CN109148714B - 缓冲结构、显示面板以及显示装置 - Google Patents

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Abstract

本申请提供一种缓冲结构、显示面板以及显示装置。缓冲结构包括第一缓冲层,第一缓冲层包括多个第一缓冲单元,第一缓冲单元相互间隔设置。本申请提供的缓冲结构、显示面板以及显示装置在提高抗冲击性能的同时,还可以保证具有足够的柔韧性。

Description

缓冲结构、显示面板以及显示装置
技术领域
本申请涉及显示技术领域,特别是涉及一种基板以及显示面板。
背景技术
随着科技的发展及显示技术的不断成熟,人们对各种显示面板的要求也越来越严格。
目前,相关技术生产出来的显示面板,当在受到外界一定撞击或冲击时,被击中的区域由于应力集中无法分散,其内部结构很容易发生损坏,导致显示区域出现黑斑、亮斑、彩斑等不良,最终导致产品显示失效而影响到产品质量。
发明内容
基于此,有必要针对上述技术问题,提供一种能够兼顾抗冲击性与柔韧性的缓冲结构、显示面板以及显示装置。
一种缓冲结构,包括第一缓冲层,所述第一缓冲层包括多个第一缓冲单元,所述第一缓冲单元相互间隔设置。
在其中一个实施例中,所述缓冲结构还包括缓冲基层,所述第一缓冲单元由所述缓冲基层凸起。
在其中一个实施例中,所述第一缓冲单元在所述缓冲基层上的正投影的轮廓的形状为n边形,n为大于等于5的正整数。
在其中一个实施例中,各个所述第一缓冲单元的形状以及尺寸相同,相邻的第一缓冲单元在所述缓冲基层上的正投影具有相邻的侧边,所述相邻的侧边相互平行且相对设置。
在其中一个实施例中,两两相邻的多个所述第一缓冲单元围设成第一凹槽,所述第一凹槽内设有支撑柱,所述支撑柱与各第一缓冲单元之间具有间隙。
在其中一个实施例中,所述支撑柱包括支撑本体以及自所述支撑本体分别朝向各第一缓冲单元设置的多个支柱,且各所述支柱与相应第一缓冲单元之间具有间隙。
在其中一个实施例中,
所述支撑柱的高度大于所述第一缓冲单元的高度,各个所述支撑柱围成若干第二凹槽;
所述缓冲结构还包括第二缓冲层,所述第二缓冲层包括多个间隔设置的第二缓冲单元,所述第二缓冲单元位于所述第二凹槽内并且与所述第一缓冲单元相对设置。
在其中一个实施例中,所述第二缓冲单元与所述第一缓冲单元间隔设置。
在其中一个实施例中,所述第二缓冲单元具有多个环状结构,每个所述环状结构之间相互套扣。
一种显示面板,包括基板、发光器件以及上述任一项所述的缓冲结构,所述发光器件设置于所述基板上,所述缓冲结构设置于所述基板背离所述发光器件的一侧。
一种显示装置,包括上述显示面板。
上述缓冲结构,其第一缓冲层包括多个间隔设置的第一缓冲单元。因此,各第一缓冲单元之间具有间隙,该间隙可为其周围物体提供形变空间而释放应力。因此,缓冲结构的抗冲击性能得到有效增强。
同时,多个第一缓冲单元间隔设置,使得缓冲结构被分为多个区块。缓冲结构在各第一缓冲单元的各边沿方向弯折时,均不易被损坏,保障了缓冲结构的柔韧性。
因此,本申请提供的缓冲结构、显示面板以及显示装置在提高抗冲击性能的同时,还可以保证具有足够的柔韧性。
附图说明
图1为一个实施例中的显示面板局部示意图;
图2为一个实施例中的缓冲结构的平面示意图;
图3为一个实施例中的第二缓冲单元局部示意图。
附图标记:
100-基板;200-发光器件;300-薄膜晶体管层;400-封装层;500-缓冲结构; 510-第一缓冲层;511-第一缓冲单元;5111-第一边;5112-第二边;512-缓冲基层;513-支撑柱;5131-支柱;5132-支撑本体;520-第二缓冲层;521-第二缓冲单元;5211-环状结构。
具体实施方式
为了使本申请的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本申请进行进一步详细说明。应当理解,此处描述的具体实施例仅仅用以解释本申请,并不用于限定本申请。
