CN109100921A - 一种用于曝光机的混合波段扫描光源系统 - Google Patents
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- 239000011324 bead Substances 0.000 claims abstract description 103
- PCTMTFRHKVHKIS-BMFZQQSSSA-N (1s,3r,4e,6e,8e,10e,12e,14e,16e,18s,19r,20r,21s,25r,27r,30r,31r,33s,35r,37s,38r)-3-[(2r,3s,4s,5s,6r)-4-amino-3,5-dihydroxy-6-methyloxan-2-yl]oxy-19,25,27,30,31,33,35,37-octahydroxy-18,20,21-trimethyl-23-oxo-22,39-dioxabicyclo[33.3.1]nonatriaconta-4,6,8,10 Chemical compound C1C=C2C[C@@H](OS(O)(=O)=O)CC[C@]2(C)[C@@H]2[C@@H]1[C@@H]1CC[C@H]([C@H](C)CCCC(C)C)[C@@]1(C)CC2.O[C@H]1[C@@H](N)[C@H](O)[C@@H](C)O[C@H]1O[C@H]1/C=C/C=C/C=C/C=C/C=C/C=C/C=C/[C@H](C)[C@@H](O)[C@@H](C)[C@H](C)OC(=O)C[C@H](O)C[C@H](O)CC[C@@H](O)[C@H](O)C[C@H](O)C[C@](O)(C[C@H](O)[C@H]2C(O)=O)O[C@H]2C1 PCTMTFRHKVHKIS-BMFZQQSSSA-N 0.000 claims abstract description 4
- WPWLFFMSSOAORQ-UHFFFAOYSA-N 5-bromo-4-chloro-3-indolyl acetate Chemical compound C1=C(Br)C(Cl)=C2C(OC(=O)C)=CNC2=C1 WPWLFFMSSOAORQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- VUFOSBDICLTFMS-UHFFFAOYSA-M ethyl-hexadecyl-dimethylazanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CC VUFOSBDICLTFMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 9
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 claims description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 8
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Chemical class 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- NGYIMTKLQULBOO-UHFFFAOYSA-L mercury dibromide Chemical compound Br[Hg]Br NGYIMTKLQULBOO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000001473 noxious effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70008—Production of exposure light, i.e. light sources
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70383—Direct write, i.e. pattern is written directly without the use of a mask by one or multiple beams
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Abstract
本发明提供了一种用于曝光机的混合波段扫描光源系统，其包括可与曝光台面构成滑移配合的光源，所述光源包括若干阵列设置的紫外LED灯组，其中紫外LED灯组包括灯珠A、灯珠B、灯珠C以及灯珠D，所述灯珠A、灯珠B、灯珠C以及灯珠D的波长均不相同，且所述紫外LED灯组以首行ABCD排列，第二行以BCDA排列，第三行以CDAB排列，第四行以DABC排列，每行以各自的排列方式循环设置，其构成以任意一灯珠为中心，其周向分布数量一致的灯珠A、灯珠B、灯珠C以及灯珠D，通过特殊的排列方式，使得最小的四边形的照射范围内，各个光源占的比例基本一致，从而实现不同波段的光源在移动时产生最均匀的光源，从而能实现同一光源不同波段的曝光要求。
Description
