CN109136885B - 线圈调节机构、感应加热装置和气相沉积设备 - Google Patents

线圈调节机构、感应加热装置和气相沉积设备 Download PDF

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Abstract

本发明提供了一种线圈调节机构,包括旋转件和与旋转件连接的移动转换组件,移动转换组件用于将旋转件的旋转运动转换为沿旋转件的旋转轴线方向的直线运动,移动转换组件包括安装件、移动杆和至少一个定位件,其中,移动杆设置于安装件中,且移动杆的轴线方向与旋转件的旋转轴线方向一致,当旋转件绕旋转轴线旋转时,能够带动移动杆沿该移动杆的轴线方向移动,定位件设置于移动杆和安装件之间,以限定移动杆的位置,防止移动杆发生绕旋转轴线的转动。本发明还提供一种感应加热装置和一种气相沉积设备。本发明的线圈调节机构和感应加热装置,线圈调节机构不容易与线圈发生脱离。

Description

线圈调节机构、感应加热装置和气相沉积设备
技术领域
本发明涉及气相沉积设备领域,具体地,涉及一种线圈调节机构、感应加热装置和气相沉积设备。
背景技术
气相沉积方法是一种利用气体在高温下相互反应来制备外延薄膜层的方法。需要利用专门的气相沉积设备来进行气相沉积的方法。
图1中所示的是一种气相沉积设备,从图1中可以看出,该气相沉积设备包括感应加热装置100、工艺腔200和设置在该工艺腔200中的托盘300。利用感应加热装置100对托盘300进行加热,从而达到气相沉积设备所需要的温度。
为了调节托盘300的温度均匀性,需要利用线圈调节机构110来调节感应加热装置100中线圈120的不同匝与托盘300之间的距离。
通常,线圈调节机构110为将旋转运动转换为直线运动的螺纹副,例如,线圈调节机构110可以是丝杠和丝杠螺母组成的螺纹副。通过旋转丝杠螺母可以使得丝杠做直线移动,然后调节与丝杠连接的线圈匝与托盘之间的距离。但是,这种线圈调节机构中,丝杠容易与线圈脱离,造成损坏,进而导致无法对线圈与托盘之间的距离进行调节。
因此,如何防止线圈调节机构110与线圈120脱离成为本领域亟待解决的技术问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种线圈调节机构、包括该线圈调节机构的感应加热装置和包括该感应加热装置的气相沉积设备。利用本发明的线圈调节机构来调节感应加热装置的线圈与气相沉积设备中的托盘之间的距离时,该线圈调节机构不易与线圈之间发生脱离。
为了实现上述目的,作为本发明的一个方面,提供一种线圈调节机构,所述线圈调节机构包括旋转件和与所述旋转件连接的移动转换组件,其中,所述移动转换组件用于将所述旋转件的旋转运动转换为沿所述旋转件的旋转轴线方向的直线运动,所述移动转换组件包括安装件、移动杆和至少一个定位件,其中,
所述移动杆设置于所述安装件中,且所述移动杆的轴线方向与所述旋转件的旋转轴线方向一致,当所述旋转件绕所述旋转轴线旋转时,能够带动所述移动杆沿该移动杆的轴线方向移动,所述定位件设置于所述移动杆和所述安装件之间,以限定所述移动杆的位置,防止所述移动杆发生绕所述旋转轴线的转动。
优选地,所述旋转件包括定位部和与所述定位部同轴连接的操作部,所述旋转件上设置有贯穿所述定位部和所述操作部的螺纹孔;
所述旋转件的定位部固定在所述安装件上,所述安装件用于与第一支撑板固定连接,以防止所述旋转件沿所述螺纹孔的轴线移动;
所述移动杆包括螺纹杆部,所述螺纹杆部设置在所述螺纹孔中,所述移动杆上还设置有至少一个定位槽,每个所述定位槽对应一个所述定位件,所述定位槽的长度方向与所述移动杆的轴线方向一致,所述定位件的一部分固定在所述安装件上,另一部分可滑动地设置在与所述定位件对应的所述定位槽中。
优选地,所述安装件包括筒体和第一凸缘,所述筒体包括底板和环绕所述底板设置的筒壁,所述第一凸缘环绕所述筒壁设置,且所述底板和所述第一凸缘分别位于所述筒壁的两端,所述第一凸缘用于与所述第一支撑板固定连接,所述底板上设置有与所述螺纹孔同轴的通孔,所述定位部设置在所述通孔中,所述操作部位于所述筒体外部,所述安装件上设置有贯通该安装件的至少一个定位孔,每个所述定位件对应一个所述定位孔,所述定位件的一部分设置在相应的所述定位孔中。
优选地,所述定位孔设置在所述第一凸缘上。
