CN109023299A - 一种镁/镁合金的水滑石-氧化铝复合涂层的制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种镁/镁合金的水滑石‑氧化铝复合涂层的制备方法，其中包括镁合金的预处理、水滑石涂层的制备、水滑石涂层预处理和原子层沉积氧化铝层四个步骤，其主要化学原料包括硝酸铝、硝酸镁、碳酸钠、氢氧化钠、三甲基铝和超纯水。其技术路线是，采用水热法先在镁/镁合金基体表面合成碳酸根的水滑石薄膜；然后在表面活化后，利用原子层沉积技术在水滑石表面沉积氧化铝涂层。本发明具有制备简单易控，得到的复合涂层具有结构致密、附着力强、耐蚀性能良好的特点；本发明所制备的复合材料适用于工程装备的镁合金材料用材等的防护。

Description

一种镁/镁合金的水滑石-氧化铝复合涂层的制备方法
技术领域
本发明涉及涂层制备技术领域，具体涉及一种镁/镁合金的水滑石-氧化铝复合涂层的制备方法。
背景技术
镁及其合金具有重量轻、比强度高、抗震性好等特点，是新一代轻金属结构材料，在3C产品、汽车、高铁和航空航天领域具有广泛的应用前景。但是，镁合金过快的腐蚀速率依然是限制其应用的主要因素。镁的高活性造成镁合金结构件在使用过程中容易发生腐蚀。镁合金构件如与异种金属连结，则易于产生电偶腐蚀。因此，开发一种有效的防腐蚀涂层与技术是目前推进镁合金规模化应用亟待解决的难题。
目前，人们主要从两个方面着手来解决此问题。第一种思路是提高镁合金自身的耐蚀性，常用途径有：(1)制备高纯镁；(2)添加合金元素；(3)采用快速凝固等技术。第二种思路是对镁合金进行表面改性，包括制备功能涂层、化学转化处理等。当前绝大部分表面处理方法只是在镁合金表面构筑一层保护屏障，一旦这种保护屏障消失或损坏，镁合金基体将马上受到破坏性离子的腐蚀，因而开发一种集屏障保护、特定功能和受损自修复特性于一体的新型涂层迫在眉睫。
水滑石涂层(LDHs)组成和结构可调性、层间离子的可交换性使水滑石类材料具备了多种物理化学性能，更为难得的是我们可以按照需求人为地设计组装复合要求的水滑石类材料。这使得水滑石类材料在催化、吸附、光化学、电化学、磁学、医药农药、阻燃剂、环境治理、材料保护等领域具有广阔的应用前景。
中国专利申请CN103695871A公开了一种缓蚀性阴离子插层水滑石薄膜的制备方法，其包括以下步骤：a、对镁合金样品进行预处理的步骤；b、配制层状双羟基复合金属氧化物前驱体(LDHs溶胶)的步骤；c、将步骤a预处理得到的镁合金样品和步骤b的LDHs溶胶置于水热反应釜中进行水热沉积的步骤。但是，上述技术方案所制得的水滑石薄膜的耐腐蚀性较差。
曾荣昌等(Front.Mater.Sci.2015,9(4):355–365)在水滑石表面制备了聚乳酸的LDH/PLA复合层，聚乳酸的加入提高了涂层的耐蚀性，但是效果并不理想。另外高分材料的多孔性，并不能够有效阻挡腐蚀性离子的侵入，当离子穿过有机层后会加快基体腐蚀。
原子层沉积(Atomic Layer Deposition，ALD)技术的特点是一种以层层生长，每层的生长都是通过自限制的化学反应进行。原子层沉积可以实现薄膜厚度在单原子层量级的可控，在纵横比很大的三维结构上可实现100％均匀和保形的薄膜覆盖。
原子层沉积技术目前主要用于半导体领域，制备高K材料(即高介电常数材料)和IC(integrated circuit集成电路)互联技术，目前还没有检索到利用原子层沉积技术封孔镁合金水滑石的专利，不过有文献(Nanoscale，2017年第9期)报道，利用原子层沉积技术在多孔微弧氧化表面沉积Zn-Al-O的涂层，这种涂层具有结构致密的特点，但是对耐蚀性的提高微乎其微。因此，为了进一步提高水滑石的性能，遴选效果更好的原子层沉积工艺还是非常有必要的。
