CN109338335B - 一种用于化学气相沉淀的暗影框结构 - Google Patents
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Abstract
本申请提供了一种用于化学气相沉淀的暗影框结构，包括：多条陶瓷边框，该多条陶瓷边框边框依次首尾连接形成框状结构，任意相连的两条所述陶瓷边框的连接处分别设置有插槽以及凸起部，该陶瓷边框的凸起部插设在另一陶瓷边框的插槽中，且该陶瓷边框的设置有插槽的侧壁部位开设有贯穿该插槽的通孔，该凸起部上对应设置有螺纹孔；多个固定螺栓，每一所述固定螺栓分别穿过该通孔并螺接在对应凸起部上的螺纹孔中，所述固定螺栓的延伸方向与所述框状结构所在平面平行。
Description
技术领域
本申请涉及显示领域，具体涉及一种用于化学气相沉淀的暗影框结构。
背景技术
VD在TFT(Thin Film Transistor)是薄膜晶体管显示器制造中承载重要作用，主要进行氮化硅，氧化硅，无定形硅的成膜。其中化学气相沉淀的暗影框起到固定玻璃基板和保证膜边的作用。目前暗影框有两种：铝材质，陶瓷材质。材质为陶瓷的暗影框结构对比铝材质有以下好处：1.成膜保证区范围广。膜边更好，不会有晕的效应。2.不需要阳极氧化，易清洗，清洗周期长。3.不易变形。
但陶瓷式暗影框存在缺陷：暗影框随基座上下运动时，拼接处是间隙配合，陶瓷限位柱易从孔内脱落，造成暗影框结构异常，陶瓷限位柱易对玻璃基板造成损伤。
因此，现有技术存在缺陷，急需改进。
发明内容
本申请的目的是提供一种用于化学气相沉淀的暗影框结构，具有提高暗影框的稳定性，避免陶瓷限位柱对玻璃基板造成损伤的有益效果。
本申请实施例提供了一种用于化学气相沉淀的暗影框结构，包括：
多条陶瓷边框，该多条陶瓷边框边框依次首尾连接形成框状结构，任意相连的两条所述陶瓷边框的连接处分别设置有插槽以及凸起部，该陶瓷边框的凸起部插设在另一陶瓷边框的插槽中，且该陶瓷边框的设置有插槽的侧壁部位开设有贯穿该插槽的通孔，该凸起部上对应设置有螺纹孔；
多个固定螺栓，每一所述固定螺栓分别穿过该通孔并螺接在对应凸起部上的螺纹孔中，所述固定螺栓的延伸方向与所述框状结构所在平面平行。
在本申请所述的用于化学气相沉淀的暗影框结构中，该框状结构呈圆角矩形状。
在本申请所述的用于化学气相沉淀的暗影框结构中，所述多条陶瓷边框包括四条陶瓷边框。
在本申请所述的用于化学气相沉淀的暗影框结构中，所述固定螺栓与所述陶瓷边框的膨胀系数相同。
在本申请所述的用于化学气相沉淀的暗影框结构中，所述固定螺栓为陶瓷螺栓。
在本申请所述的用于化学气相沉淀的暗影框结构中，所述通孔的轴向与所述插槽的延伸方向垂直，所述螺纹孔的轴向与所述凸起部的延伸方向垂直，所述通孔与对应螺纹孔同轴设置。
在本申请所述的用于化学气相沉淀的暗影框结构中，所述凸起部呈矩形条状，所述凹槽的形状与所述凸起部形状适配。
在本申请所述的用于化学气相沉淀的暗影框结构中，在同一所述凸起部上，该多个螺纹孔沿着该凸起部的延伸方向均匀间隔分布。
在本申请所述的用于化学气相沉淀的暗影框结构中，每一所述陶瓷边框的一端设置有凸起部，另一端设置有插槽。
在本申请所述的用于化学气相沉淀的暗影框结构中，一组相对的两条陶瓷边框的两端均分别设置有凸起部，另一组相对的两条陶瓷边框的两端分别设置插槽。
本申请通过将该用于限位的固定螺栓的延伸方向与该框体所在平面平行，可以提高暗影框的稳定性，避免陶瓷限位柱对玻璃基板造成损伤的有益效果。
附图说明
图1是本申请实施例中的用于化学气相沉淀的暗影框结构的一种结构示意图。
图2是本申请实施例中的用于化学气相沉淀的暗影框结构的插槽以及凸起部处的分解图。
具体实施方式
下面详细描述本申请的实施方式，所述实施方式的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施方式是示例性的，仅用于解释本申请，而不能理解为对本申请的限制。
在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接或可以相互通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
在本申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本申请。此外，本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。
请参照图1，图1是本申请一实施例中的用于化学气相沉淀的暗影框结构的结构示意图，该用于化学气相沉淀的暗影框结构，包括：多条陶瓷边框10以及多个固定螺栓20。