需要说明的是,当元件被称为“位于”另一个元件“上”,它可以直接在另一个元件上或者,也可以存在居中的元件。本文所使用的术语“上”、“下”、“顶”、“底”以及类似的表述只是为了说明的目的,并不表示是唯一的实施方式。
本申请的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的,不是旨在于限制本申请。本文所使用的术语“或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
本申请提供了一种显示装置,如LCD显示屏、AMOLED显示屏、PMOLED显示屏等。显示装置包括显示面板,且具体可以为柔性显示装置,也可为刚性显示装置,本申请对此不做限制。
如图1所示,本申请提供的显示面板,包括基板100以及发光器件200。发光器件200设置于基板100上。发光器件200包括可以发出各种颜色光的发光元件(例如,红色发光元件R、绿色发光元件G、蓝色发光元件B等)。
同时,显示面板还可以包括位于基板100与发光器件200之间的薄膜晶体管层300。薄膜晶体管层300为发光器件200的各发光元件提供驱动信号。发光器件200上还可以覆盖有封装层400。封装层400具有防潮、防水性能,其可以防止水氧进入到各发光元件内,进而保证发光器件200可以正常发光。
本申请提供的显示面板还包括缓冲结构500。缓冲结构500可以设置于基板 100背离发光器件200的一侧。
缓冲结构500包括第一缓冲层510。参考图2,第一缓冲层510包括多个相互间隔设置的第一缓冲单元511。各第一缓冲单元511相互分离,所以,各第一缓冲单元511之间会具有间隙,该间隙可为其周围物体提供形变空间而释放应力。因此,缓冲结构500的抗冲击性能得到有效增强。
同时,多个第一缓冲单元511间隔设置,使得缓冲结构500被分为多个区块。缓冲结构500在各第一缓冲单元511的各边沿边所在方向弯折时,均不易被损坏,保障了缓冲结构500的柔韧性。
因此,本申请提供的缓冲结构500、显示面板以及显示装置在提高抗冲击性能的同时,还可以保证具有足够的柔韧性。
在本申请的一个实施例中,设置第一缓冲层510还包括缓冲基层512,第一缓冲单元511由缓冲基层512的背离基板100的一侧凸起。缓冲基层512可对基板100,尤其是对基板100靠近第一缓冲层510一侧的一层(例如,PI材料层),起到良好的保护作用,防止基板100因受外力而裂开。
具体地,缓冲结构500的形成过程可包括,在基板100上沉积第一缓冲材料层。第一缓冲材料层包括缓冲基层512。然后再刻蚀第一缓冲材料层至缓冲基层512,图案化形成第一缓冲单元511,第一缓冲单元511与缓冲基层512构成第一缓冲层510。刻蚀第一缓冲材料层时只刻蚀到缓冲基层512而未将其刻蚀透,可对基板100进行保护,防止刻蚀侵害基板100。即,缓冲基层512在图案化刻蚀过程中,也对基板100进行了有效防护。
当然,本申请实施例中,缓冲结构500的形成过程也可与上述不同,其也可以独立于显示面板而单独存在。缓冲结构500应用时可采用粘贴等方式设置在显示面板上。缓冲基层512与第一缓冲单元511材料也可不同。例如,缓冲基层512可为一衬底板,然后在该衬底板上形成图形化的第一缓冲单元511。或者,本申请的缓冲结构500也可以另外包括一个衬底板,然后在该衬底板上形成包括缓冲基层512与第一缓冲单元511的缓冲结构500。
各个第一缓冲单元511在缓冲基层512上的正投影的轮廓的形状为n边形。在不考虑各第一缓冲单元511之间的相互影响时,n边形的边数越多,则缓冲结构500可能具有的耐弯折的方向越多,因此,可以取n为大于等于五的正整数 (n取无限大时即为圆)。当然,实际加工制造过程中,还要兼顾工艺实现的难易问题以及各第一缓冲单元511之间的相互影响,具体参考图2,每个第一缓冲单元511的n均选择为八。当然,也可以设置各第一缓冲单元511的n取不同值,然后对各第一缓冲单元511进行合理排列。
各个第一缓冲单元511的形状可以相同也可以不同。第一缓冲单元511的尺寸也是可以相同也可以不同,本申请对此不做过多限制。各个第一缓冲单元 511的排列方式也不做限制。但是各个第一缓冲单元511若形状或着尺寸差异过大,或者排列很不规则,会导致整个缓冲结构500抗冲击性能不均匀或者耐弯折性能差。