发明内容
为解决镁/镁合金服役时间短，水滑石多孔层耐蚀性差，无法满足人们的需要的问题，本发明提供一种镁/镁合金的水滑石-氧化铝复合涂层的制备方法。
本发明采用以下的技术方案：
一种镁/镁合金的水滑石-氧化铝复合涂层的制备方法，采用以下步骤：
(1)将镁或镁合金基体依次经过机械打磨、氢氧化钠溶液和去离子水中清洗，氮气干燥，去除表面的氧化物和杂质；
(2)前驱体制备
按摩尔比3:1:8:2的比例，分别称取Mg(NO3)2·6H2O、Al(NO3)3·9H2O、NaOH和Na2CO3，备用；
将所取Mg(NO3)2·6H2O置于三口烧瓶中，加去离子水溶解，配制成摩尔浓度为0.1-0.5M的Mg(NO3)2·6H2O溶液；然后，加入所取Al(NO3)3·9H2O，搅拌溶解，配成混合溶液A，并将混合溶液A置于50-80℃的水浴中加热，直至烧瓶中的混合溶液A温度不再变化；
将所取NaOH置于容器中，加去离子水溶解，配制成摩尔浓度为0.4-1.2M的NaOH溶液；然后，加入所取Na2CO3，搅拌溶解，配制成混合溶液B；
采用边剧烈搅拌、边逐滴滴加的方式，将上述混合溶液B全部加入到上述装有混合溶液A的烧瓶中，与混合溶液A均匀混合；
然后，继续搅拌24-60小时，再静置陈化6-18小时，得到乳白色溶胶状的前驱体；
(3)水滑石涂层制备
将步骤(2)所制得的乳白色溶胶状的前驱体移入水热反应釜内，并将镁/镁合金基材埋入乳白色溶胶状的前驱体中，将水热反应釜密封后，置于干燥箱中，在100-150℃下，保温12-60小时以使水热反应完全；
然后，打开水热反应釜，取出镁/镁合金基材，用去离子水洗净、吹干，得到具有水滑石涂层的镁/镁合金材料；
(4)复合涂层制备
将步骤(3)所制得的具有水滑石涂层的样品置于原子层沉积设备反应腔中，升温至100℃以上恒温半小时预先活化，然后进行水滑石涂层上氧化铝纳米膜层的原子层沉积；
原子层沉积过程为：
反应前驱体源：三甲基铝和超纯水，前驱体保持在室温；载气：5-15sccm的高纯氮气；沉积温度：100-200℃；腔室压力：0.2Torr；
工艺出源和吹扫时间，循环周期：①三甲基铝出源时间为0.015-0.1s，吹扫时间为10-200s；②水出源时间为0.015-0.2s，吹扫时间为10-200s；循环周期为1-10000周期，得到均匀致密的水滑石-氧化铝复合涂层。
上述技术方案直接带来的技术效果是，将现有的水滑石技术与原子层沉积技术巧妙的结合在一起，利用原子层沉积技术的高结合力和三维保型性，以共价键结合制备出具有强结合力和致密的复合涂层。
优选地，步骤(2)中Mg(NO3)2·6H2O溶液的摩尔浓度为0.3M；水浴加热温度为65℃；NaOH溶液的摩尔浓度为0.8M；混合溶液B与混合溶液A进行混合后的继续搅拌时间为48小时，静置陈化时间为12小时。
优选地，步骤(3)中水热反应的温度为120℃，保温时间为36小时。
优选地，步骤(4)中活化温度为100-200℃；活化时间为0.5-3小时；活化环境为低于1Torr的真空环境。
优选地，步骤(4)中活化温度为120℃；活化时间为0.5小时。
优选地，步骤(4)中原子层沉积过程的载气：10sccm的高纯氮气；沉积温度：120℃。
优选地，步骤(4)中原子层沉积过程的循环周期：三甲基铝出源时间为0.020s，吹扫时间为60s；水出源时间为0.015s，吹扫时间为60s；循环周期为1000周期。
优选地，所制得的水滑石-氧化铝复合涂层的自腐蚀电位能够达到-1.44V/SCE，自腐蚀电流能够达到9.68×10-8A/cm2。
