CN109062431B - 一种触控模组、其制作方法及显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种触控模组、其制作方法及显示装置，在形成非结晶态的第一透明导电层后，且在进行金属层的图案刻蚀之前，增加在第一透明导电层的图案上形成第一绝缘层的图案的步骤，采用第一绝缘层保护第一透明导电层，可避免非结晶态的低方阻第一透明导电层大面积暴露于APC刻蚀液下，造成第一透明导电层的不均匀侵蚀问题，避免引发第一透明导电层的方阻升高及Mura的不良。并且，第一绝缘层的图案在触控电极之间的桥接处和触控电极与搭接端子的桥接处均进行挖孔设计，进而可以利用APC攻击低方阻的第一透明导电层0的特性，将桥接处侵蚀成球面，增加搭接面积，降低桥接处的接触电阻，实现在柔性基材上低方阻的触控产品设计。

Description

一种触控模组、其制作方法及显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种触控模组、其制作方法及显示装置。

背景技术

目前，在柔性触控屏中为了提高触控的电学特性，需要在柔性基材上形成非结晶态的氧化铟锡，其膜质不稳定，容易受到柔性金属先进过程控制(APC，Advanced ProcessControl)中刻蚀液的攻击，造成ITO方阻增加，ITO侵蚀不均，还会造成ITO膜厚不均，产品外观显示器亮度不均匀(Mura)的不良。

发明内容

有鉴于此，本发明实施例提供了一种触控模组、其制作方法及显示装置，用以解决现有柔性触控屏中非结晶态的ITO容易受到APC刻蚀液攻击而导致mura的问题。

因此，本发明实施例提供了一种触控模组的制作方法，包括：

在柔性衬底上形成第一透明导电层的图案；所述第一透明导电层的材料为非结晶态；所述第一透明导电层的图案包括位于可视区的触控电极；

在所述第一透明导电层的图案上形成第一绝缘层的图案；所述第一绝缘层的图案在所述触控电极之间的桥接处具有第一镂空区域，且所述第一绝缘层的图案在所述触控电极与搭接端子的桥接处具有第二镂空区域；

在所述第一绝缘层的图案上形成金属层的图案；所述金属层的图案位于非可视区，包括：金属引线、与所述金属引线的一端连接的绑定端子、以及与所述金属引线的另一端连接的所述搭接端子；

在所述金属层的图案上形成第二绝缘层的图案；所述第二绝缘层的图案在所述触控电极之间的桥接处具有第三镂空区域，所述第二绝缘层的图案在所述触控电极与搭接端子的桥接处具有第四镂空区域，所述第二绝缘层的图案在所述绑定端子处具有第五镂空区域；

在所述第二绝缘层的图案上形成第二透明导电层的图案，所述第二透明导电层的图案包括：导通所述触控电极之间的桥接处的触控桥接部，以及导通所述触控电极与所述搭接端子的桥接处的搭接桥接部。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述制作方法中，所述第一透明导电层的图案还包括位于所述非可视区的辅助部，所述辅助部至少位于所述金属引线与所述柔性衬底之间。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述制作方法中，所述第一绝缘层的图案仅位于所述可视区；所述第二绝缘层的图案仅位于所述非可视区。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述制作方法中，还包括：在所述第二透明导电层的图案上形成至少覆盖所述触控桥接部和所述搭接桥接部的第三绝缘层的图案。

另一方面，本发明实施例还提供了一种触控模组，包括：

柔性衬底；

位于所述柔性衬底之上的第一透明导电层的图案；所述第一透明导电层的材料为非结晶态；所述第一透明导电层的图案包括位于可视区的触控电极；

位于所述第一透明导电层的图案之上的第一绝缘层的图案；所述第一绝缘层的图案在所述触控电极之间的桥接处具有第一镂空区域，且所述第一绝缘层的图案在所述触控电极与搭接端子的桥接处具有第二镂空区域；

位于所述第一绝缘层的图案之上的金属层的图案；所述金属层的图案位于非可视区，包括：金属引线、与所述金属引线的一端连接的绑定端子、以及与所述金属引线的另一端连接的所述搭接端子；

位于所述金属层的图案之上的第二绝缘层的图案；所述第二绝缘层的图案在所述触控电极之间的桥接处具有第三镂空区域，所述第二绝缘层的图案在所述触控电极与搭接端子的桥接处具有第四镂空区域，所述第二绝缘层的图案在所述绑定端子处具有第五镂空区域；

