CN109248835A - 一种真空浸渍罐及真空浸渍设备 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种真空浸渍罐及真空浸渍设备，所述真空浸渍罐包括相对设置的底板和顶盖、位于底板和顶盖之间的罐筒，所述罐筒的上部设有安装法兰，所述顶盖固定安装于安装法兰上，所述罐筒内壁设有向内凸出的凸起部，凸起部上罐筒内壁设有若干垂直于凸起部上表面的轨道，所述凸起部上安装有载板，所述载板上设有若干与轨道对应设置的凹槽，所述载板通过凹槽及轨道的配合固定安装，所述载板用于放置待浸渍工件。本发明中通过在罐筒内设置有凸起部及轨道，载板上设置有对应的凹槽，通过凹槽及轨道能够将载板安装于凸起部上方，待浸渍工件放置于载板上，避免了吊篮引起的密封不良问题，提高了浸渍效果。

Description

一种真空浸渍罐及真空浸渍设备
技术领域
本发明涉及真空浸技术领域，特别是涉及一种真空浸渍罐及真空浸渍设备。
背景技术
现有技术中电机线圈、铁芯、变压器等元器件生产过程中需进行真空浸渍和烘干等工艺步骤。
将固态物质浸泡于液态溶液中，吸收溶质或溶剂经相互反应使固态物质获得改性效果从而提高其品质的工艺操作成为浸渍。浸渍在生产中的应用十分普遍，许多浸渍工艺工艺要求在限定的温度内进行，以保存参与反应和热敏性成分和浸渍介质的固有特性和特色。采用真空浸渍技术合理调整操作工艺能使浸渍工艺获得明显改善。
现有技术中真空浸渍设备包括真空浸渍罐(浸渍缸)，如专利号为ZL99228572.0的专利中，浸渍槽由升降装置驱动升降，吊篮上侧设有一真空盖板，升降装置驱动浸渍槽上升后浸渍槽的上端与真空盖板密封配合。然而，待浸渍的工件放置于吊篮中，吊篮悬挂于真空盖板下方，工件及吊篮的晃动会影响真空盖板的密封性，从而影响浸渍效果。
因此，针对上述技术问题，有必要提供一种真空浸渍罐及真空浸渍设备。
发明内容
有鉴于此，本发明的目的在于提供一种真空浸渍罐及真空浸渍设备。
为了实现上述目的，本发明一实施例提供的技术方案如下：
一种真空浸渍罐，所述真空浸渍罐包括相对设置的底板和顶盖、位于底板和顶盖之间的罐筒，所述罐筒的上部设有安装法兰，所述顶盖固定安装于安装法兰上，所述罐筒内壁设有向内凸出的凸起部，凸起部上罐筒内壁设有若干垂直于凸起部上表面的轨道，所述凸起部上安装有载板，所述载板上设有若干与轨道对应设置的凹槽，所述载板通过凹槽及轨道的配合固定安装，所述载板用于放置待浸渍工件。
作为本发明的进一步改进，所述罐筒内壁上均匀设有三个垂直设置的轨道，所述载板表面均匀设有与轨道对应设置的三个凹槽。
作为本发明的进一步改进，所述载板自中心向外侧依次包括载板本体、载板连接部及载板安装部，所述载板本体及载板安装部呈水平设置，所述载板本体的竖直高度低于载板安装部的竖直高度。
作为本发明的进一步改进，所述载板连接部与水平面的夹角为10°～40°。
作为本发明的进一步改进，所述载板本体上设有若干阵列分布的通孔。
作为本发明的进一步改进，所述通孔的形状为圆形、椭圆形、三角形、方形中的一种或多种。
作为本发明的进一步改进，所述凸起部上表面呈平面，下表面与罐筒内壁之间的夹角为锐角。
作为本发明的进一步改进，所述凸起部距离底板的距离为罐筒高度的1/10～3/10。
本发明一实施例提供的技术方案如下：
一种真空浸渍设备，所述真空浸渍设备包括壳体及位于壳体内的真空浸渍罐，所述真空浸渍罐为上述的真空浸渍罐。
本发明的有益效果是：
本发明中通过在罐筒内设置有凸起部及轨道，载板上设置有对应的凹槽，通过凹槽及轨道能够将载板安装于凸起部上方，待浸渍工件放置于载板上，避免了吊篮引起的密封不良问题，提高了浸渍效果；
载板中心的载板本体高度低于边缘载板安装部的高度，待浸渍工件放置于载板上后位于载板本体上，不会与罐筒边缘接触，提高了浸渍效果。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明中记载的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明一具体实施例中真空浸渍罐的剖视结构示意图；
图2为图1中的局部放大结构示意图；
图3为本发明一具体实施例中载板的俯视结构示意图。
具体实施方式
为了使本技术领域的人员更好地理解本发明中的技术方案，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本发明保护的范围。
在本发明的各个图示中，为了便于图示，结构或部分的某些尺寸会相对于其它结构或部分扩大，因此，仅用于图示本发明的主题的基本结构。
本文使用的例如“左”、“右”、“左侧”、“右侧”等表示空间相对位置的术语是出于便于说明的目的来描述如附图中所示的一个单元或特征相对于另一个单元或特征的关系。空间相对位置的术语可以旨在包括设备在使用或工作中除了图中所示方位以外的不同方位。例如，如果将图中的设备翻转，则被描述为位于其他单元或特征“右侧”的单元将位于其他单元或特征“左侧”。因此，示例性术语“右侧”可以囊括左侧和右侧这两种方位。设备可以以其他方式被定向(旋转90度或其他朝向)，并相应地解释本文使用的与空间相关的描述语。
参图1、图2所示，本发明一具体实施例中的真空浸渍罐10包括相对设置的底板11和顶盖12、位于底板11和顶盖12之间的罐筒13，罐筒13的上部设有安装法兰14，顶盖12固定安装于安装法兰14上。
另外，罐筒13内壁设有向内凸出的凸起部15，凸起部15上安装有载板16，载板16用于收容待浸渍工件。
为了保证真空浸渍罐的密封性能，在安装法兰14上设有环形的收容槽(未标号)，收容槽中固定安装有密封圈141，通过密封圈的设置能够保证真空浸渍罐的密封性。
本实施例中，参图3所示，载板16自中心向外侧依次包括载板本体161、载板连接部162及载板安装部163，其中，载板本体161及载板安装部163呈水平设置，且载板本体161的竖直高度低于载板安装部163的竖直高度，载板连接部162与水平面的夹角为10°～40°，本实施例中载板连接部162与水平面的夹角为20°。
其中，载板本体161上设有若干阵列分布的通孔1611，通孔1611的形状为圆形，当然，在其他实施例中通孔的形状也可以为其他形状，如椭圆形、三角形、方形等中的一种或多种。
进一步地，凸起部15上罐筒13内壁设有若干垂直于凸起部上表面的轨道151，载板15上的载板安装部163外侧设有若干与轨道对应设置的凹槽1631。如本实施例中罐筒13内壁上均匀设有三个垂直设置的轨道151，载板16表面均匀设有与轨道对应设置的三个凹槽1631，轨道151与凹槽1631对应设置，以方便将载板从上向下安装至凸起部15上。
本实施例中凸起部15上表面呈平面，下表面与罐筒内壁之间的夹角为锐角，凸起部距离底板的距离为罐筒高度的1/10～3/10。优选地，本实施例中凸起部距离底板的距离为罐筒高度的1/5。
另外，本发明还公开了一种真空浸渍设备，该真空浸渍设备包括壳体及位于壳体内的真空浸渍罐，真空浸渍罐为上述的真空浸渍罐。
由以上技术方案可以看出，本发明具有以下有益效果：
本发明中通过在罐筒内设置有凸起部及轨道，载板上设置有对应的凹槽，通过凹槽及轨道能够将载板安装于凸起部上方，待浸渍工件放置于载板上，避免了吊篮引起的密封不良问题，提高了浸渍效果；
载板中心的载板本体高度低于边缘载板安装部的高度，待浸渍工件放置于载板上后位于载板本体上，不会与罐筒边缘接触，提高了浸渍效果。
对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。