本发明具有的有益效果是：
提供了一种镁/镁合金的水滑石-氧化铝复合涂层的制备方法，采用水热法先在镁/镁合金基体表面合成碳酸根的水滑石薄膜；预先对水滑石层进行活化，利用原子层沉积技术以化学反应的方式在水滑石表面沉积氧化铝涂层，具有极佳的表面覆盖性，三维保型性，属于纳米级膜层厚度精确可控，能够对水滑石的裂纹缺陷完全覆盖，从而起到保护的作用；其制备过程简单易控，得到的复合涂层具有结构致密、附着力强、耐蚀性能良好的特点；所制备的复合材料能够适用于工程装备的镁合金材料用材等的防护。
附图说明
图1为实施例2中的水滑石涂层和水滑石-氧化铝复合涂层的微观形貌对比；
图2为实施例2中的水滑石-氧化铝复合涂层的XPS宽谱；
图3为实施例2中的水滑石-氧化铝复合涂层的Al 2p谱图和O 1s谱图；
图4为实施例2中的AZ31镁合金基体和水滑石-氧化铝复合涂层的极化曲线；
图5为实施例2中的AZ31镁合金基体和水滑石-氧化铝复合涂层的bode图；
图6为实施例2中的AZ31镁合金基体和水滑石-氧化铝复合涂层的阻抗谱；
图7为实施例2中的基体、水滑石涂层、水滑石-氧化铝复合涂层在3.5wt.％氯化钠溶液浸泡两周后的微观形貌及成分；
图8为实施例2中的基体、水滑石涂层、水滑石-氧化铝复合涂层在3.5wt.％氯化钠溶液浸泡两周后的XRD图。
具体实施方式
下面结合附图对本发明进行具体的说明：
实施例1
通过水热法在镁合金上制备LDH涂层，具体步骤为：
(1)将AZ31基体依次使用150#，400#，800#，1200#，1500#的水磨砂纸机械打磨，依次经过1mol/L氢氧化钠溶液和去离子水清洗，氮气干燥，去除表面的氧化物和杂质；
(2)前驱体制备
按摩尔比3:1:8:2的比例，分别称取Mg(NO3)2·6H2O、Al(NO3)3·9H2O、NaOH和Na2CO3，备用；
将所取Mg(NO3)2·6H2O置于三口烧瓶中，加去离子水溶解，配制成摩尔浓度为0.3M的Mg(NO3)2·6H2O溶液；然后，加入所取Al(NO3)3·9H2O，搅拌溶解，配成混合溶液A，并将混合溶液A置于65℃的水浴中加热，直至烧瓶中的混合溶液A温度不再变化；
将所取NaOH置于容器中，加去离子水溶解，配制成摩尔浓度为0.8M的NaOH溶液；然后，加入所取Na2CO3，搅拌溶解，配制成混合溶液B；
采用边剧烈搅拌、边逐滴滴加的方式，将上述混合溶液B全部加入到上述烧瓶中，与混合溶液A均匀混合；
然后，继续搅拌48小时，再静置陈化12小时，得到乳白色溶胶状的前驱体；
(3)水滑石涂层制备
将乳白色溶胶状的前驱体移入水热反应釜内，并将镁/镁合金基材埋入乳白色溶胶状的前驱体中，将水热反应釜密封后，置于干燥箱中，在120℃下，保温36小时以使水热反应完全；
然后，打开水热反应釜，取出镁/镁合金基材，用去离子水洗净、吹干，得到具有水滑石涂层的镁/镁合金材料；
(4)复合涂层制备
将水热后制备的水滑石样品置于原子层沉积设备反应腔中，升温至100℃恒温半小时预先活化，然后进行氧化铝纳米膜层的制备；
反应前驱体源：三甲基铝和超纯水，前驱体保持在室温；载气：5sccm的高纯氮气；沉积温度：100℃；腔室压力：0.2Torr；
原子层沉积过程为：工艺出源和吹扫时间，循环周期：三甲基铝出源时间为0.015s，吹扫时间为10s；水出源时间为0.015s，吹扫时间为10s，循环周期为500周期，得到均匀致密的氧化铝薄膜。
表1实施例1中原子层沉积工艺
实施例2
通过水热法在镁合金上制备LDH涂层，具体步骤为：
(1)将AZ31基体依次使用150#，400#，800#，1200#，1500#的水磨砂纸机械打磨，依次经过1mol/L氢氧化钠溶液和去离子水清洗，氮气干燥，去除表面的氧化物和杂质；