因此,在本申请的一个实施例中,各个第一缓冲单元511的形状以及尺寸相同。同时,相邻的第一缓冲单元511在基板100上的正投影具有相邻的侧边。相邻的第一缓冲单元511的相邻侧边相互平行且相对设置,使得多个第一缓冲单元511规则排列,进而有效提高基板抗冲击性能的均匀性以及基板的耐弯折性。
各个第一缓冲单元511在基板100上的正投影的轮廓的形状为n边形。n在取有限值(例如,八)时,n边形会有在各边交点处具有尖角,即第一缓冲单元 511会有尖角存在。尖角处由于受力面积小,因此受撞击容易损坏。若相邻第一缓冲单元511在受力形变而使得二者的尖角相互碰撞时,容易使得二者的尖角碎裂,而产生碎屑。这些碎屑可能会向基板100方向凸起,进而向上施加一定压力,进而可能影响基板100上方的薄膜晶体管层300以及发光器件200等,导致显示异常。
在本申请的一个实施例中,两两相邻的多个第一缓冲单元511围设成第一凹槽。第一凹槽内设有支撑柱513。支撑柱513与各第一缓冲单元511之间具有间隙,防止上述尖角发生碰撞。具体地,第一缓冲单元511在缓冲基层512上的正投影的轮廓包括间隔设置的第一边5111以及第二边5112。第一边5111的长度大于第二边5112的长度。两两相邻的多个第一缓冲单元511的第二边5112 所在的侧面围设成第一凹槽,第一凹槽内具有支撑柱513。
第一缓冲单元511在受力形变时,在其尖角发生碰撞之前,其短边(第二边5112)所在侧面先与支撑柱513的相应侧面发生碰撞,进而防止尖角碰撞,降低第一缓冲单元511被损坏的概率。支撑柱513与各第一缓冲单元511之间具有间隙,可为缓冲结构500保留形变空间,保持其抗冲击性能。第一凹槽由各第一缓冲单元511的短边(第二边5112)所在的侧面围成,进而可以尽量减小第一凹槽以及支撑柱513所占体积,使得第一缓冲单元511各处的力学性能较为均匀。
第一凹槽也可为其周围物体提供形变空间而释放应力,而支撑柱513越大,其占据空间越大,第一凹槽的剩余空间就越小。但是,支撑柱513若过小,可能难以防止各第一缓冲单元511的尖角碰撞。因此,参考图2,在本申请的一个实施例中,设置支撑柱513包括支柱5131与支撑本体5132。支柱5131自支撑本体5132分别朝向各第一缓冲单元511设置。各支柱5131与相应第一缓冲单元511之间具有间隙,进而使得支撑柱513既可以有效防止尖角碰撞,又不会占据过多空间。
如果各支柱5131在朝向相应第一缓冲单元511的面过窄,会导致其易在基板100受力时,撞击相应第一缓冲单元511,而使得第一缓冲单元511以及支撑柱513易碎裂。为了使得各支柱5131可以更好地防止第一缓冲单元511以及支撑柱513发生碎裂,可以设置各支柱5131朝向相应第一缓冲单元511的面在缓冲基层512上的正投影的长度,小于等于相应第一缓冲单元511的相应第二边5112的长度。当然,本申请的支撑柱513的具体形式也可与此不同,本申请不做过多限制。
在本申请的一个实施例中,支撑柱513与第一缓冲单元511同层形成(即二者均位于第一缓冲层510),进而简化工艺过程。具体地,可在沉积完第一缓冲材料层后,通过刻蚀图案化工艺,分别形成支撑柱513与第一缓冲单元511,支撑柱513与第一缓冲单元511(或者还包括缓冲基层512)共同构成第一缓冲层510。当然,本申请并不以此为限制,支撑柱也可以单独形成,而不位于第一缓冲层510。支撑柱513与第一缓冲单元511材料可以相同也可以不同。
当基板100上受到来自显示面板发光元件侧的外力时,支撑柱513靠近基板100一侧承受的力较大,内部产生的应力也大;而远离基板100一侧承受的力较小,内部产生的应力也小。因此,参考图1,支撑柱513的具体可设置为由靠近基板100一侧至远离基板100一侧逐渐缩小,即形成“上宽下窄”的形式,进而使得支撑柱513合理吸收应力。