位于所述第一绝缘层的图案和所述第二绝缘层的图案之上的第二透明导电层的图案，所述第二透明导电层的图案包括：导通所述触控电极之间的桥接处的触控桥接部，以及导通所述触控电极与所述搭接端子的桥接处的搭接桥接部。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述触控模组中，所述第一透明导电层的图案还包括位于所述非可视区的辅助部，所述辅助部至少位于所述金属引线与所述柔性衬底之间。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述触控模组中，所述第一绝缘层的图案仅位于所述可视区；所述第二绝缘层的图案仅位于所述非可视区。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述触控模组中，还包括：位于所述第二透明导电层的图案之上且至少覆盖所述触控桥接部和所述搭接桥接部的第三绝缘层的图案。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述触控模组中，所述第一透明导电层的方阻小于50Ω。

另一方面，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括本发明实施例提供的上述触控模组。

本发明实施例的有益效果包括：

本发明实施例提供的一种触控模组、其制作方法及显示装置，在形成非结晶态的第一透明导电层后，且在进行金属层的图案刻蚀之前，增加在第一透明导电层的图案上形成第一绝缘层的图案的步骤，采用第一绝缘层保护第一透明导电层，可避免非结晶态的低方阻第一透明导电层大面积暴露于APC刻蚀液下，造成第一透明导电层被APC刻蚀液的不均匀侵蚀问题，进而避免引发第一透明导电层的方阻升高及Mura的不良。并且，第一绝缘层的图案在触控电极之间的桥接处和触控电极与搭接端子的桥接处均进行挖孔设计，即第一绝缘层具有第一镂空区域和第二镂空区域，进而可以利用APC攻击低方阻的第一透明导电层0的特性，将桥接处侵蚀成球面，增加搭接面积，降低桥接处的接触电阻，实现在柔性基材上低方阻的触控产品设计。

附图说明

图1为本发明实施例提供的触控模组的制作方法的流程图；

图2a至图2e分别为本发明实施例提供的制作方法中各步骤完成后的俯视结构示意图；

图3a至图3e分别为本发明实施例提供的制作方法中各步骤完成后的侧视结构示意图；

图4为本发明实施例提供的触控模组中在挖孔区域的结构示意图；

图5为本发明实施例提供的触控模组的结构示意图。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。

附图中各部件的形状和大小不反映真实比例，目的只是示意说明本发明内容。

目前市场上的柔性触控屏为匹配有机电致发光显示面板(OLED，Organic LightEmitting)，一般采用厚度较薄、光学特性佳的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET，Polyethyleneterephthalate)或光学塑料(COP，Cyclo-Olefin Polymer)作为触控(Touch Sensor)衬底基材，为匹配光学效果，先在基材上镀一层氧化铟锡(ITO，Indium Tin Oxides)，再进行后续膜层的制作。但该类基材玻璃化温度较低，难以承受较高温度，COP的玻璃化温度在160℃左右，PET的玻璃化温度在80℃左右。因此，例如以COP作为基材的柔性触控屏制程温度必须＜160℃，在溅镀ITO膜层时只能采用低温镀膜，即在此基材上溅镀ITO需在低温工艺下成形，一般在30℃。

目前，对于方阻在100Ω且厚度大约为

的ITO，ITO在低温溅镀后，经过90分钟在100℃或以上温度的退火(Anneal)可实现ITO的结晶化，即将低温镀膜下的非结晶态ITO转化为结晶态的ITO。结晶态的ITO成膜质量好，导电特性稳定，化学物理特性也稳定，不会受到柔性金属先进过程控制(APC，Advanced Process Control)中刻蚀液的攻击。

但若想提高柔性触控屏的应用尺寸，即从手机尺寸发展向便携式设备等发展，需要提高柔性触控屏的电学特性，例如灵敏度和触控精度，则必须降低ITO的方阻。降低ITO方阻的办法就是增加ITO厚度。按照比例计算，ITO若想实现30Ω的方阻，厚度必须达到1350A以上。

以COP为基材的柔性触控屏为例，在采用低温溅镀

的ITO时，ITO会发生微结晶，在COP可承受的温度以下进行退火后，无法使

的ITO实现结晶，故这种低方阻的ITO为非结晶态，其膜质不稳定。在实际工艺流程中，常规的柔性触控屏制作工艺流程为：在柔性衬底上形成第一层ITO图案→APC金属刻蚀→第一保护层→第二层ITO图案→第二保护层的5次掩模工艺结构，该种工艺方案对于100Ω的常规ITO来说，即使APC刻蚀液与ITO全面接触，也不会对ITO造成任何不良，ITO方阻及膜厚非常稳定。但对于低方阻的非结晶态ITO，在进行APC刻蚀时，APC刻蚀液就会对裸露的ITO进行侵蚀，造成ITO方阻增加，且侵蚀不均一，还会造成可视区的ITO图案厚度不均，发生肉眼可视的产品外观显示器亮度不均匀(Mura)的不良。

