CN109118573A - 辅助光矩阵阵列三维重建系统中图像建模方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种辅助光矩阵阵列三维重建系统中图像建模方法，其包括如下步骤：使用覆盖物完全覆盖住目标建模物体的表面；其中，覆盖物的材质为低反光率材质；在覆盖物的外表面投射辅助光，控制辅助光覆盖覆盖物的外表面；采集目标建模物体的图像信息数据，根据图像信息数据进行目标建模物体的图像建模。其通过采用低反光率材质的覆盖物将目标建模物体的表面覆盖住，在降低目标建模物体的反光率的基础上，利用辅助光矩阵技术，增加物体表面特征点，从而采集到符合图像建模标准的图像信息数据，完成了低反光物体的高精度三维重建，最终解决了特殊材质的图像三维重建问题，提高了图像建模的精确度。

Description

辅助光矩阵阵列三维重建系统中图像建模方法
技术领域
本发明涉及三维建模技术领域，特别是涉及一种辅助光矩阵阵列三维重建系统中图像建模方法。
背景技术
辅助光矩阵阵列三维重建系统结合使用投影仪作为辅助光，通过摄影测量的方法可广泛并成熟应用于人像、衣服、鞋子、文物等各个方面，该设备操作简单、自动化程度高，对弱纹理、大小不等的物体等都能进行很好的重建，所重建出来的三维模型精度高，纹理颜色真实感强。但是，由于强反光、透明的物体自身的物理性质原因，难以采集到符合辅助光矩阵阵列三维重建系统中图像建模标准的图像信息，导致精度较低甚至完全无法重建。
发明内容
基于此，有必要针对传统的辅助光矩阵阵列三维重建系统进行强反光、透明物体的图像建模时精度较低的问题，提供一种辅助光矩阵阵列三维重建系统中图像建模方法。
基于上述目的，本发明提供的辅助光矩阵阵列三维重建系统中图像建模方法，包括如下步骤：
使用覆盖物完全覆盖住目标建模物体的表面；其中，所述覆盖物的材质为低反光率材质；
在所述覆盖物的外表面投射辅助光，控制所述辅助光覆盖所述覆盖物的外表面；
采集所述目标建模物体的图像信息数据，根据所述图像信息数据进行所述目标建模物体的图像建模。
在其中一个实施例中，所述覆盖物为显影剂。
在其中一个实施例中，使用所述显影剂覆盖住所述目标建模物体时，采用喷涂方式，将所述显影剂喷涂在所述目标建模物体的表面。
在其中一个实施例中，在所述目标建模物体表面喷涂所述显影剂之后，还包括对所述显影剂进行干燥处理的步骤。
上述辅助光矩阵阵列三维重建系统中图像建模方法，通过采用低反光率材质的覆盖物将目标建模物体的表面覆盖住，使得目标建模物体的表面变成低反光的材质，进而再通过辅助光覆盖住覆盖物的外表面，达到了在降低目标建模物体的反光率的基础上，利用辅助光矩阵技术，增加物体表面特征点，从而采集到符合图像建模标准的图像信息数据，完成了低反光物体的高精度三维重建，最终解决了特殊材质的图像三维重建问题，提高了图像建模的精确度。
附图说明
图1为本发明的辅助光矩阵阵列三维重建系统中国图像建模方法的一具体实施例的流程图。
具体实施方式
为使本发明技术方案更加清楚，以下结合具体实施例对本发明做进一步详细说明。其中，应当说明的是，以下描述包括帮助理解的各种具体细节，但是这些细节将被视为仅是示例性的。因此，本领域普通技术人员将认识到，在不脱离本公开的范围和精神的情况下，可对本文所述的各种实施例进行各种改变和修改。另外，为了清晰和简洁，公知功能和构造的描述可被省略。
以下描述和权利要求书中所使用的术语和词汇不限于文献含义，而是仅由发明人用来使本公开能够被清晰和一致地理解。因此，对于本领域技术人员而言应该明显的是，提供以下对本公开的各种实施例的描述仅是为了示例性目的，而非限制由所附权利要求及其等同物限定的本公开的目的。