优选地,所述移动杆包括第一移动杆和与所述第一移动杆相连的第二移动杆,
所述螺纹杆部和所述定位槽均设置在所述第一移动杆上,所述第一移动杆与所述第二移动杆相连的一端设置容纳腔;
所述第二移动杆的一端设置在所述容纳腔中,所述第二移动杆的另一端用于与感应线圈固定连接,所述第二移动杆的一端能够相对于所述第一移动杆旋转,且所述第一移动杆能够带动所述第二移动杆沿所述移动杆的轴线方向移动。
优选地,所述容纳腔包括阶梯槽,所述第一移动杆与所述第二移动杆相连的一端还设置有开槽,所述阶梯槽包括孔部和槽部,所述孔部的出口位于第一移动杆的端面上,所述孔部的直径小于所述槽部的直径,所述开槽与所述阶梯槽的内部贯通,且所述开槽的出口形成在所述第一移动杆的侧面上;
所述第二移动杆包括限位块和执行杆,所述执行杆的一端与所述限位块固定连接,所述执行杆的另一端用于与感应线圈固定连接,所述限位块通过所述开槽设置在所述槽部中,所述执行杆的一部分设置在所述孔部中。
优选地,所述限位块的直径小于所述槽部的直径且大于所述孔部的直径,位于所述孔部中的所述执行杆的直径小于所述孔部的直径。
优选地,所述线圈调节机构还包括密封块,所述密封块上形成有导向通孔,所述执行杆穿过所述导向通孔。
优选地,所述密封块包括本体和环绕所述本体设置的第二凸缘,所述第二凸缘上形成有用于将所述密封块固定在第二支撑板上的紧固孔,所述导向通孔贯穿所述本体。
优选地,所述移动杆还包括刻度杆部,所述刻度杆部上形成有刻度线,所述刻度杆部与所述螺纹杆部相连,且所述刻度杆部位于所述筒体外部。
作为本发明的另一个方面,提供一种感应加热装置,所述感应加热装置包括感应线圈和至少一个线圈调节机构,其中,至少一个所述线圈调节机构为本发明所提供的上述线圈调节机构,每个所述线圈调节机构对应于所述感应线圈的一匝,且所述线圈调节机构的移动转换组件与所述感应线圈中的相应匝固定连接。
作为本发明的第三个方面,提供一种气相沉积设备,所述气相沉积设备包括感应加热装置和工艺腔,所述感应加热装置为本发明所提供的上述感应加热装置,所述气相沉积设备还包括第一支撑板,所述安装件的第一安装部固定在所述第一支撑板上,所述感应线圈位于所述工艺腔外部。
优选地,所述气相沉积设备还包括冷却槽,所述工艺腔和所述线圈均设置在所述冷却槽内。
在本发明所提供的线圈调节机构中,安装件用于将整个移动转换组件固定在设备中。移动杆的一端用于与感应线圈相连。
为了调节感应线圈中各匝的位置,需要转动旋转件。当旋转件转动时,移动转化组件的移动杆发生直线移动。与此同时,定位件抑制移动杆发生旋转的趋势,从而避免移动杆与感应线圈脱离。
附图说明
附图是用来提供对本发明的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与下面的具体实施方式一起用于解释本发明,但并不构成对本发明的限制。在附图中:
图1是现有的气相沉积设备的示意图;
图2是线圈和线圈调节机构的俯视图;
图3是本发明所提供的线圈调节机构的主视图;
图4是图3中所示的线圈调节机构的A-A剖视图;
图5a是图3中所示的线圈调节机构的安装部的主视图;
图5b是图3中所示的线圈调节机构的B向视图;
图5c是图5a中所示的安装部的C-C剖视图;
图5d是图3中所示的线圈调节机构的D向视图;
图5e是图5b中所示的安装部的俯视图;
图6是本发明所提供的气相沉积设备的示意图,示出了线圈调节机构的安装方式;
图7是本发明所提供的气相沉积设备的示意图,示意性地示出了水槽与工艺腔、线圈之间的关系。
其中,附图标记为:
100:感应加热装置 110:线圈调节机构
111:旋转件 111a:定位部
111b:操作部 112:移动转换组件
1121:螺纹杆部 1121a:筒体
1122a:第一凸缘 112a:安装件
112b:移动杆 112c:定位件
1122b’:限位块 1122b”:执行杆
113:密封块 113a:本体
113b:第二凸缘 1121b:第一移动杆
1122b:第二移动杆 1122:定位槽
200:工艺腔 300:托盘
1123:刻度杆部 400:第一支撑板
500:第二支撑板 600:水槽。
具体实施方式
以下结合附图对本发明的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是,此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明,并不用于限制本发明。