技术领域
本发明涉及光学领域，具体涉及一种用于曝光机的混合波段扫描光源系统。
背景技术
紫外光线的光出射角度的平行度与曝光均匀度是紫外曝光机的两个重要技术指标。已有的紫外曝光机因其用途不同，或者是曝光分辨率高而其结构复杂，光能效利用率低，能耗高及使用维护成本高使得其在倡导节能环保的今日，日益成为亟须替代或改良的设备。
由于光学曝光照明系统辐照度不均匀, 导致线条粗细不均匀, 整块板上的分辨率不一致,生整块板上的分辨率不一致等曝光不良现象出现.这在PCB或液晶显示器的生产过程中是不允许的。传统的曝光机的光学曝光照明光源多采用金属卤化物（如溴化汞）作为受激电离发光材料，属于高强度气体放电灯，内部均含有高压、高温和有毒物质，高压汞灯从长波紫外到可见光都有很强的辐射，但只有一部分UVA-UVB段的光波长是可作用于紫外曝光用途的，其他光波长波段的辐射均会以光能及辐射能的方式散发至空间其他物体上，造成环境温度升高；高压汞灯的发光角度为360度，需要相当大面积的反射罩及较远的距离来进行光束整形以满足应用需求，但会使得曝光系统的光强度损失50-70%。综上所述,传统的曝光机的光学曝光照明系统存在光效能低下，且能耗高，所使用材料不利于环保等缺点。而本发明中的光学曝光照明系统所具备的特征是：使用LED作为发光体，辅以准直透镜及矩阵排布器实现发光光波长单一，光能量利用率高，可达到95%以上，所组成的使用材料为玻璃，GaN类半导体，铜铝合金等金属；具有对环境友好，减少电力消耗，节约能源等优点。
而现有的光源大多采用单一波长的LED组成，而不同的PCB板的曝光对于LED的波长需求不同，从而导致了采用同一波长的LED构成光源无法实现对部分PCB板曝光，导致对于采用规格不同的油墨的PCB板不能被同一曝光机进行曝光，增加了PCB曝光成本。
发明内容
为了克服以上的技术不足，本发明提供一种用于曝光机的混合波段扫描光源系统。
本发明提供一种用于曝光机的混合波段扫描光源系统，其包括可与曝光台面构成滑移配合的光源，所述光源包括若干阵列设置的紫外LED灯组，其中紫外LED灯组包括灯珠A、灯珠B、灯珠C以及灯珠D，所述灯珠A、灯珠B、灯珠C以及灯珠D的波长均不相同，且所述紫外LED灯组以首行ABCD排列，第二行以BCDA排列，第三行以CDAB排列，第四行以DABC排列，每行以各自的排列方式循环设置，其构成以任意一灯珠为中心，其周向分布数量一致的灯珠A、灯珠B、灯珠C以及灯珠D。
所述相邻两行同一列的灯珠的中心距离为B等于每行相邻两颗灯珠的中心之间的距离A/行数，相邻两颗灯珠之间等距排列。
多个紫外LED灯组的首行首颗灯珠位于同一列。
所述行数为4的倍数。
所述灯珠A、灯珠B、灯珠C以及灯珠D的波长范围在365-430nm之间，且各个灯珠的波长均不相同。
所述紫外LED灯组由若干LED灯板拼接而成。
所述LED灯板上分布两行四列8颗灯珠。
所述紫外LED灯组固定设置在散热结构上。
所述散热结构有若干个散热铝框拼接构成。
本发明的有益效果：通过特殊的排列方式，使得最小的四边形的照射范围内，各个光源占的比例基本一致，从而实现不同波段的光源在移动时产生最均匀的光源，从而能实现同一光源不同波段的曝光要求。
附图说明
图1是本发明的结构示意图。
图2是本发明的灯组的排列示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本发明实施例作进一步说明：
本发明中，一种用于曝光机的混合波段扫描光源系统，其包括可与曝光台面构成滑移配合的光源，所述光源包括若干阵列设置的紫外LED灯组，其中紫外LED灯组包括灯珠A、灯珠B、灯珠C以及灯珠D，所述灯珠A、灯珠B、灯珠C以及灯珠D的波长均不相同，且所述紫外LED灯组以首行ABCD排列，第二行以BCDA排列，第三行以CDAB排列，第四行以DABC排列，每行以各自的排列方式循环设置，其构成以任意一灯珠为中心，其周向分布数量一致的灯珠A、灯珠B、灯珠C以及灯珠D。
即四线任意灯珠以对角线方式排列，而且在构成最小光照范围的四边形阵列中，以中心灯珠为主，周向分别分布数量相等的灯珠A、灯珠B、灯珠C以及灯珠D，以中心灯珠为灯珠A为例，其四边形阵列中，灯珠A的比例为3/9，而灯珠B、灯珠C以及灯珠D分别为2/9，四者的占比最为接近，从而实现较为均匀的光照范围，使得不同波段的波长能够用于同一台曝光机，且无需对光源进行调节。
所述相邻两行同一列的灯珠的中心距离为B等于每行相邻两颗灯珠的中心之间的距离A/行数，相邻两颗灯珠3之间等距排列。多个紫外LED灯组的首行首颗灯珠位于同一列。所述行数为4的倍数。
当设计成4行时，第一行第一颗灯珠A的中心与第二行第一颗灯珠B的中心距离为A/4，第三行第一颗灯珠C的中心到第二行第一颗灯珠B的中心距离为A/4，余下几行依次排列，形成具有倾斜角度排列的平行四边形，相邻两行每颗对应的灯珠相差A/4距离。
当设计成8行时，第一行第一颗灯珠A的中心与第二行第一颗灯珠B的中心距离为A/8，第三行第一颗灯珠C的中心到第二行第一颗灯珠B的中心距离为A/8，余下几行依次排列，形成具有倾斜角度排列的平行四边形，相邻两行每颗对应的灯珠相差A/8距离。