应该理解，除非上下文明确另外指示，否则单数形式也包括复数指代。因此，例如，对“组件表面”的引用包括对一个或更多个这样的表面的引用。
参见图1，作为本发明的辅助光矩阵阵列三维重建系统中图像建模方法的一具体实施例，其首先包括步骤S100，使用覆盖物覆盖住目标建模物体的表面。其中，覆盖物的材质为低反光率材质。此处，需要说明的是，低反光率材质的覆盖物指的是反射光线的能力较弱。同时，还需要指出的是，为了保证后续进行目标建模物体的图像信息数据采集的准确度，在使用覆盖物覆盖住目标建模物体的表面时，覆盖物应当完全覆盖住目标建模物体的表面。
进一步的，在本发明的辅助光矩阵阵列三维重建系统中图像建模方法的一具体实施例中，覆盖物优选为显影剂。这是由于显影剂的反光率非常低，使用显影剂覆盖住目标建模物体的表面，使得目标建模物体的表面变成了不反光的材质，从而有效的降低了目标建模物体的反光率。
同时，在上述使用显影剂覆盖目标建模物体的表面时，可采用喷涂方式。即，在进行图像建模之前，先使用显影剂对目标建模物体的表面进行喷粉，使得显影剂完全覆盖住目标建模物体的表面。其通过采用喷涂的方式，既保证了目标建模物体的表面纹理等特征不会被破坏，同时还使得显影剂与目标建模物体的表面紧密贴合，这也就更进一步的保证了后续进行目标建模物体的图像信息数据采集的精确度。并且，采用喷涂的方式操作简单，易于实现。
另外，由于采用喷涂方式将显影剂覆盖在目标建模物体的表面后，目标建模物体的表面为湿润状态，为了保证图像建模结果的准确度，在进行辅助光投射之前，应当等待一定的时间，使得目标建模物体的表面干燥之后再进行下一步骤。优选的，为了提高目标建模物体的三维建模效率，减少建模所需要的时间，在目标建模物体的表面喷涂显影剂后，还可进行干燥处理。在本实施例中，具体的干燥处理方式可为烘干或吹干。
待目标建模物体的表面干燥之后，再进行步骤S200，在覆盖物的外表面投射辅助光，控制辅助光覆盖覆盖物的外表面。此处，需要说明的是，在覆盖物的外表面投射辅助光时，应当保证辅助光完整、清晰的覆盖在覆盖物的外表面。
当利用辅助光矩阵技术在覆盖物的外表面投射副主管，使得辅助光覆盖在覆盖物的外表面并待目标建模物体完全静止之后，再进行步骤S300，采集目标建模物体的图像信息数据，根据图像信息数据进行目标建模物体的图像建模。
由此，其通过上述步骤最终完成了目标建模物体的三维重建。其通过将显影剂与辅助光技术相结合，在目标建模物体的表面喷涂显影剂，使得目标建模物体的表面变成不反光的材质，加上辅助光的辅助效果，实现了轻松准确采集到符合图像建模标准的照片数据的目的，从而最终完成了反光的目标建模物体的高精度三维重建。
另外，还需要说明的是，以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (4)

1.一种辅助光矩阵阵列三维重建系统中图像建模方法，其特征在于，包括如下步骤：
使用覆盖物完全覆盖住目标建模物体的表面；其中，所述覆盖物的材质为低反光率材质；
在所述覆盖物的外表面投射辅助光，控制所述辅助光覆盖所述覆盖物的外表面；
采集所述目标建模物体的图像信息数据，根据所述图像信息数据进行所述目标建模物体的图像建模。
2.根据权利要求1所述的辅助光矩阵阵列三维重建系统中图像建模方法，其特征在于，所述覆盖物为显影剂。
3.根据权利要求2所述的辅助光矩阵阵列三维重建系统中图像建模方法，其特征在于，使用所述显影剂覆盖住所述目标建模物体时，采用喷涂方式，将所述显影剂喷涂在所述目标建模物体的表面。
4.根据权利要求2所述的辅助光矩阵阵列三维重建系统中图像建模方法，其特征在于，在所述目标建模物体表面喷涂所述显影剂之后，还包括对所述显影剂进行干燥处理的步骤。
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