CN109188859A - 一种掩膜板的制作工艺 - Google Patents

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裴立志
时庆文
周伟杰
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    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
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    • G—PHYSICS
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Abstract

本发明公开了一种掩膜板的制作工艺，包括步骤：首先，制作玻璃板；其次，制作具有渐变纹理的菲林片：在菲林片的一侧设置油墨层，再通过曝光使油墨层呈现出多个渐变的镂空图案；最后，将菲林片的另一侧与玻璃板粘贴到一起。通过上述过程可以得到具有渐变纹理的掩膜板，且该过程简单易操作，成本低，利于规模化生产。因此，本发明提出的掩膜板的制作工艺，能够简化具有渐变纹理的掩膜板的制作工艺，有利于规模化生产，解决了现阶段该领域的难题。

Description

一种掩膜板的制作工艺
技术领域
本发明涉及掩膜板制作领域，更具体地说，涉及一种掩膜板的制作工艺。
背景技术
掩膜板的种类繁多，如不锈钢掩膜板、精密掩膜板、菲林掩膜板、投影仪掩膜板、光刻掩膜板等；掩膜板的用途基本一致，即制造芯片，在曝光过程中作为原始图形的载体，通过曝光过程将产品图形的信息传递到芯片上。
就现有技术而言，传统制作具有渐变纹理的掩膜板的工艺较为复杂，且成本高，效率低，不便于规模化生产。
因此，如何简化具有渐变纹理掩膜板的制作工艺，以利于规模化生产，是现阶段该领域亟待解决的难题。
发明内容
有鉴于此，本发明的目的在于提供一种掩膜板的制作工艺，该工艺能够简化具有渐变纹理的掩膜板的制作工艺，有利于规模化生产，解决了现阶段该领域的难题。
一种掩膜板的制作工艺，包括步骤：
步骤一，制作玻璃板；
步骤二，制作具有渐变纹理的菲林片：在菲林片的一侧设置油墨层，再通过曝光使所述油墨层呈现出多个渐变的镂空图案；
步骤三，将所述菲林片的另一侧与所述玻璃板粘贴到一起，得到具有渐变纹理的掩膜板。
优选的，所述的掩膜板的制作工艺，所述玻璃板为3D玻璃板，且所述菲林片与所述3D玻璃板相匹配。
优选的，所述的掩膜板的制作工艺，多个所述镂空图案为圆形。
优选的，所述的掩膜板的制作工艺，相邻两个圆心之间的距离相等。
优选的，所述的掩膜板的制作工艺，相邻两个圆心之间的距离a满足:0.01mm<a<3mm。
优选的，所述的掩膜板的制作工艺，多个所述镂空图案为横向渐变的圆形。
优选的，所述的掩膜板的制作工艺，圆形的半径R自左向右逐渐递增或递减，且0<R<(√2/2)a。
优选的，所述的掩膜板的制作工艺，多个所述镂空图案为纵向渐变的圆形。
优选的，所述的掩膜板的制作工艺，圆形的半径R自上向下逐渐递增或递减，且0<R<(√2/2)a。
优选的，所述的掩膜板的制作工艺，所述菲林片通过光学胶与所述玻璃板相固定。
本发明提出的掩膜板的制作工艺，包括步骤：首先，制作玻璃板；其次，制作具有渐变纹理的菲林片：在菲林片的一侧设置油墨层，再通过曝光使油墨层呈现出多个渐变的镂空图案；最后，将菲林片的另一侧与玻璃板粘贴到一起。通过上述过程可以得到具有渐变纹理的掩膜板，且该过程简单易操作，成本低，利于规模化生产。因此，本发明提出的掩膜板的制作工艺，能够简化具有渐变纹理的掩膜板的制作工艺，有利于规模化生产，解决了现阶段该领域的难题。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明具体实施方式中掩膜板制作工艺的流程图；
图2为本发明具体实施方式中油墨层的示意图；
图3为本发明具体实施方式中掩膜板的侧视图。
图1-图3中：
油墨层—1、镂空图案—2、3D玻璃板—3、菲林片—4、光学胶—5。
具体实施方式
本具体实施方式的核心在于提供一种掩膜板的制作工艺，该工艺能够简化具有渐变纹理的掩膜板的制作工艺，有利于规模化生产，解决了现阶段该领域的难题。
以下，参照附图对实施例进行说明。此外，下面所示的实施例不对权利要求所记载的发明内容起任何限定作用。另外，下面实施例所表示的构成的全部内容不限于作为权利要求所记载的发明的解决方案所必需的。
本具体实施方式提供的掩膜板的制作工艺，包括步骤：首先，制作玻璃板；其次，制作具有渐变纹理的菲林片4：在菲林片4的一侧设置油墨层1，再通过曝光使油墨层1呈现出多个渐变的镂空图案2；最后，将菲林片4的另一侧与玻璃板粘贴到一起。通过上述过程可以得到具有渐变纹理的掩膜板，且该过程简单易操作，成本低，利于规模化生产。因此，本发明提出的掩膜板的制作工艺，能够简化具有渐变纹理的掩膜板的制作工艺，有利于规模化生产，解决了现阶段该领域的难题。具体请参见图1和图3。
本具体实施方式提供的掩膜板的制作工艺，玻璃板为3D玻璃板3，即曲面的玻璃板，且菲林片4与3D玻璃板3相匹配。
本具体实施方式提供的掩膜板的制作工艺，多个镂空图案2可以为圆形、三角形、矩形、菱形等图案，具体可以根据实际情况进行设计。
本具体实施方式提供的掩膜板的制作工艺，相邻两个圆心之间的距离相等，该设计可以使渐变图案更加美观。
本具体实施方式提供的掩膜板的制作工艺，相邻两个圆心之间的距离a可以满足以下条件:0.01mm<a<3mm。多个镂空图案2为横向渐变的圆形，纵向的各个圆的大小相等；且满足圆形的半径R自左向右逐渐递增或递减，且0<R<(√2/2)a。需要说明的是，本具体实施方式中提到的“√”代表开根号。
本具体实施方式提供的掩膜板的制作工艺，多个镂空图案2可以为纵向渐变的圆形，横向的各个圆的大小相等；且满足圆形的半径R自上向下逐渐递增或递减，且0<R<(√2/2)a。
本具体实施方式提供的掩膜板的制作工艺，菲林片4可以通过光学胶5与玻璃板相固定，或者其他能够起到同等作用的粘胶。
对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims (10)