(2)前驱体制备
按摩尔比3:1:8:2的比例，分别称取Mg(NO3)2·6H2O、Al(NO3)3·9H2O、NaOH和Na2CO3，备用；
将所取Mg(NO3)2·6H2O置于三口烧瓶中，加去离子水溶解，配制成摩尔浓度为0.3M的Mg(NO3)2·6H2O溶液；然后，加入所取Al(NO3)3·9H2O，搅拌溶解，配成混合溶液A，并将混合溶液A置于65℃的水浴中加热，直至烧瓶中的混合溶液A温度不再变化；
将所取NaOH置于容器中，加去离子水溶解，配制成摩尔浓度为0.8M的NaOH溶液；然后，加入所取Na2CO3，搅拌溶解，配制成混合溶液B；
采用边剧烈搅拌、边逐滴滴加的方式，将上述混合溶液B全部加入到上述烧瓶中，与混合溶液A均匀混合；
然后，继续搅拌48小时，再静置陈化12小时，得到乳白色溶胶状的前驱体；
(3)水滑石涂层制备
将乳白色溶胶状的前驱体移入水热反应釜内，并将镁/镁合金基材埋入乳白色溶胶状的前驱体中，将水热反应釜密封后，置于干燥箱中，在120℃下，保温36小时以使水热反应完全；
然后，打开水热反应釜，取出镁/镁合金基材，用去离子水洗净、吹干，得到具有水滑石涂层的镁/镁合金材料；
(4)复合涂层制备
将水热后制备的水滑石样品置于原子层沉积设备反应腔中，升温至120℃恒温半小时预先活化，然后进行氧化铝纳米膜层的制备；
反应前驱体源：三甲基铝和超纯水，前驱体保持在室温；载气：10sccm的高纯氮气；沉积温度：120℃；腔室压力：0.2Torr；
原子层沉积过程为：工艺出源和吹扫时间，循环周期：三甲基铝出源时间为0.020s，吹扫时间为60s；水出源时间为0.015s，吹扫时间为60s，循环周期为1000周期，得到均匀致密的氧化铝薄膜。
表2实施例2中原子层沉积工艺
实施例3
通过水热法在镁合金上制备LDH涂层，具体步骤为：
(1)将AZ31基体依次使用150#，400#，800#，1200#，1500#的水磨砂纸机械打磨，依次经过1mol/L氢氧化钠溶液和去离子水清洗，氮气干燥，去除表面的氧化物和杂质；
(2)前驱体制备
按摩尔比3:1:8:2的比例，分别称取Mg(NO3)2·6H2O、Al(NO3)3·9H2O、NaOH和Na2CO3，备用；
将所取Mg(NO3)2·6H2O置于三口烧瓶中，加去离子水溶解，配制成摩尔浓度为0.3M的Mg(NO3)2·6H2O溶液；然后，加入所取Al(NO3)3·9H2O，搅拌溶解，配成混合溶液A，并将混合溶液A置于65℃的水浴中加热，直至烧瓶中的混合溶液A温度不再变化；
将所取NaOH置于容器中，加去离子水溶解，配制成摩尔浓度为0.8M的NaOH溶液；然后，加入所取Na2CO3，搅拌溶解，配制成混合溶液B；
采用边剧烈搅拌、边逐滴滴加的方式，将上述混合溶液B全部加入到上述烧瓶中，与混合溶液A均匀混合；
然后，继续搅拌48小时，再静置陈化12小时，得到乳白色溶胶状的前驱体；
(3)水滑石涂层制备
将乳白色溶胶状的前驱体移入水热反应釜内，并将镁/镁合金基材埋入乳白色溶胶状的前驱体中，将水热反应釜密封后，置于干燥箱中，在120℃下，保温36小时以使水热反应完全；
然后，打开水热反应釜，取出镁/镁合金基材，用去离子水洗净、吹干，得到具有水滑石涂层的镁/镁合金材料；
(4)复合涂层制备
将水热后制备的水滑石样品置于原子层沉积设备反应腔中，升温至200℃恒温2小时预先活化，然后进行氧化铝纳米膜层的制备；
反应前驱体源：三甲基铝和超纯水，前驱体保持在室温；载气：15sccm的高纯氮气；沉积温度：200℃；腔室压力：0.2Torr；