因此，如何避免非结晶态的ITO受到APC刻蚀液的攻击而导致mura，是本领域亟需解决的技术问题。

基于此，本发明实施例提供了一种触控模组的制作方法，如图1所示，具体包括以下步骤：

S101、在柔性衬底100上形成第一透明导电层200的图案；第一透明导电层200的材料为非结晶态；第一透明导电层200的图案包括位于可视区A的触控电极210，如图2a和图3a所示；

S102、在第一透明导电层200的图案上形成第一绝缘层300的图案；第一绝缘层300的图案在触控电极210之间的桥接处具有第一镂空区域P1，且第一绝缘层300的图案在触控电极210与搭接端子的桥接处具有第二镂空区域P2，如图2b和图3b所示；

S103、在第一绝缘层300的图案上形成金属层400的图案；金属层400的图案位于非可视区B，包括：金属引线410、与金属引线410的一端连接的绑定端子420、以及与金属引线410的另一端连接的搭接端子430，如图2c和图3c所示；

S104、在金属层400的图案上形成第二绝缘层500的图案；第二绝缘层500的图案在触控电极210之间的桥接处具有第三镂空区域P3，第二绝缘层500的图案在触控电极210与搭接端子430的桥接处具有第四镂空区域P4，第二绝缘层500的图案在绑定端子420处具有第五镂空区域P5，如图2d和图3d所示；

S105、在第二绝缘层500的图案上形成第二透明导电层600的图案，第二透明导电层600的图案包括：导通触控电极210之间的桥接处的触控桥接部610，即触控桥接部610的两端通过第一镂空区域P1和第三镂空区域P3与触控电极210电连接，以及导通触控电极210与搭接端子430的桥接处的搭接桥接部620，即搭接桥接部620的一端通过第二镂空区域P2和第三镂空区域P3与触控电极210电连接，搭接桥接部620的另一端通过第四镂空区域P4与搭接端子430电连接，如图2e和图3e所示。

具体地，在本发明实施例提供的上述制作方法中，在上述步骤S101中形成的第一透明导电层200的厚度越大，其方阻越低，为了实现低方阻的触控产品设计，第一透明导电层200的厚度一般控制在50Ω以下。在此方阻数值以下的第一透明导电层200在退火后无法形成结晶态。

具体地，在本发明实施例提供的上述制作方法中，在上述步骤S101中形成的位于可视区A的触控电极210可以具有多种具体结构，在此不做限定。例如可以具有如图2a所示的菱形结构，且沿着竖直方向的菱形结构可以相互连接，构成第一类触控电极，沿着水平方向的菱形结构相互断开，通过第二透明导电层600中的触控桥接部610相互连接，构成第二类触控电极。第一类触控电极可以作为触控驱动电极，第二类触控电极可以作为触控感应电极，反之亦可。图2a中仅是举例说明触控电极210的形状，在此不做限定。

具体地，在本发明实施例提供的上述制作方法中，在形成非结晶态的第一透明导电层200后，且在进行金属层400的图案刻蚀之前，增加在第一透明导电层200的图案上形成第一绝缘层300的图案的步骤，采用第一绝缘层300保护第一透明导电层200，可避免非结晶态的低方阻第一透明导电层200大面积暴露于APC刻蚀液下，造成第一透明导电层200被APC刻蚀液的不均匀侵蚀问题，进而避免引发第一透明导电层200的方阻升高及Mura的不良。

并且，在本发明实施例提供的上述制作方法中，第一绝缘层300的图案在触控电极210之间的桥接处和触控电极210与搭接端子430的桥接处均进行挖孔设计，即第一绝缘层300具有第一镂空区域P1和第二镂空区域P2，进而可以利用APC攻击低方阻的第一透明导电层200的特性，如图4所示，以触控电极210之间的桥接处为例，将桥接处侵蚀成球面，增加搭接面积，降低桥接处的接触电阻，实现在柔性基材上低方阻的触控产品设计。