经本发明的发明人反复研究发现,现有技术中的线圈调节机构110之所以容易与线圈120脱离发生的原因是,当丝杠螺母旋转时,由于摩擦力的存在,丝杠螺母容易带动丝杠一起旋转。而丝杠发生旋转后则容易与线圈120发生脱离。
为了解决上述问题,作为本发明的一个方面,提供一种线圈调节机构,如图3所示,线圈调节机构包括旋转件111和移动转换组件112。该移动转换组件112用于将旋转件111的旋转运动转换为沿该旋转件的旋转轴线方向的直线运动。
如图4所示,移动转换组件112包括安装件112a、移动杆112b和至少一个定位件112c。
移动杆112b设置在安装件112a中,且移动杆112b的轴线方向与旋转件112的旋转轴线方向一致,当旋转件111绕该旋转件112的旋转轴线旋转时,能够带动移动杆112b沿该移动杆112b的轴线(即,旋转件112的旋转轴线)移动。
定位件112c设置在移动杆112b和安装件112a之间,以限定移动杆112b的位置,并防止移动杆112b发生绕旋转件112的旋转轴线的转动。
在本发明所提供的线圈调节机构中,安装件112a用于将整个移动转换组件112固定在设备中。移动杆112b的一端用于与感应线圈相连。
为了调节感应线圈中各匝的位置,需要转动旋转件111。当旋转件111转动时,移动转化组件112的移动杆112b发生直线移动。于此同时,定位件112c抑制移动杆112b发生旋转的趋势,从而避免移动杆112b与感应线圈脱离。
本发明所提供的线圈调节机构110与感应线圈120安装在一起,具体地,移动转换组件112与感应线圈120的各匝固定连接,操作人员通过转动旋转件111可以带动移动杆112b沿该移动杆112b的轴线做直线移动,从而带动线圈120上与移动转换组件112相连的一匝一起移动,并调节该匝与工艺腔内的托盘之间的距离。
在本发明中,对旋转件的具体结构没有特殊的限制。在图4中所示的具体实施方式中,旋转件111包括定位部111a和与该定位部111a同轴连接的操作部111b。旋转件111上设置有贯穿定位部111a和操作部111b的螺纹孔。
旋转件111的定位部111a固定在安装件112a上。安装件112a用于与第一支撑板400固定连接,以防止旋转件111沿螺纹孔的轴线方向移动。此处需要解释的是,虽然旋转件111的安装部111a固定在安装件112a上,但是,安装件112a不应当妨碍旋转件111的正常转动。下文中将结合具体实施例对此进行解释,这里先不赘述。
相应地,如图4所示,移动杆112b包括螺纹杆部1121,该螺纹杆部1121设置在螺纹孔中。并且,移动杆112b上还设置有至少一个定位槽1122,每个定位槽1122对应一个定位件112c(即,定位槽1122的数量与定位件112c的数量相同),定位槽1122的长度方向与移动杆112b的轴线方向一致,定位件112c的一部分固定在安装件112a上,另一部分可滑动地设置在与该定位件112c对应的定位槽1122中。
由于移动杆112b上设置有定位槽1122,因此,当旋转件111旋转时,定位件112c沿定位槽1122移动。当移动杆112b存在随旋转件111旋转的趋势时,定位槽1122的侧壁会将该旋转的趋势传递至定位件112c。由于定位件112c固定在安装件112a上,而安装件112a固定在第一支撑板400上,因此,定位件112c会阻止上述“旋转的趋势”,从而可以确保移动杆112b只沿螺纹孔的轴线做直线移动,而不绕螺纹孔的轴线做旋转运动,从而可以避免移动杆112b之间发生脱离。
并且,在本发明所提供的线圈机构中,仅通过定位件112c和定位槽1122即可解决摩擦力带来的问题,无需提高旋转件111与移动杆112b的螺纹杆部的精度,降低了线圈调节机构的成本。
为了增加导向的稳定性,可以设置多个定位件112c以及多个定位槽1122。例如,可以设置两个定位件112c以及两个定位槽1122。
在本发明中,对如何将旋转件111的定位部111a与安装件112a可旋转地连接并没有特殊的限制。例如,在安装件112a上设置通孔,然后在定位部111a与安装件112a的通孔之间设置轴承。轴承的外圈与安装件112a上的通孔过盈连接,而轴承的内圈与定位部111a过盈连接。
在本发明中,对安装件112a的具体机构并不做特殊的限定,例如,在图3和图4中所示的具体实施方式中,安装件112a包括筒体1121a和第一凸缘1122a。