为了进一步提高缓冲结构500的抗冲击性能,本申请还可以设置第二缓冲层520。第二缓冲层520包括多个间隔设置的第二缓冲单元521,第二缓冲单元 521与第一缓冲单元511相对设置,可以使得缓冲结构500在同时具有第一缓冲层510与第二缓冲层520时,仍然可以兼顾抗冲击性能与柔韧性。
在本申请的一个实施例中,在垂直于底板的方向上,支撑柱513的高度大于第一缓冲单元511的高度。各个支撑柱围成若干第二凹槽。第二缓冲单元521 位于第二凹槽内部,进而使得缓冲结构500的整体厚度不会因为第二缓冲单元 521的设置而增加。有利于显示面板的超薄化设计。此时,支撑柱513同时起到划分区域的作用。
当缓冲结构500受到来自显示面板发光元件侧的外力时,第一缓冲层510 因承受较大外力,而可能向第二缓冲层520弯曲。因此,在本申请的一个实施例中,可以设置第二缓冲单元521连接支撑柱513且与第一缓冲单元511间隔设置。此时,由于第二缓冲单元521与第一缓冲单元511之间具有间隙,进而为第一缓冲单元511提供足够的形变空间来释放应力,进一步增强基板100的抗冲击性。
为了实现上述形式的第二缓冲层520,可以在形成包括支撑柱513的第一缓冲层510后,在第一缓冲层510上形成光刻胶并图案化,露出支撑柱513的顶端;然后,在支撑柱远离所述第一缓冲层的一侧沉积第二缓冲材料层并图案化形成具有多个第二缓冲单元521的第二缓冲层520;最后,再利于相似原理去除光刻胶,使得第二缓冲单元521连接支撑柱513,并且使得第一缓冲单元511与第二缓冲单元521之间具有间隙。
第二缓冲层520位于显示面板的最底层。当显示面板受到来自顶层的力时,为了使该力在第二缓冲层520快速分散直至消失,实现产品质量及寿命的最大化,在本申请的一个实施例中,第二缓冲单元521具有多个环状结构5211。参考图3,每个环状结构5211均与其他环状结构5211相互套扣。各个环状结构 5211由于相互套扣而在彼此之间可以快速的进行力的传导。因此,第二缓冲单元521在某处受到力的作用后,该力可以迅速向周围分散,进而有效提高显示产生质量及寿命。此时,第二缓冲层520的材料可以选择金属、高分子化合物、碳纤维、石墨烯等具有一定强度且可成型较细环状结构的材料。
综上,本申请提供的缓冲结构,其第一缓冲层包括多个间隔设置的第一缓冲单元。因此,各第一缓冲单元之间具有间隙,该间隙可为其周围物体提供形变空间而释放应力。因此,缓冲结构的抗冲击性能得到有效增强。
同时,多个第一缓冲单元间隔设置,使得缓冲结构被分为多个区块。缓冲结构在各第一缓冲单元的各边沿各边所在方向弯折时,均不易被损坏,保障了缓冲结构的柔韧性。
因此,本申请提供的缓冲结构、显示面板以及显示装置在提高抗冲击性能的同时,还可以保证具有足够的柔韧性。
以上实施例的各技术特征可以进行任意的组合,为使描述简洁,未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述,然而,只要这些技术特征的组合不存在矛盾,都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本申请的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本申请构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本申请的保护范围。因此,本申请专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种缓冲结构,其特征在于,包括第一缓冲层,所述第一缓冲层包括多个相互间隔设置的第一缓冲单元,各所述第一缓冲单元相互分离,相邻的多个所述第一缓冲单元围设成第一凹槽,所述第一凹槽内设有支撑柱,所述支撑柱与各第一缓冲单元之间具有间隙。
2.根据权利要求1所述的缓冲结构,其特征在于,所述缓冲结构还包括缓冲基层,所述第一缓冲单元由所述缓冲基层凸起。
3.根据权利要求2所述的缓冲结构,其特征在于,所述第一缓冲单元在所述缓冲基层上的正投影的轮廓的形状为n边形,n为大于等于5的正整数。