请同时参照图2，其中，该多条陶瓷边框10边框依次首尾连接形成框状结构，且任意相连的两条所述陶瓷边框10的连接处分别设置有插槽12以及凸起部11，该陶瓷边框10的凸起部11插设在另一陶瓷边框10的插槽12中，且该陶瓷边框10的设置有插槽12的侧壁部位开设有贯穿该插槽12的通孔121，该凸起部11上对应设置有螺纹孔111；每一所述固定螺栓20分别穿过该通孔121并螺接在对应凸起部11上的螺纹孔111中，所述固定螺栓的延伸方向与所述框状结构所在平面平行。进一步地，为了进一步增强连接的紧密性，减小晃动，在该凸起部11的正面和背面分别设置一弹性缓冲层，当然，该弹性缓冲层上对应开设有与该通孔121相对的穿孔。
其中，该凸起部11上沿着所述凸起部11的延伸方向设置有限位肋112，所述插槽12的内壁上对应设置有限位槽122，所述限位肋112卡设在所述限位槽122中。
其中，该框状结构呈圆角矩形状，也即是该多条陶瓷边框10包括四条陶瓷边框10。
优选地，该固定螺栓20与所述陶瓷边框10的膨胀系数相同。固定螺栓20为陶瓷螺栓。
其中，该通孔的轴向与插槽12的延伸方向垂直，螺纹孔的轴向与凸起部11的延伸方向垂直，通孔与对应螺纹孔同轴设置。凸起部11呈矩形条状，所述凹槽的形状与所述凸起部11形状适配。
该凸起部11与该陶瓷边框10为一体结构，采用一体成型的方式制成。
在同一所述凸起部11上，该多个螺纹孔沿着该凸起部11的延伸方向均匀间隔分布。
在一些实施例中，每一所述陶瓷边框10的一端设置有凸起部11，另一端设置有插槽12。
在本图1所示的实施例中，一组相对的两条陶瓷边框10的两端均分别设置有凸起部11，另一组相对的两条陶瓷边框10的两端分别设置插槽12。其中，该陶瓷边框10的长度方向与其上设置的凸起部11的延伸方向相互垂直。其中，该陶瓷边框10的长度方向其上设置的插槽12的延伸方向平行或者共线。
本申请通过将该用于限位的固定螺栓的延伸方向与该框体所在平面平行，可以提高暗影框的稳定性，避免陶瓷限位柱对玻璃基板造成损伤的有益效果。
在本说明书的描述中，参考术语“一个实施方式”、“某些实施方式”、“示意性实施方式”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合所述实施方式或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本申请的至少一个实施方式或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施方式或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施方式或示例中以合适的方式结合。
综上所述，虽然本申请已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本申请，本领域的普通技术人员，在不脱离本申请的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本申请的保护范围以权利要求界定的范围为准。
Claims (10)
1.一种用于化学气相沉淀的暗影框结构，其特征在于，包括：
多条陶瓷边框，该多条陶瓷边框边框依次首尾连接形成框状结构，任意相连的两条所述陶瓷边框的连接处分别设置有插槽以及凸起部，该陶瓷边框的凸起部插设在另一陶瓷边框的插槽中，且该陶瓷边框的设置有插槽的侧壁部位开设有贯穿该插槽的通孔，该凸起部上对应设置有螺纹孔；
多个固定螺栓，每一所述固定螺栓分别穿过该通孔并螺接在对应凸起部上的螺纹孔中，所述固定螺栓的延伸方向与所述框状结构所在平面平行。
2.根据权利要求1所述的用于化学气相沉淀的暗影框结构，其特征在于，该框状结构呈圆角矩形状。
3.根据权利要求2所述的用于化学气相沉淀的暗影框结构，其特征在于，所述凸起部上沿着所述凸起部的延伸方向设置有限位肋，所述插槽的内壁上对应设置有限位槽，所述限位肋卡设在所述限位槽中。
4.根据权利要求1所述的用于化学气相沉淀的暗影框结构，其特征在于，所述固定螺栓与所述陶瓷边框的膨胀系数相同。
5.根据权利要求4所述的用于化学气相沉淀的暗影框结构，其特征在于，所述固定螺栓为陶瓷螺栓。
6.根据权利要求1所述的用于化学气相沉淀的暗影框结构，其特征在于，所述通孔的轴向与所述插槽的延伸方向垂直，所述螺纹孔的轴向与所述凸起部的延伸方向垂直，所述通孔与对应螺纹孔同轴设置。
7.根据权利要求1所述的用于化学气相沉淀的暗影框结构，其特征在于，所述凸起部呈矩形条状，所述插槽的形状与所述凸起部形状适配。
8.根据权利要求1所述的用于化学气相沉淀的暗影框结构，其特征在于，在同一所述凸起部上，该多个螺纹孔沿着该凸起部的延伸方向均匀间隔分布。
9.根据权利要求2所述的用于化学气相沉淀的暗影框结构，其特征在于，每一所述陶瓷边框的一端设置有凸起部，另一端设置有插槽。
10.根据权利要求2所述的用于化学气相沉淀的暗影框结构，其特征在于，一组相对的两条陶瓷边框的两端均分别设置有凸起部，另一组相对的两条陶瓷边框的两端分别设置插槽。
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