原子层沉积过程为：工艺出源和吹扫时间，循环周期：三甲基铝出源时间为0.1s，吹扫时间为200s；水出源时间为0.2s，吹扫时间为200s，循环周期为10000周期，得到均匀致密的氧化铝薄膜。
表3实施例3中原子层沉积工艺
实施例4
通过水热法在镁合金上制备LDH涂层，具体步骤为：
(1)将AZ31基体依次使用150#，400#，800#，1200#，1500#的水磨砂纸机械打磨，依次经过1mol/L氢氧化钠溶液和去离子水清洗，氮气干燥，去除表面的氧化物和杂质；
(2)前驱体制备
按摩尔比3:1:8:2的比例，分别称取Mg(NO3)2·6H2O、Al(NO3)3·9H2O、NaOH和Na2CO3，备用；
将所取Mg(NO3)2·6H2O置于三口烧瓶中，加去离子水溶解，配制成摩尔浓度为0.3M的Mg(NO3)2·6H2O溶液；然后，加入所取Al(NO3)3·9H2O，搅拌溶解，配成混合溶液A，并将混合溶液A置于65℃的水浴中加热，直至烧瓶中的混合溶液A温度不再变化；
将所取NaOH置于容器中，加去离子水溶解，配制成摩尔浓度为0.8M的NaOH溶液；然后，加入所取Na2CO3，搅拌溶解，配制成混合溶液B；
采用边剧烈搅拌、边逐滴滴加的方式，将上述混合溶液B全部加入到上述烧瓶中，与混合溶液A均匀混合；
然后，继续搅拌48小时，再静置陈化12小时，得到乳白色溶胶状的前驱体；
(3)水滑石涂层制备
将乳白色溶胶状的前驱体移入水热反应釜内，并将镁/镁合金基材埋入乳白色溶胶状的前驱体中，将水热反应釜密封后，置于干燥箱中，在120℃下，保温36小时以使水热反应完全；
然后，打开水热反应釜，取出镁/镁合金基材，用去离子水洗净、吹干，得到具有水滑石涂层的镁/镁合金材料；
(4)复合涂层制备
将水热后制备的水滑石样品置于原子层沉积设备反应腔中，升温至150℃恒温1小时预先活化，然后进行氧化铝纳米膜层的制备；
反应前驱体源：三甲基铝和超纯水，前驱体保持在室温；载气：8sccm的高纯氮气；沉积温度：160℃；腔室压力：0.2Torr；
原子层沉积过程为：工艺出源和吹扫时间，循环周期：三甲基铝出源时间为0.05s，吹扫时间为100s；水出源时间为0.05s，吹扫时间为100s，循环周期为1周期，得到氧化铝薄膜。
表4实施例4中原子层沉积工艺
实施例5
通过水热法在镁合金上制备LDH涂层，具体步骤为：
(1)将AZ31基体依次使用150#，400#，800#，1200#，1500#的水磨砂纸机械打磨，依次经过1mol/L氢氧化钠溶液和去离子水清洗，氮气干燥，去除表面的氧化物和杂质；
(2)前驱体制备
按摩尔比3:1:8:2的比例，分别称取Mg(NO3)2·6H2O、Al(NO3)3·9H2O、NaOH和Na2CO3，备用；
将所取Mg(NO3)2·6H2O置于三口烧瓶中，加去离子水溶解，配制成摩尔浓度为0.1M的Mg(NO3)2·6H2O溶液；然后，加入所取Al(NO3)3·9H2O，搅拌溶解，配成混合溶液A，并将混合溶液A置于50℃的水浴中加热，直至烧瓶中的混合溶液A温度不再变化；
将所取NaOH置于容器中，加去离子水溶解，配制成摩尔浓度为0.4M的NaOH溶液；然后，加入所取Na2CO3，搅拌溶解，配制成混合溶液B；
采用边剧烈搅拌、边逐滴滴加的方式，将上述混合溶液B全部加入到上述烧瓶中，与混合溶液A均匀混合；
然后，继续搅拌24小时，再静置陈化18小时，得到乳白色溶胶状的前驱体；
(3)水滑石涂层制备
将乳白色溶胶状的前驱体移入水热反应釜内，并将镁/镁合金基材埋入乳白色溶胶状的前驱体中，将水热反应釜密封后，置于干燥箱中，在100℃下，保温60小时以使水热反应完全；
然后，打开水热反应釜，取出镁/镁合金基材，用去离子水洗净、吹干，得到具有水滑石涂层的镁/镁合金材料；