可选地，在本发明实施例提供的上述制作方法中，如图2a和图3a所示，第一透明导电层200的图案还可以包括位于非可视区B的辅助部220，辅助部220至少位于金属引线410与柔性衬底100之间。

具体地，在本发明实施例提供的上述制作方法中，在金属引线410下方设置辅助部220可以提高金属层400在柔性衬底100上的附着力，减少脱落情况。辅助部220可以仅在金属引线410下方设置，还可以在绑定端子420和/或搭接端子430下方设置，在此不做限定。辅助部220与触控电极210之间相互绝缘。

可选地，在本发明实施例提供的上述制作方法中，如图2d和图3d所示，第一绝缘层300的图案仅位于可视区A；第二绝缘层500的图案仅位于非可视区B。

具体地，在本发明实施例提供的上述制作方法中，第一绝缘层300和第二绝缘层500的图案互不重叠，有利于减薄触控模组的整体厚度，且有利于触控桥接部610和搭接桥接部620的制作。并且，第一绝缘层300的图案仅位于可视区A，可以保证后续制作的金属层400可以直接与辅助部220接触，一方面可以提高金属层400在柔性衬底100上的附着力，减少脱落情况，另一方面还可以降低金属层400的方阻，提高信号传输速度。

或者，可选地，在本发明实施例提供的上述制作方法中，第一绝缘层300也可以覆盖非可视区B，即在金属层400与柔性衬底100之间设置第一绝缘层300的图案，这样，位于金属层400下方的第一绝缘层300也可以起到提高金属层400在柔性衬底100上附着力的作用。

可选地，在本发明实施例提供的上述制作方法中，如图5所示，还可以包括：在第二透明导电层600的图案上形成至少覆盖触控桥接部610和搭接桥接部620的第三绝缘层700的图案。

具体地，在本发明实施例提供的上述制作方法中，制作覆盖触控桥接部610和搭接桥接部620的第三绝缘层700可以对其起到保护作用，以防止受到外界环境侵蚀损坏。如图5所示，第三绝缘层700可以仅覆盖触控桥接部610和搭接桥接部620所在区域，即在触控电极210的其他区域未设置第三绝缘层700的图案，这样可以提高可视区A的整体光透过率，提高可视性。第三绝缘层700也可以覆盖全部的可视区A和部分非可视区B，只要露出绑定端子420即可，整面设置的第三绝缘层700有利于降低制作难度。

基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种触控模组，由于该触控模组解决问题的原理与前述一种触控模组的制作方法相似，因此该触控模组的实施可以参见制作方法的实施，重复之处不再赘述。

本发明实施例提供的一种触控模组，如图5所示，包括：

柔性衬底100；

位于柔性衬底100之上的第一透明导电层200的图案；第一透明导电层200的材料为非结晶态；第一透明导电层200的图案包括位于可视区A的触控电极210；

位于第一透明导电层200的图案之上的第一绝缘层300的图案；第一绝缘层300的图案在触控电极210之间的桥接处具有第一镂空区域P1，且第一绝缘层300的图案在触控电极210与搭接端子430的桥接处具有第二镂空区域P2；

位于第一绝缘层300的图案之上的金属层400的图案；金属层400的图案位于非可视区B，包括：金属引线410、与金属引线410的一端连接的绑定端子420、以及与金属引线410的另一端连接的搭接端子430；

位于金属层400的图案之上的第二绝缘层500的图案；第二绝缘层500的图案在触控电极210之间的桥接处具有第三镂空区域P3，第二绝缘层500的图案在触控电极210与搭接端子430的桥接具有第四镂空区域P4，第二绝缘层500的图案在绑定端子420处具有第五镂空区域P5；

位于第一绝缘层300的图案和第二绝缘层500的图案之上的第二透明导电层600的图案，第二透明导电层600的图案包括：导通触控电极210之间的桥接处的触控桥接部610，即触控桥接部610的两端通过第一镂空区域P1和第三镂空区域P3与触控电极210电连接，以及导通触控电极210与搭接端子430的桥接处的搭接桥接部620，即搭接桥接部620的一端通过第二镂空区域P2和第三镂空区域P3与触控电极210电连接，搭接桥接部620的另一端通过第四镂空区域P4与搭接端子430电连接。

可选地，在本发明实施例提供的上述触控模组中，第一透明导电层200的厚度越大，其方阻越低，为了实现低方阻的触控产品设计，第一透明导电层200的厚度一般控制在50Ω以下。在此方阻数值以下的第一透明导电层200在退火后无法形成结晶态。