如图4所示,筒体1121a包括底板1121a’和环绕该底板1121a’设置的筒壁1121a”。第一凸缘1122a环绕筒壁1121a”设置,且底板1121a’和第一凸缘1122a分别位于筒壁1121a”的两端。底板1121a’上设置有与螺纹孔同轴的通孔,定位部111a设置在通孔中,操作部111b位于筒体1121a外部。
安装件112a为安装件112a上设置有至少一个定位孔,每个定位件对应一个定位孔。定位件112c的一部分设置在相应的定位孔中。
在本发明中,第一凸缘用于与第一支撑板400固定连接。由于第一凸缘1122a具有一定的宽度,因此,第一凸缘1122a具有足够的空间设置将安装件112a固定在第一支撑板400上的机固件。例如,可以在第一凸缘1122a上设置螺纹连接孔,并在第一支撑板400上对应的位置处也设置螺纹连接孔,利用螺栓或螺钉将安装件112a固定在第一支撑板400上。设置了第一凸缘1122a后,可以将安装件112a牢固地固定在第一支撑板400上。并且,移动杆112b的一部分位于筒体内,可以防止外部的其他设备对移动杆112b造成损伤。
在这种实施方式中,定位件112c可以是锥台形的定位销。即,定位件112c位于定位孔中的部分大于定位件112c位于定位槽1122中的部分的直径,从而既可以确保定位件112c不会从定位孔中脱出,有能确保定位件112c与定位槽1122之间的相对滑动。
在本发明中,对定位孔的位置并没有特殊的限定。例如,可以将定位孔设置在筒体1121a上。优选地,可以将定位孔1121a设置在第一凸缘1122a上,从而可以避免对筒体1121a造成损坏。并且,由于第一凸缘1122a位于较高位置处,因此,在第一凸缘1122a上设置定位孔可以将定位件112c固定在较高的位置处,并确保定位槽具有足够的长度,进而确保线圈调节机构具有足够大的调节空间。
在本发明中,对移动杆112b的具体结构也没有特殊的限定。在图4中所示的具体实施方式中,移动杆112b包括第一移动杆1121b和与该第一移动杆1121b相连的第二移动杆1122b。
图5a至图5e中详细地展示了第一移动杆1121b的具体结构。螺纹杆部1121和定位槽1122均设置在第一移动杆1121b上,第一移动杆1121b与第一移动杆相连的一端设置有容纳腔。
第二移动杆1122b的一端设置在容纳腔中,第二移动杆1122b的另一端用于与感应线圈固定连接。第二移动杆1122b的一端能够相对于第一移动杆1121b旋转,且第一移动杆1121b能够带动第二移动杆1122b沿移动杆112b的轴线方向移动。
作为一种实施方式,第一移动杆1121b和第二移动杆1122b可以通过球铰接的方式连接在一起。
下面结合图4、图5a至图5c介绍移动杆112b的一种优选实施方式。
如图5a至图5c所示,容纳腔包括阶梯槽a,并且第一移动杆1121b的与第二移动杆1122b相连的一端还设置有开槽b。如图5b所示,阶梯槽a包括孔部a1和槽部a2,孔部a1的出口位于第一移动杆1121b的端面上,孔部a1的直径小于槽部a2的直径。开槽b与阶梯槽a贯通,且开槽b的出口形成在第一移动杆1121b的侧面上。
为了与第一移动杆1121b相连,如图4所示,第二移动杆1122b包括限位块1122b’和执行杆1122b”。执行杆1122b”的一端与限位块1122b’固定连接,执行杆1122b”的另一端用于与感应线圈固定连接。限位块1122b’通过开槽设置在槽部中,执行杆1122b”的一部分设置在孔部中,并从孔部中穿出。
当第一移动杆1121b移动时,限位块1122b’被限制在阶梯槽a形成的容纳腔中,从而可以跟随第一移动杆1121b做直线移动。在这种实施方式中,可以方便地将第一移动杆1121b和第二移动杆1122b组装以及分开,从而便于对线圈调节机构进行维护和修理。
将第一移动杆1121b设置为包括阶梯槽a的优点还在于便于将第一移动杆1121b组装在线圈调节机构中。具体,可以先将第二移动杆1122b与感应线圈连接,并固定在第二支撑板500上,然后通过开槽对准限位块1122b’和执行杆1122b”,并将第一移动杆1121b与第二移动杆1122b连接。第一移动杆1121b和第二移动杠杆1122b组装完毕后,再将与旋转件组装好的安装件套设在第一移动杆的外部,最后将安装件固定在第一支撑板400上。这种方式可以避免安装过程中第一移动杆1121b被撞断。