(4)复合涂层制备
将水热后制备的水滑石样品置于原子层沉积设备反应腔中，升温至100℃恒温半小时预先活化，然后进行氧化铝纳米膜层的制备；
反应前驱体源：三甲基铝和超纯水，前驱体保持在室温；载气：5sccm的高纯氮气；沉积温度：100℃；腔室压力：0.2Torr；
原子层沉积过程为：工艺出源和吹扫时间，循环周期：三甲基铝出源时间为0.015s，吹扫时间为10s；水出源时间为0.015s，吹扫时间为10s；循环周期为10000周期，得到均匀致密的氧化铝薄膜。
实施例6
通过水热法在镁合金上制备LDH涂层，具体步骤为：
(1)将AZ31基体依次使用150#，400#，800#，1200#，1500#的水磨砂纸机械打磨，依次经过1mol/L氢氧化钠溶液和去离子水清洗，氮气干燥，去除表面的氧化物和杂质；
(2)前驱体制备
按摩尔比3:1:8:2的比例，分别称取Mg(NO3)2·6H2O、Al(NO3)3·9H2O、NaOH和Na2CO3，备用；
将所取Mg(NO3)2·6H2O置于三口烧瓶中，加去离子水溶解，配制成摩尔浓度为0.5M的Mg(NO3)2·6H2O溶液；然后，加入所取Al(NO3)3·9H2O，搅拌溶解，配成混合溶液A，并将混合溶液A置于80℃的水浴中加热，直至烧瓶中的混合溶液A温度不再变化；
将所取NaOH置于容器中，加去离子水溶解，配制成摩尔浓度为1.2M的NaOH溶液；然后，加入所取Na2CO3，搅拌溶解，配制成混合溶液B；
采用边剧烈搅拌、边逐滴滴加的方式，将上述混合溶液B全部加入到上述烧瓶中，与混合溶液A均匀混合；
然后，继续搅拌24小时，再静置陈化6小时，得到乳白色溶胶状的前驱体；
(3)水滑石涂层制备
将乳白色溶胶状的前驱体移入水热反应釜内，并将镁/镁合金基材埋入乳白色溶胶状的前驱体中，将水热反应釜密封后，置于干燥箱中，在150℃下，保温12小时以使水热反应完全；
然后，打开水热反应釜，取出镁/镁合金基材，用去离子水洗净、吹干，得到具有水滑石涂层的镁/镁合金材料；
(4)复合涂层制备
将水热后制备的水滑石样品置于原子层沉积设备反应腔中，升温至200℃恒温3小时预先活化，然后进行氧化铝纳米膜层的制备；
反应前驱体源：三甲基铝和超纯水，前驱体保持在室温；载气：15sccm的高纯氮气；沉积温度：200℃；腔室压力：0.2Torr；
原子层沉积过程为：工艺出源和吹扫时间，循环周期：三甲基铝出源时间为0.1s，吹扫时间为200s；水出源时间为0.2s，吹扫时间为200s，循环周期为100周期，得到均匀致密的氧化铝薄膜。
样品检测及结果：
图1a和图1b分别是实施例2中的水滑石涂层和沉积氧化铝后复合涂层的SEM形貌对比图。可以看出，水滑石的外层为薄插片式结构，片层较薄，呈无规则的方式排列，这种特殊的形貌，说明被水滑石涂层制备成功。经过ALD沉积1000周期氧化铝处理后，片层加厚。
进一步的使用X射线光电子能谱来详细的分析LDH/Al2O3复合涂层的元素组成和化学成键状态。图2和图3都经过了标准谱图C 1s 284.6eV的校正。图2是实施例2中LDH/氧化铝样品的宽谱，可以看出复合涂层表面主要包含C、O和Al元素。图3对O和Al三种元素具体分峰：Al 2p在73.60eV拟合出Al2O3，说明氧化铝主要以Al2O3的形式稳定存在，在72.66eV处Al-C的存在；O 1s只在531.46eV处有Al-O键，验证了Al2O3的存在。
表5 AZ31镁合金和LDH/Al2O3-1000复合涂层的自腐蚀电流和自腐蚀电位对比