4.根据权利要求2所述的缓冲结构,其特征在于,各个所述第一缓冲单元的形状以及尺寸相同,相邻的第一缓冲单元在所述缓冲基层上的正投影具有相邻的侧边,所述相邻的侧边相互平行且相对设置。
5.根据权利要求1所述的缓冲结构,其特征在于,所述支撑柱包括支撑本体以及自所述支撑本体分别朝向各第一缓冲单元设置的多个支柱,且各所述支柱与相应第一缓冲单元之间具有间隙。
6.根据权利要求1所述的缓冲结构,其特征在于,
所述支撑柱的高度大于所述第一缓冲单元的高度,各个所述支撑柱围成若干第二凹槽;
所述缓冲结构还包括第二缓冲层,所述第二缓冲层包括多个间隔设置的第二缓冲单元,所述第二缓冲单元位于所述第二凹槽内并且与所述第一缓冲单元相对设置。
7.根据权利要求6所述的缓冲结构,其特征在于,所述第二缓冲单元与所述第一缓冲单元间隔设置。
8.根据权利要求6所述的缓冲结构,其特征在于,所述第二缓冲单元具有多个环状结构,每个所述环状结构之间相互套扣。
9.一种显示面板,其特征在于,包括基板、发光器件以及如权利要求1-8任一项所述的缓冲结构,所述发光器件设置于所述基板上,所述缓冲结构设置于所述基板背离所述发光器件的一侧。
10.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求9所述的显示面板。
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EE01 Entry into force of recordation of patent licensing contract

Application publication date: 20190104

Assignee: Bazhou Yungu Electronic Technology Co., Ltd.|Kunshan Institute of technology new flat panel display technology center Co., Ltd.|Kunshan Guoxian photoelectric Co., Ltd

Assignor: The valley (Guan) Technology Co. Ltd.

Contract record no.: X2019990000155

Denomination of invention: Buffer structure, display panel, and display device

License type: Common License

Record date: 20191030

EE01 Entry into force of recordation of patent licensing contract
TA01 Transfer of patent application right

Effective date of registration: 20191210

Address after: No. 2 Xiangshan Avenue, Yongning Street, Zengcheng District, Guangzhou, Guangdong province (the core of Zengcheng economic and Technological Development Zone)

Applicant after: Guangzhou Guoxian Technology Co., Ltd

Address before: 065500 Hebei Langfang County Guan emerging industry demonstration area

Applicant before: The valley (Guan) Technology Co. Ltd.

TA01 Transfer of patent application right
GR01 Patent grant
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