1.一种掩膜板的制作工艺，其特征在于，包括步骤：
步骤一，制作玻璃板；
步骤二，制作具有渐变纹理的菲林片(4)：在菲林片(4)的一侧设置油墨层(1)，再通过曝光使所述油墨层(1)呈现出多个渐变的镂空图案(2)；
步骤三，将所述菲林片(4)的另一侧与所述玻璃板粘贴到一起，得到具有渐变纹理的掩膜板。
2.根据权利要求1所述的掩膜板的制作工艺，其特征在于，所述玻璃板为3D玻璃板(3)，且所述菲林片(4)与所述3D玻璃板(3)相匹配。
3.根据权利要求1所述的掩膜板的制作工艺，其特征在于，多个所述镂空图案(2)为圆形。
4.根据权利要求3所述的掩膜板的制作工艺，其特征在于，相邻两个圆心之间的距离相等。
5.根据权利要求4所述的掩膜板的制作工艺，其特征在于，相邻两个圆心之间的距离a满足:0.01mm<a<3mm。
6.根据权利要求5所述的掩膜板的制作工艺，其特征在于，多个所述镂空图案(2)为横向渐变的圆形。
7.根据权利要求6所述的掩膜板的制作工艺，其特征在于，圆形的半径R自左向右逐渐递增或递减，且0<R<(√2/2)a。
8.根据权利要求5所述的掩膜板的制作工艺，其特征在于，多个所述镂空图案(2)为纵向渐变的圆形。
9.根据权利要求8所述的掩膜板的制作工艺，其特征在于，圆形的半径R自上向下逐渐递增或递减，且0<R<(√2/2)a。
10.根据权利要求1所述的掩膜板的制作工艺，其特征在于，所述菲林片(4)通过光学胶(5)与所述玻璃板相固定。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110579939A (zh) * 2019-09-17 2019-12-17 信利光电股份有限公司 一种渐变菲林掩膜版及渐变色盖板的制作方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1776523A (zh) * 2005-12-05 2006-05-24 武汉大学 一种低成本简易制作光刻掩膜的方法
CN102480533A (zh) * 2010-11-26 2012-05-30 比亚迪股份有限公司 一种金属壳体及其制备方法
CN107877943A (zh) * 2016-09-29 2018-04-06 蓝思科技股份有限公司 一种含油墨图案的曲面玻璃的制备方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1776523A (zh) * 2005-12-05 2006-05-24 武汉大学 一种低成本简易制作光刻掩膜的方法
CN102480533A (zh) * 2010-11-26 2012-05-30 比亚迪股份有限公司 一种金属壳体及其制备方法
CN107877943A (zh) * 2016-09-29 2018-04-06 蓝思科技股份有限公司 一种含油墨图案的曲面玻璃的制备方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110579939A (zh) * 2019-09-17 2019-12-17 信利光电股份有限公司 一种渐变菲林掩膜版及渐变色盖板的制作方法

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