图4是实施例2中AZ31镁合金基体和制备有涂层的样品在3.5wt％NaCl中的极化曲线。相关的电化学参数(自腐蚀电位Ecorr和自腐蚀电流密度icorr)被统计在表5中。可以看出，经过原子层沉积技术处理后的复合涂层的自腐蚀电流密度比AZ31镁合金的电流密度要小4个数量级，约为9.68×10-8A/cm2。自腐蚀电位的变化可以间接的体现涂层表面的平整度，可以看出ALD处理后的水滑石涂层更加的平整，也就是说填补了插层的孔隙，这与图1的形貌变化完全吻合。如图5和图6是实施例2中基体和复合涂层的交流阻抗测试，可以进一步的评估样品的结构和耐蚀性特征。图5是Bode图Z模量随着频率变化的趋势图，在较低频率下Z模量越大则说明材料具有更好的耐蚀性。从图中可以看出LDH/Al2O3-1000周期具有很好的耐蚀性。图6是Nyquist图，图中曲率半径越大，则材料的耐蚀性越好。AZ31基体在3.5wt％NaCl中只有不到200Ω·cm2。而经过ALD处理后的涂层在80000Ω·cm2以上。这一结果与图4和图5的结果相同。另外，复合涂层都是不收缩的，这说明涂层具有离子交换能力，LDH/Al2O3扩散效果更佳的明显。
图7是实施例2中AZ31基体(a)、水滑石(b)和LDH/Al2O3(c)在3.5wt％NaCl溶液中浸泡两周后的腐蚀形貌，可以看出基体腐蚀严重，水滑石经过浸泡以后形貌也遭到破坏且出现一定腐蚀裂纹，结合图8腐蚀后的XRD发现有一定量的氢氧化镁腐蚀产物出现。可以看到复合涂层的插片结构依然保存完好，XRD发现水滑石的特征峰依然明显，说明涂层没怎么被腐蚀。
以上分析，可以知道ALD技术是通过将气相前驱体脉冲交替地通入到反应腔室，并在沉积基体表面上发生表面化学反应形成薄膜的一种方法。以三甲基铝为Al源，以水蒸气为O源，整个反应可以分为两步：a、三甲基铝以气体的形式通入反应腔室，在LDH的衬底上(LDH衬底表面同样有大量的-OH活性位点)发生反应，夺去LDH-OH*的H，生成中间层Al-O-Al(CH3)2*，在此过程中生成副产物CH4，反应结束后通入高纯氮气将剩余的Al源和反应副产物吹扫干净；b、通入过量的O源水蒸气，与中间层的反应活性位点-CH3反应，得到一层的氧化铝层和反应副产物。之后高纯氮气吹扫，排出残余的气体。每个循环就会得到一层氧化铝的涂层，经过多个周期的沉积以后最终得到致密的氧化铝涂层。
反应1：Al(CH3)3(g)+LDH-OH*(s)→Al-O-Al(CH3)2*(s)+CH4(g) 式(1)
反应2：H2O(g)+Al(CH3)*(s)→Al-OH*(s)+CH4(g) 式(2)
总反应：2Al(CH3)3(g)+3H2O(g)→Al2O3(s)+6CH4(g) 式(3)
其中，*指吸附在沉积表面的官能团。
当然，上述说明并非是对本发明的限制，本发明也并不仅限于上述举例，本技术领域的技术人员在本发明的实质范围内所做出的变化、改型、添加或替换，也应属于本发明的保护范围。

Claims (8)

1.一种镁/镁合金的水滑石-氧化铝复合涂层的制备方法，其特征在于，采用以下步骤：
(1)将镁或镁合金基体依次经过机械打磨、氢氧化钠溶液和去离子水中清洗，氮气干燥，去除表面的氧化物和杂质；
(2)前驱体制备
按摩尔比3:1:8:2的比例，分别称取Mg(NO3)2·6H2O、Al(NO3)3·9H2O、NaOH和Na2CO3，备用；
将所取Mg(NO3)2·6H2O置于三口烧瓶中，加去离子水溶解，配制成摩尔浓度为0.1-0.5M的Mg(NO3)2·6H2O溶液；然后，加入所取Al(NO3)3·9H2O，搅拌溶解，配成混合溶液A，并将混合溶液A置于50-80℃的水浴中加热，直至烧瓶中的混合溶液A温度不再变化；
将所取NaOH置于容器中，加去离子水溶解，配制成摩尔浓度为0.4-1.2M的NaOH溶液；然后，加入所取Na2CO3，搅拌溶解，配制成混合溶液B；