如上文中,第二移动杆1122b能够相对于第一移动杆1121b旋转,因此,限位块的1122b’的直径小于槽部的直径且大于孔部的直径,执行杆1122b”位于孔部中的部分内的直径小于孔部的直径。具体地,在这种情况中,限位块1122b’的侧面与槽部的侧壁之间存在间隙,并且执行杆1122b”的侧面与孔部的侧壁之间存在间隙,即便第一移动杆1121b发生转动,也不会传递至第二移动杆1122b。
为了便于维护和修理并提高线圈调节机构的互换性与通用性,优选地,如图4所示,线圈调节机构还包括将限位块与执行杆可拆卸地连接的紧固件。
本发明所提供的线圈调节机构应用于感应加热装置中,而感应加热装置则应用于气相沉积设备中,对气相沉积设备中的托盘进行加热。为了进行冷却,感应加热装置的线圈设置在冷却槽中,利用冷却槽对线圈进行冷却。为了防止冷却液泄漏,优选地,线圈调节机构110还包括密封块113,该密封块113上形成有导向通孔,执行杆1122b”穿过导向通孔。
作为一种具体实施方式,如图4所示,密封块113包括本体113a和环绕该本体设置的第二凸缘113b。该第二凸缘113b上形成有用于将密封块113固定在第二支撑板500上的紧固孔,导向通孔贯穿本体113a。如图3和图4所示,可以利用紧固件将密封块113固定在第二支撑板500上。
为了实现精确控制,优选地,移动杆还包括刻度杆部1123,该刻度杆部1123上形成有刻度线,刻度杆部1123与螺纹杆部1121相连,且刻度杆部1123位于筒体1121a外部。
在图3和图4中所示的具体实施方式中,螺纹杆部和刻度杆部形成在第一移动杆1121b上。如图5a至图5d中所示,刻度杆部、以及螺纹杆部的直径小于第一移动杆上其他部分的直径。由于第一移动杆1121b上设置有阶梯槽,可以在其他部件都安装完成后最后安装第一移动杆1121b,从而可以防止螺纹杆部和刻度杆部被撞断。
容易理解的是,线圈调节机构包括零位。当该线圈调节机构处于零位时,并没有对线圈上相应匝的位置进行调节,此时,操作部的下边缘与刻度杆部上的“0”刻度线对齐。“0”刻度的上方、下方均有刻度值,通过旋转,可以读取到移动杆向上或向下移动的距离,从而精确地控制对线圈进行的调节,进而精确地调节气相沉积设备中托盘的温度。
作为本发明的第二个方面,提供一种感应加热装置,感应加热装置包括感应线圈和至少一个线圈调节机构,其中,至少一个线圈调节机构为本发明所提供的上述线圈调节机构,每个线圈调节机构对应于感应线圈的一匝,且移动转换组件与线圈中的相应匝固定连接。
如上文中,线圈调节机构上的移动转换组件不会随旋转件转动,从而可以与感应线圈稳定牢固地连接,不会发生脱离现象,进而可以实现对感应线圈各匝位置的精确控制。
作为本发明的第三个方面,提供一种气相沉积设备,如图6所示,气相沉积设备包括感应加热装置100和工艺腔200,其中,感应加热装置为本发明所提供的上述感应加热装置,气相沉积设备还包括第一支撑板400,安装件的第一安装部固定在第一支撑板400上,感应线圈位于工艺腔外部。
由于感应加热装置100中,通过线圈调节机构110可以精确地调节线圈120各匝在图6中竖直方向的位置,因此,可以精确地控制工艺腔200中托盘300上各个区域的温度,从而可以更好的执行气相沉积工艺。
本领域技术人员容易理解的是,托盘300由导电材料制成,当线圈120通电时,托盘300会因电磁反应而发热。
为了对工艺腔、感应加热装置进行冷却,如图7所示,气相沉积设备还包括冷却槽600,工艺腔200和感应线圈120均设置在冷却槽600内。在进行气相沉积工艺时,工艺温度较高。例如,在通过气相沉积的方法沉积SiO2时,工艺温度通常在1200℃以上,此时,向冷却槽中通入冷却液,可以对工艺腔200和线圈120进行冷却。
在本发明中所提到的第二支撑板500可以是冷却槽600的底壁。如上文中所示,线圈调节机构110包括密封块113,因此,冷却液不会从冷却槽中渗透而出。
可以理解的是,以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式,然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言,在不脱离本发明的精神和实质的情况下,可以做出各种变型和改进,这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

