CN109119315A - 一种离子注入机束流均匀性调节装置 - Google Patents

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CN109119315A
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Abstract

本发明公开了一种离子注入机束流均匀性调节装置。该装置主要包括：支撑杆(1),丝杠(2),多磁极侧板(3),滑块(4),铁芯左(5),顶板(6),限位挡块(7),固定板(8),铁芯右(9)，电机(10)，电位计(11)，调整垫片(12)，电机支架(13)，联轴器(14)，电位计支架(15)。整个装置有两部分，图1为运动执行部分，图2为驱动部分。电机(10)带动联轴器(14)，从而使丝杠(2)运动，带动铁芯左(5)或铁芯右(9)运动，滑块(4)起导向作用，限位挡块(7)在运动的过程中会碰到多磁极侧板(3)的边缘发挥限位作用。磁级左(5)或磁级右(9)的运动会带动支撑杆(1)，从而使电位计(11)运动。本发明涉及离子注入装置，隶属于半导体制造领域。

Description

一种离子注入机束流均匀性调节装置
技术领域
本发明涉及一种半导体器件制造控制系统，尤其涉及离子注入机均匀性调节装置，该装置是低能大束流离子注入装备中的关键装置之一。
背景技术
随着半导体工艺的发展，且随着特质线宽的缩小，工艺复杂程度的提高，束流的均匀性和稳定性对于离子注入系统愈发重要，已成为器件成败与否的重要关键。在低能宽带离子注入机引出束流能量很低、束流很大时，由于空间电荷效应的影响，离子束发散严重，导致束流水平均匀性调节更加困难，因此如何设计恰当离子光学系统及均匀性调节装置；以保证离子束流均匀性和稳定性是宽束离子注入机设备成功的关键。时至今日，国内使用的半导体离子注入机依然依赖进口，还没有实现国产化。
发明内容
1.本发明公开了一种离子注入机束流均匀性调节装置。该装置主要包括：支撑杆(1),丝杠(2),多磁极侧板(3),滑块(4),铁芯左(5),顶板(6),限位挡块(7),固定板(8),铁芯右(9)，电机(10)，电位计(11)，调整垫片(12)，电机支架(13)，联轴器(14)，电位计支架(15)。
2.根据权利要求1的离子注入机均匀性调节装置，其特征是整个装置分为两部分，驱动部分和执行部分，每个部分组合才能称为为完整的多磁级装置。
3.根据权利要求1的离子注入机均匀性调节装置，其特征是丝杠(2)带动铁芯左(5)或铁芯右(9)运动，并通过滑块(4)和限位挡块(7)起导向和限位作用。
4.根据权利要求1的离子注入机均匀性调节装置，其特征是每一个铁芯左(5)或铁芯右(9)都能在电机的拖动下独立运动，互不干涉。
5.根据权利要求1的离子注入机均匀性调节装置，其特征是铁芯左(5) 或铁芯右(9)运动都能使支撑杆(1)带动电位计(11)运动，从而采集到铁芯的位置信息。
本发明具有如下显著优点：
1.功能明确，针对性强。
2.结构简单，上下对称布置，易于加工制造。
3.易于控制，上下对称布置12对电极，分别由12个电源供电。
附图说明
图1是本发明的执行部分示意图。
图2是本发明的驱动部分示意图。
图3是本发明的装配效果示意图。
1-支撑杆,2-丝杠,3-多磁极侧板,4-滑块,5-铁芯左,6-顶板,7-限位挡块, 8-固定板,9-铁芯右，10-电机，11-电位计，12-调整垫片，13-电机支架，14- 联轴器，15-电位计支架，16-平行透镜，17-多磁级装置。
具体实施方式
下面结合附图1到附图3对本发明作进一步的介绍，但不作为对本发明的限定. 本发明公开了一种离子注入机束流均匀性调节装置。该装置主要包括：支撑杆 (1),丝杠(2),多磁极侧板(3),滑块(4),铁芯左(5),顶板(6),限位挡块(7), 固定板(8),铁芯右(9)，电机(10)，电位计(11)，调整垫片(12)，电机支架(13)，联轴器(14)，电位计支架(15)。
具体实施步骤如下：
平行透镜(16)中共放置6组多磁级装置(17)，每组都可独立工作。多磁级装置(17)分为两部分，驱动部分和执行部分，每个部分组合才能称为为完整的多磁级装置(17)。附图1为执行部分示意图，附图2为驱动部分示意图，驱动部分在上，执行部分在下，组成一组多磁级装置(17)。一组中有四个铁芯中铁芯左(5)或铁芯右(9)各两个。
电机(10)转动，在联轴器作用下使丝杠(2)运动从而带动铁芯左(5)或铁芯右(9)运动，并通过滑块(4)和限位挡块(7)起导向和限位作用，通过调节铁芯的位置改变束流偏转角，从而改变平行透镜出口处束流水平密度分布，调节水平均匀性。每一个铁芯左(5)或铁芯右(9)都能在电机的拖动下独立运动，互不干涉，带动支撑杆(1)使电位计(11)运动，从而形成闭环控制。
以上所述仅为本发明的实施例，并非用于限定本发明的保护范围，而是用于说明本发明。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (5)

1.本发明公开了一种离子注入机束流均匀性调节装置，该装置主要包括：支撑杆(1),丝杠(2),多磁极侧板(3),滑块(4),铁芯左(5),顶板(6),限位挡块(7),固定板(8),铁芯右(9)，电机(10)，电位计(11)，调整垫片(12)，电机支架(13)，联轴器(14)，电位计支架(15)。
2.根据权利要求1的宽带束离子注入机均匀性调节装置，其特征是整个装置分为两部分，驱动部分和执行部分，每个部分组合才能称为为完整的多磁级装置。
3.根据权利要求1的离子注入机均匀性调节装置，其特征是丝杠(2)带动铁芯左(5)或铁芯右(9)运动，并通过滑块(4)和限位挡块(7)起导向和限位作用。
4.根据权利要求1的宽带束离子注入机均匀性调节装置，其特征是每一个铁芯左(5)或铁芯右(9)都能在电机的拖动下独立运动，互不干涉。
5.根据权利要求1的宽带束离子注入机均匀性调节装置，其特征是铁芯左(5)或铁芯右(9)运动都能使支撑杆(1)带动电位计(11)运动，从而采集到铁芯的位置信息。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102201321A (zh) * 2010-03-24 2011-09-28 上海凯世通半导体有限公司 离子注入系统及方法
CN105575750A (zh) * 2014-11-07 2016-05-11 北京中科信电子装备有限公司 一种高分辨宽束离子注入机均匀性调节装置
CN206057469U (zh) * 2016-08-23 2017-03-29 天津市凯源新能电气有限公司 一种能够实时监控铁芯接地电流的检测装置

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