具体地，在本发明实施例提供的上述触控模组中，位于可视区A的触控电极210可以具有多种具体结构，在此不做限定。例如可以具有如图2a所示的菱形结构，且沿着竖直方向的菱形结构可以相互连接，构成第一类触控电极，沿着水平方向的菱形结构相互断开，通过第二透明导电层600中的触控桥接部610相互连接，构成第二类触控电极。第一类触控电极可以作为触控驱动电极，第二类触控电极可以作为触控感应电极，反之亦可。图2a中仅是举例说明触控电极210的形状，在此不做限定。

具体地，在本发明实施例提供的上述触控模组中，在非结晶态的第一透明导电层200与金属层400之间增加了第一绝缘层300的图案，采用第一绝缘层300保护第一透明导电层200，可避免非结晶态的低方阻第一透明导电层200大面积暴露于APC刻蚀液下，造成第一透明导电层200被APC刻蚀液的不均匀侵蚀问题，进而避免引发第一透明导电层200的方阻升高及Mura的不良。

并且，在本发明实施例提供的上述触控模组中，第一绝缘层300的图案在触控电极210之间的桥接处和触控电极210与搭接端子430的桥接处均进行挖孔设计，即第一绝缘层300具有第一镂空区域P1和第二镂空区域P2，进而可以利用APC攻击低方阻的第一透明导电层200的特性，如图4所示，以触控电极210之间的桥接处为例，将桥接处侵蚀成球面，增加搭接面积，降低桥接处的接触电阻，实现在柔性基材上低方阻的触控产品设计。

可选地，在本发明实施例提供的上述触控模组中，如图5所示，第一透明导电层200的图案还可以包括位于非可视区B的辅助部220，辅助部220至少位于金属引线410与柔性衬底100之间。

具体地，在本发明实施例提供的上述触控模组中，在金属引线410下方设置辅助部220可以提高金属层400在柔性衬底100上的附着力，减少脱落情况。辅助部220可以仅在金属引线410下方设置，还可以在绑定端子420和/或搭接端子430下方设置，在此不做限定。辅助部220与触控电极210之间相互绝缘。

可选地，在本发明实施例提供的上述触控模组中，如图5所示，第一绝缘层300的图案一般仅位于可视区A；第二绝缘层500的图案一般仅位于非可视区B。

具体地，在本发明实施例提供的上述触控模组中，第一绝缘层300和第二绝缘层500的图案互不重叠，有利于减薄触控模组的整体厚度，且有利于触控桥接部610和搭接桥接部620的制作。并且，第一绝缘层300的图案仅位于可视区A，可以保证后续制作的金属层400可以直接与辅助部220接触，一方面可以提高金属层400在柔性衬底100上的附着力，减少脱落情况，另一方面还可以降低金属层400的方阻，提高信号传输速度。

或者，可选地，在本发明实施例提供的上述触控模组中，第一绝缘层300也可以覆盖非可视区B，即在金属层400与柔性衬底100之间设置第一绝缘层300的图案，这样，位于金属层400下方的第一绝缘层300也可以起到提高金属层400在柔性衬底100上附着力的作用。

可选地，在本发明实施例提供的上述触控模组中，如图5所示，还可以包括：位于第二透明导电层600的图案之上且至少覆盖触控桥接部610和搭接桥接部620的第三绝缘层700的图案。

具体地，在本发明实施例提供的上述触控模组中，覆盖触控桥接部610和搭接桥接部620的第三绝缘层700可以对其起到保护作用，以防止受到外界环境侵蚀损坏。如图5所示，第三绝缘层700可以仅覆盖触控桥接部610和搭接桥接部620所在区域，即在触控电极210的其他区域未设置第三绝缘层700的图案，这样可以提高可视区A的整体光透过率，提高可视性。第三绝缘层700也可以覆盖全部的可视区A和部分非可视区B，只要露出绑定端子420即可，整面设置的第三绝缘层700有利于降低制作难度。

基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括本发明实施例提供的上述触控模组，该显示装置可以为：手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。该显示装置的实施可以参见上述触控模组的实施例，重复之处不再赘述。