Claims (9)

1.一种真空浸渍罐，其特征在于，所述真空浸渍罐包括相对设置的底板和顶盖、位于底板和顶盖之间的罐筒，所述罐筒的上部设有安装法兰，所述顶盖固定安装于安装法兰上，所述罐筒内壁设有向内凸出的凸起部，凸起部上罐筒内壁设有若干垂直于凸起部上表面的轨道，所述凸起部上安装有载板，所述载板上设有若干与轨道对应设置的凹槽，所述载板通过凹槽及轨道的配合固定安装，所述载板用于放置待浸渍工件。
2.根据权利要求1所述一种真空浸渍罐，其特征在于，所述罐筒内壁上均匀设有三个垂直设置的轨道，所述载板表面均匀设有与轨道对应设置的三个凹槽。
3.根据权利要求1所述一种真空浸渍罐，其特征在于，所述载板自中心向外侧依次包括载板本体、载板连接部及载板安装部，所述载板本体及载板安装部呈水平设置，所述载板本体的竖直高度低于载板安装部的竖直高度。
4.根据权利要求3所述一种真空浸渍罐，其特征在于，所述载板连接部与水平面的夹角为10°～40°。
5.根据权利要求3所述一种真空浸渍罐，其特征在于，所述载板本体上设有若干阵列分布的通孔。
6.根据权利要求5所述一种真空浸渍罐，其特征在于，所述通孔的形状为圆形、椭圆形、三角形、方形中的一种或多种。
7.根据权利要求1所述一种真空浸渍罐，其特征在于，所述凸起部上表面呈平面，下表面与罐筒内壁之间的夹角为锐角。
8.根据权利要求7所述一种真空浸渍罐，其特征在于，所述凸起部距离底板的距离为罐筒高度的1/10～3/10。
9.一种真空浸渍设备，其特征在于，所述真空浸渍设备包括壳体及位于壳体内的真空浸渍罐，所述真空浸渍罐为权利要求1～8中任一项所述的真空浸渍罐。
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