在排列该光源时，要针对其光源强度的变化，针对性的排列，使其光源强度较低的位置重叠进行补偿，提高该位置的光源强度，通过如图所示的排列方式，能极大的将每颗光源进行有效的补偿，并且通过对紫外LED曝光机光学曝光照明系统的平移与摆动，达到更佳的光源分布排列，有效的提高了系统中的有效辐射通量和对辐射通量的利用率。且通过多组光源安装板的排列方式，增大光源照射范围。
所述灯珠A、灯珠B、灯珠C以及灯珠D的波长范围在365-430nm之间，且各个灯珠的波长均不相同，根据需要可以对灯珠进行不同的波长设计，以满足不同的油墨的曝光要求。
所述紫外LED灯组由若干LED灯板2拼接而成。所述LED灯板上分布两行四列8颗灯珠，采用独立的LED灯板，可以保证当任意一灯珠出现问题时，只需要更换对应的LED灯板即可，而无需更换整个LED 灯组。
所述紫外LED灯组固定设置在散热结构上。所述散热结构有若干个散热铝框1拼接构成，利用多个散热铝框拼接，可以降低整个散热结构的加工难度。
实施例不应视为对本发明的限制，任何基于本发明的精神所作的改进，都应在本发明的保护范围之内。
Claims (9)
1.一种用于曝光机的混合波段扫描光源系统，其特征在于：其包括可与曝光台面构成滑移配合的光源，所述光源包括若干阵列设置的紫外LED灯组，其中紫外LED灯组包括灯珠A、灯珠B、灯珠C以及灯珠D，所述灯珠A、灯珠B、灯珠C以及灯珠D的波长均不相同，且所述紫外LED灯组以首行ABCD排列，第二行以BCDA排列，第三行以CDAB排列，第四行以DABC排列，每行以各自的排列方式循环设置，其构成以任意一灯珠为中心，其周向分布数量一致的灯珠A、灯珠B、灯珠C以及灯珠D。
2.根据权利要求1所述的一种用于曝光机的混合波段扫描光源系统，其特征在于，所述相邻两行同一列的灯珠的中心距离为B等于每行相邻两颗灯珠的中心之间的距离A/行数，相邻两颗灯珠之间等距排列。
3.根据权利要求1或2所述的一种用于曝光机的混合波段扫描光源系统，其特征在于，多个紫外LED灯组的首行首颗灯珠位于同一列。
4.根据权利要求2所述的一种用于曝光机的混合波段扫描光源系统，其特征在于，所述行数为4的倍数。
5.根据权利要求1所述的一种用于曝光机的混合波段扫描光源系统，其特征在于，所述灯珠A、灯珠B、灯珠C以及灯珠D的波长范围在365-430nm之间，且各个灯珠的波长均不相同。
6.根据权利要求1所述的一种用于曝光机的混合波段扫描光源系统，其特征在于，所述紫外LED灯组由若干LED灯板拼接而成。
7.根据权利要求6所述的一种用于曝光机的混合波段扫描光源系统，其特征在于，所述LED灯板上分布两行四列8颗灯珠。
8.根据权利要求1所述的一种用于曝光机的混合波段扫描光源系统，其特征在于，所述紫外LED灯组固定设置在散热结构上。
9.根据权利要求8所述的一种用于曝光机的混合波段扫描光源系统，其特征在于，所述散热结构有若干个散热铝框拼接构成。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201811206269.XA CN109100921B (zh) | 2018-10-17 | 2018-10-17 | 一种用于曝光机的混合波段扫描光源系统 |
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|---|---|---|---|
| CN201811206269.XA CN109100921B (zh) | 2018-10-17 | 2018-10-17 | 一种用于曝光机的混合波段扫描光源系统 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN109100921A true CN109100921A (zh) | 2018-12-28 |
| CN109100921B CN109100921B (zh) | 2023-10-20 |
Family
ID=64868909
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201811206269.XA Active CN109100921B (zh) | 2018-10-17 | 2018-10-17 | 一种用于曝光机的混合波段扫描光源系统 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| PE01 | Entry into force of the registration of the contract for pledge of patent right | ||
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Denomination of invention: A Hybrid Band Scanning Light Source System for Exposure Machines Effective date of registration: 20231101 Granted publication date: 20231020 Pledgee: China Minsheng Banking Corp Wenzhou branch Pledgor: ZHEJIANG OULONG ELECTRIC Co.,Ltd. Registration number: Y2019330000306 |