Claims (13)

1.一种线圈调节机构,所述线圈调节机构包括旋转件和与所述旋转件连接的移动转换组件,其特征在于,所述移动转换组件用于将所述旋转件的旋转运动转换为沿所述旋转件的旋转轴线方向的直线运动,所述移动转换组件包括安装件、移动杆和至少一个定位件,其中,
所述移动杆设置于所述安装件中,且所述移动杆的轴线方向与所述旋转件的旋转轴线方向一致,当所述旋转件绕所述旋转轴线旋转时,能够带动所述移动杆沿该移动杆的轴线方向移动,所述定位件设置于所述移动杆和所述安装件之间,以限定所述移动杆的位置,防止所述移动杆发生绕所述旋转轴线的转动。
2.根据权利要求1所述的线圈调节机构,其特征在于,
所述旋转件包括定位部和与所述定位部同轴连接的操作部,所述旋转件上设置有贯穿所述定位部和所述操作部的螺纹孔;
所述旋转件的定位部固定在所述安装件上,所述安装件用于与第一支撑板固定连接,以防止所述旋转件沿所述螺纹孔的轴线移动;
所述移动杆包括螺纹杆部,所述螺纹杆部设置在所述螺纹孔中,所述移动杆上还设置有至少一个定位槽,每个所述定位槽对应一个所述定位件,所述定位槽的长度方向与所述移动杆的轴线方向一致,所述定位件的一部分固定在所述安装件上,另一部分可滑动地设置在与所述定位件对应的所述定位槽中。
3.根据权利要求2所述的线圈调节机构,其特征在于,所述安装件包括筒体和第一凸缘,所述筒体包括底板和环绕所述底板设置的筒壁,所述第一凸缘环绕所述筒壁设置,且所述底板和所述第一凸缘分别位于所述筒壁的两端,所述第一凸缘用于与所述第一支撑板固定连接,所述底板上设置有与所述螺纹孔同轴的通孔,所述定位部设置在所述通孔中,所述操作部位于所述筒体外部,所述安装件上设置有贯通该安装件的至少一个定位孔,每个所述定位件对应一个所述定位孔,所述定位件的一部分设置在相应的所述定位孔中。
4.根据权利要求3所述的线圈调节机构,其特征在于,所述定位孔设置在所述第一凸缘上。
5.根据权利要求3所述的线圈调节机构,其特征在于,所述移动杆包括第一移动杆和与所述第一移动杆相连的第二移动杆,
所述螺纹杆部和所述定位槽均设置在所述第一移动杆上,所述第一移动杆与所述第二移动杆相连的一端设置容纳腔;
所述第二移动杆的一端设置在所述容纳腔中,所述第二移动杆的另一端用于与感应线圈固定连接,所述第二移动杆的一端能够相对于所述第一移动杆旋转,且所述第一移动杆能够带动所述第二移动杆沿所述移动杆的轴线方向移动。
6.根据权利要求5所述的线圈调节机构,其特征在于,所述容纳腔包括阶梯槽,所述第一移动杆与所述第二移动杆相连的一端还设置有开槽,所述阶梯槽包括孔部和槽部,所述孔部的出口位于第一移动杆的端面上,所述孔部的直径小于所述槽部的直径,所述开槽与所述阶梯槽的内部贯通,且所述开槽的出口形成在所述第一移动杆的侧面上;
所述第二移动杆包括限位块和执行杆,所述执行杆的一端与所述限位块固定连接,所述执行杆的另一端用于与感应线圈固定连接,所述限位块通过所述开槽设置在所述槽部中,所述执行杆的一部分设置在所述孔部中。
7.根据权利要求6所述的线圈调节机构,其特征在于,所述限位块的直径小于所述槽部的直径且大于所述孔部的直径,位于所述孔部中的所述执行杆的直径小于所述孔部的直径。
8.根据权利要求6所述的线圈调节机构,其特征在于,所述线圈调节机构还包括密封块,所述密封块上形成有导向通孔,所述执行杆穿过所述导向通孔。
9.根据权利要求8所述的线圈调节机构,其特征在于,所述密封块包括本体和环绕所述本体设置的第二凸缘,所述第二凸缘上形成有用于将所述密封块固定在第二支撑板上的紧固孔,所述导向通孔贯穿所述本体。
10.根据权利要求3至9中任意一项所述的线圈调节机构,其特征在于,所述移动杆还包括刻度杆部,所述刻度杆部上形成有刻度线,所述刻度杆部与所述螺纹杆部相连,且所述刻度杆部位于所述筒体外部。
11.一种感应加热装置,所述感应加热装置包括感应线圈和至少一个线圈调节机构,其特征在于,至少一个所述线圈调节机构为权利要求1至10中任意一项所述的线圈调节机构,每个所述线圈调节机构对应于所述感应线圈的一匝,且所述线圈调节机构的移动转换组件与所述感应线圈中的相应匝固定连接。