本发明实施例提供的上述触控模组、其制作方法及显示装置，在形成非结晶态的第一透明导电层后，且在进行金属层的图案刻蚀之前，增加在第一透明导电层的图案上形成第一绝缘层的图案的步骤，采用第一绝缘层保护第一透明导电层，可避免非结晶态的低方阻第一透明导电层大面积暴露于APC刻蚀液下，造成第一透明导电层被APC刻蚀液的不均匀侵蚀问题，进而避免引发第一透明导电层的方阻升高及Mura的不良。并且，第一绝缘层的图案在触控电极之间的桥接处和触控电极与搭接端子的桥接处均进行挖孔设计，即第一绝缘层具有第一镂空区域和第二镂空区域，进而可以利用APC攻击低方阻的第一透明导电层0的特性，将桥接处侵蚀成球面，增加搭接面积，降低桥接处的接触电阻，实现在柔性基材上低方阻的触控产品设计。

显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (10)

1.一种触控模组的制作方法，其特征在于，包括：

在柔性衬底上形成第一透明导电层的图案；所述第一透明导电层的材料为非结晶态；所述第一透明导电层的图案包括位于可视区的触控电极；

在所述第一透明导电层的图案上形成第一绝缘层的图案；所述第一绝缘层的图案在所述触控电极之间的桥接处具有第一镂空区域，且所述第一绝缘层的图案在所述触控电极与搭接端子的桥接处具有第二镂空区域；

在所述第一绝缘层的图案上形成金属层的图案；所述金属层的图案位于非可视区，包括：金属引线、与所述金属引线的一端连接的绑定端子、以及与所述金属引线的另一端连接的所述搭接端子；

在所述金属层的图案上形成第二绝缘层的图案；所述第二绝缘层的图案在所述触控电极之间的桥接处具有第三镂空区域，所述第二绝缘层的图案在所述触控电极与搭接端子的桥接处具有第四镂空区域，所述第二绝缘层的图案在所述绑定端子处具有第五镂空区域；

在所述第二绝缘层的图案上形成第二透明导电层的图案，所述第二透明导电层的图案包括：导通所述触控电极之间的桥接处的触控桥接部，以及导通所述触控电极与所述搭接端子的桥接处的搭接桥接部。

2.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述第一透明导电层的图案还包括位于所述非可视区的辅助部，所述辅助部至少位于所述金属引线与所述柔性衬底之间。

3.如权利要求2所述的制作方法，其特征在于，所述第一绝缘层的图案仅位于所述可视区；所述第二绝缘层的图案仅位于所述非可视区。

4.如权利要求1-3任一项所述的制作方法，其特征在于，还包括：在所述第二透明导电层的图案上形成至少覆盖所述触控桥接部和所述搭接桥接部的第三绝缘层的图案。

5.一种触控模组，其特征在于，包括：

柔性衬底；

位于所述柔性衬底之上的第一透明导电层的图案；所述第一透明导电层的材料为非结晶态；所述第一透明导电层的图案包括位于可视区的触控电极；

位于所述第一透明导电层的图案之上的第一绝缘层的图案；所述第一绝缘层的图案在所述触控电极之间的桥接处具有第一镂空区域，且所述第一绝缘层的图案在所述触控电极与搭接端子的桥接处具有第二镂空区域；

位于所述第一绝缘层的图案之上的金属层的图案；所述金属层的图案位于非可视区，包括：金属引线、与所述金属引线的一端连接的绑定端子、以及与所述金属引线的另一端连接的所述搭接端子；

位于所述金属层的图案之上的第二绝缘层的图案；所述第二绝缘层的图案在所述触控电极之间的桥接处具有第三镂空区域，所述第二绝缘层的图案在所述触控电极与搭接端子的桥接处具有第四镂空区域，所述第二绝缘层的图案在所述绑定端子处具有第五镂空区域；

位于所述第一绝缘层的图案和所述第二绝缘层的图案之上的第二透明导电层的图案，所述第二透明导电层的图案包括：导通所述触控电极之间的桥接处的触控桥接部，以及导通所述触控电极与所述搭接端子的桥接处的搭接桥接部。

6.如权利要求5所述的触控模组，其特征在于，所述第一透明导电层的图案还包括位于所述非可视区的辅助部，所述辅助部至少位于所述金属引线与所述柔性衬底之间。

7.如权利要求6所述的触控模组，其特征在于，所述第一绝缘层的图案仅位于所述可视区；所述第二绝缘层的图案仅位于所述非可视区。

8.如权利要求5-7任一项所述的触控模组，其特征在于，还包括：位于所述第二透明导电层的图案之上且至少覆盖所述触控桥接部和所述搭接桥接部的第三绝缘层的图案。

9.如权利要求5-7任一项所述的触控模组，其特征在于，所述第一透明导电层的方阻小于50Ω。

10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求5-9任一项所述的触控模组。

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