相同且所述数个第二子像素区域及所述数个第三子像素区域的材料与所述数个第一子像素区域的材料不同。
2.根据权利要求1所述的量子点彩膜基板，其特征在于：所述基板的所述第一子像素区域上具有一蓝色量子点材料。
3.根据权利要求1所述的量子点彩膜基板，其特征在于：所述第二子像素区域上具有一层绿色滤光膜、所述第三子像素区域上具有一层红色滤光膜。
4.根据权利要求1所述的量子点彩膜基板，其特征在于：所述基板上具有一黑色矩阵分隔所述第一子像素区域、所述第二子像素区域、及所述第三子像素区域。
5.根据权利要求所述的量子点彩膜基板，其特征在于：所述数个第二子像素区域、及所述数个第三子像素区域的材料包括一红色量子点材料及一绿色量子点材料。
6.一种量子点彩膜基板的制备方法，包括如下步骤：
步骤S1、提供一基板，所述基板包括数个第一子像素区域、数个第二子像素区域、及数个第三子像素区域；
步骤S2、在所述基板上涂布一层光阻材料；及
步骤S3、对光阻材料进行图案化处理，去除第一子像素区域上的光阻材料；其特征在于：
所述光阻材料中包括一第二量子点材料及一第三量子点材料。
7.根据权利要求6所述的量子点彩膜基板的制备方法，其特征在于：所述基板的所述第一子像素区域上具有一层第一量子点材料。
8.根据权利要求6所述的量子点彩膜基板的制备方法，其特征在于：所述提供一基板的步骤中，所述基板的所述第二子像素区域上具有一层绿色滤光膜、所述第三子像素区域上具有一层红色滤光膜。
9.根据权利要求6所述的量子点彩膜基板的制备方法，其特征在于：对光阻材料进行图案化处理的步骤更包括：
对所述光阻材料进行曝光、显影、及烘烤。
10.根据权利要求6所述的量子点彩膜基板的制备方法，其特征在于：所述提供一基板的步骤中，所述基板上具有一黑色矩阵分隔所述第一子像素区域、所述第二子像素区域、及所述第三子像素区域。
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