12.一种气相沉积设备,所述气相沉积设备包括感应加热装置和工艺腔,其特征在于,所述感应加热装置为权利要求11所述的感应加热装置,所述气相沉积设备还包括第一支撑板,所述安装件用于与所述第一支撑板固定连接,所述感应线圈位于所述工艺腔外部。
13.根据权利要求12所述的气相沉积设备,其特征在于,所述气相沉积设备还包括冷却槽,所述工艺腔和所述线圈均设置在所述冷却槽内。
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112458441B (zh) * 2020-10-22 2022-09-16 北京北方华创微电子装备有限公司 半导体工艺设备的反应腔室及半导体工艺设备
CN112548126B (zh) * 2020-12-01 2021-11-12 江苏科技大学 车床

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201413025A (zh) * 2012-08-27 2014-04-01 Oc Oerlikon Balzers Ag 具有溫度調整裝置的處理裝置及處理基板的方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2616808B1 (fr) * 1987-06-16 1989-09-01 Lemer & Cie Dispositif pour le depot par chauffage sur un substrat d'un compose introduit par plasma
US4858558A (en) * 1988-01-25 1989-08-22 Nippon Kokan Kabushiki Kaisha Film forming apparatus
IT1271233B (it) * 1994-09-30 1997-05-27 Lpe Reattore epitassiale munito di suscettore discoidale piano ed avente flusso di gas parallelo ai substrati
TW559905B (en) * 2001-08-10 2003-11-01 Toshiba Corp Vertical chemical vapor deposition system cross-reference to related applications
JP4067858B2 (ja) * 2002-04-16 2008-03-26 東京エレクトロン株式会社 Ald成膜装置およびald成膜方法
KR101525892B1 (ko) * 2008-09-05 2015-06-05 주성엔지니어링(주) 기판 처리 장치
TWM392431U (en) * 2010-02-04 2010-11-11 Epistar Corp Systems for epitaxial growth
CN102146994A (zh) * 2011-04-14 2011-08-10 湖南五新机械有限公司 可自动调节偏心的螺旋传动机构
DE102013113046A1 (de) * 2013-11-26 2015-05-28 Aixtron Se Stütz- bzw. Verbindungselemente an einem Heizorgan eines CVD-Reaktors
CN104179912B (zh) * 2014-08-15 2016-08-17 北京工业大学 一种测定滚珠丝杠副滚珠运动状态的装置
DE102014112645A1 (de) * 2014-09-03 2016-03-03 Aixtron Se Heizeinrichtung
CN204959033U (zh) * 2015-09-29 2016-01-13 上海荷缘光电科技有限公司 金属有机化学气相沉积电阻加热器

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201413025A (zh) * 2012-08-27 2014-04-01 Oc Oerlikon Balzers Ag 具有溫度調整裝置的處理裝置及處理基板的方法

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