CN109244375A - 连续余膏控制装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种连续余膏控制装置,包括机架,机架内中间设有传送装置,传送装置包括转动辊和皮带,转动辊设置在机架两端,皮带设置在转动辊之间,机架两侧设置滑动槽,转动辊两端设有转轴,转轴设置在滑动槽内,滑动槽内设有皮带调节装置,传送装置左端上方设有压膏辊,压膏辊两端设有升降块,机架左端两侧设有丝杆,升降块与丝杆连接,机架右端设有上膏辊,上膏辊上下对称设有两个,上膏辊右侧设有出膏口,出膏口上设有调节块,出膏口下端设有放置台。本发明可以在出膏口设置调节块调节出膏口大小,在压膏辊两端设置升降块调节压膏辊高度,设置皮带调节装置对皮带进行调节,适应不同极板需求,提高了生产效率,节约资源。

Description

连续余膏控制装置
技术领域
本发明涉及蓄电池加工领域,尤其涉及一种连续余膏控制装置。
背景技术
目前在制造蓄电池时,需要对极板进行刷制铅膏,以提高蓄电池的通电及蓄电能力。现有的刷膏装置在进行刷膏时,容易一次出膏过多,造成余膏过多,导致资源浪费,涂膏效率底下,同时出膏量不一样,在刷膏过程中导致极板刷膏厚度不一,需要后续处理,造成生产效率底下,因此解决这个问题就变得很重要了。
发明内容
本发明的目的是提供一种连续余膏控制装置,通过在出膏口上设置调节块调节出膏口大小,通过在压膏辊两端设置升降块调节压膏辊高度,设置皮带调节装置对皮带进行调节,解决了出膏过多,造成资源浪费、涂膏效率底下和涂膏厚度不一的问题。
本发明提供一种连续余膏控制装置,包括机架,机架内中间设有传送装置,传送装置包括转动辊和皮带,转动辊设置在机架两端,皮带设置在转动辊之间,机架两侧设置滑动槽,转动辊两端设有转轴,转轴设置在滑动槽内,滑动槽内设有皮带调节装置,传送装置左端上方设有压膏辊,压膏辊两端设有升降块,机架左端两侧设有丝杆,升降块与丝杆连接,机架右端设有上膏辊,上膏辊上下对称设有两个,上膏辊右侧设有出膏口,出膏口上设有调节块,出膏口下端设有放置台。
进一步改进在于:皮带调节装置包括压缩杆、挤压杆、调节杆,压缩杆设有两个,压缩杆对称设置在滑动槽两端,滑动槽与转轴外侧接触,挤压杆设有两个,挤压杆对称设置在滑动槽中间,挤压杆与转轴内侧接触,调节杆设置在挤压杆之间。
进一步改进在于:机架两端设有传送辊,机架左端设有下料板。
进一步改进在于:放置台两侧设有挡板,挡板外侧设有推动块。
本发明的有益效果:通过在出膏口上设置调节块调节出膏口大小,减少出膏量,减少余膏产生,提高涂膏效率,减少资源浪费;通过在压膏辊两端设置升降块调节压膏辊高度,设置皮带调节装置对皮带进行调节,对涂膏进行压平,同时对余膏进行去除,适应不同极板需求,提高了生产效率。
附图说明
图1是本发明的示意图。
其中:1-机架,2-转动辊,3-皮带,4-滑动槽,5-转轴,6-压膏辊,7-升降块,8-丝杆,9-上膏辊,10-出膏口,11-调节块,12-放置台,13-压缩杆,14-挤压杆,16-传送辊,17-下料板,18-挡板,19-推动块。
具体实施方式
为了加深对本发明的理解,下面将结合实施例对本发明作进一步详述,该实施例仅用于解释本发明,并不构成对本发明保护范围的限定。
如图1所示,本实施例提供一种连续余膏控制装置,包括机架1,机架1内中间设有传送装置,传送装置包括转动辊2和皮带3,转动辊2设置在机架1两端,皮带3设置在转动辊2之间,机架1两侧设置滑动槽4,转动辊2两端设有转轴5,转轴5设置在滑动槽4内,滑动槽4内设有皮带调节装置,传送装置左端上方设有压膏辊6,压膏辊6两端设有升降块7,机架1左端两侧设有丝杆8,升降块7与丝杆8连接,机架1右端设有上膏辊9,上膏辊9上下对称设有两个,上膏辊9右侧设有出膏口10,出膏口10上设有调节块11,出膏口11下端设有放置台12。皮带调节装置包括压缩杆13、挤压杆14、调节杆15,压缩杆13设有两个,压缩杆13对称设置在滑动槽4两端,滑动槽4与转轴5外侧接触,挤压杆14设有两个,挤压杆14对称设置在滑动槽4中间,挤压杆14与转轴5内侧接触,调节杆15设置在挤压杆14之间。机架1两端设有传送辊16,机架1左端设有下料板17。放置台12两侧设有挡板18,挡板外侧设有推动块19。
本实施例极板通过放置台12,放置台12两侧的挡板18通过推动块19作用对极板进行定位,是极板可以精准涂膏;出膏口10出膏对极板进行涂膏,出膏口12上设置的调节块11调节出膏口大小,提高涂膏率,减少余膏产生;极板通过上膏辊9,上膏辊9对极板进行挤压,使铅膏均匀平铺;极板通过传送装置,压膏辊6对极板表层铅膏进行压实,同时对余膏进行去除;皮带调节装置对皮带张力进行调节,升降块7在丝杆8升降调节压膏辊6高度,适应不同极板涂膏需求;极板通过下料板17进行下料。

Claims (4)

1.一种连续余膏控制装置,包括机架(1),其特征在于:机架(1)内中间设有传送装置,传送装置包括转动辊(2)和皮带(3),转动辊(2)设置在机架(1)两端,皮带(3)设置在转动辊(2)之间,机架(1)两侧设置滑动槽(4),转动辊(2)两端设有转轴(5),转轴(5)设置在滑动槽(4)内,滑动槽(4)内设有皮带调节装置,传送装置左端上方设有压膏辊(6),压膏辊(6)两端设有升降块(7),机架(1)左端两侧设有丝杆(8),升降块(7)与丝杆(8)连接,机架(1)右端设有上膏辊(9),上膏辊(9)上下对称设有两个,上膏辊(9)右侧设有出膏口(10),出膏口(10)上设有调节块(11),出膏口(11)下端设有放置台(12)。
2.如权利要求1所述的连续余膏控制装置,其特征在于:皮带调节装置包括压缩杆(13)、挤压杆(14)、调节杆(15),压缩杆(13)设有两个,压缩杆(13)对称设置在滑动槽(4)两端,滑动槽(4)与转轴(5)外侧接触,挤压杆(14)设有两个,挤压杆(14)对称设置在滑动槽(4)中间,挤压杆(14)与转轴(5)内侧接触,调节杆(15)设置在挤压杆(14)之间。
3.如权利要求1所述的连续余膏控制装置,其特征在于:机架(1)两端设有传送辊(16),机架(1)左端设有下料板(17)。
4.如权利要求1所述的连续余膏控制装置,其特征在于:放置台(12)两侧设有挡板(18),挡板外侧设有推动块(19)。
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