采用边剧烈搅拌、边逐滴滴加的方式，将上述混合溶液B全部加入到上述装有混合溶液A的烧瓶中，与混合溶液A均匀混合；
然后，继续搅拌24-60小时，再静置陈化6-18小时，得到乳白色溶胶状的前驱体；
(3)水滑石涂层制备
将步骤(2)所制得的乳白色溶胶状的前驱体移入水热反应釜内，并将镁/镁合金基材埋入乳白色溶胶状的前驱体中，将水热反应釜密封后，置于干燥箱中，在100-150℃下，保温12-60小时以使水热反应完全；
然后，打开水热反应釜，取出镁/镁合金基材，用去离子水洗净、吹干，得到具有水滑石涂层的镁/镁合金材料；
(4)复合涂层制备
将步骤(3)所制得的具有水滑石涂层的样品置于原子层沉积设备反应腔中，升温至100℃以上恒温半小时预先活化，然后进行水滑石涂层上氧化铝纳米膜层的原子层沉积；
原子层沉积过程为：
反应前驱体源：三甲基铝和超纯水，前驱体保持在室温；载气：5-15sccm的高纯氮气；沉积温度：100-200℃；腔室压力：0.2Torr；
工艺出源和吹扫时间，循环周期：①三甲基铝出源时间为0.015-0.1s，吹扫时间为10-200s；②水出源时间为0.015-0.2s，吹扫时间为10-200s；循环周期为1-10000周期，得到均匀致密的水滑石-氧化铝复合涂层。
2.根据权利要求1所述的一种镁/镁合金的水滑石-氧化铝复合涂层的制备方法，其特征在于，步骤(2)中Mg(NO3)2·6H2O溶液的摩尔浓度为0.3M；水浴加热温度为65℃；NaOH溶液的摩尔浓度为0.8M；混合溶液B与混合溶液A进行混合后的继续搅拌时间为48小时，静置陈化时间为12小时。
3.根据权利要求1所述的一种镁/镁合金的水滑石-氧化铝复合涂层的制备方法，其特征在于，步骤(3)中水热反应的温度为120℃，保温时间为36小时。
4.根据权利要求1所述的一种镁/镁合金的水滑石-氧化铝复合涂层的制备方法，其特征在于，步骤(4)中活化温度为100-200℃；活化时间为0.5-3小时；活化环境为低于1Torr的真空环境。
5.根据权利要求4所述的一种镁/镁合金的水滑石-氧化铝复合涂层的制备方法，其特征在于，步骤(4)中活化温度为120℃；活化时间为0.5小时。
6.根据权利要求1所述的一种镁/镁合金的水滑石-氧化铝复合涂层的制备方法，其特征在于，步骤(4)中原子层沉积过程的载气：10sccm的高纯氮气；沉积温度：120℃。
7.根据权利要求1或6所述的一种镁/镁合金的水滑石-氧化铝复合涂层的制备方法，其特征在于，步骤(4)中原子层沉积过程的循环周期：三甲基铝出源时间为0.020s，吹扫时间为60s；水出源时间为0.015s，吹扫时间为60s；循环周期为1000周期。
8.根据权利要求1所述的一种镁/镁合金的水滑石-氧化铝复合涂层的制备方法，其特征在于，所制得的水滑石-氧化铝复合涂层的自腐蚀电位能够达到-1.44V/SCE，自腐蚀电流能够达到9.68×10-8A/cm2。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113073322A (zh) * 2021-03-29 2021-07-06 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 镁合金表面耐蚀超疏水膜层及其制备方法与应用
CN113070030A (zh) * 2021-03-29 2021-07-06 西安科利思源环保科技有限公司 一种新型复合纳米材料的制备方法
CN113115580A (zh) * 2021-03-31 2021-07-13 海南大学 一种原子层沉积辅助制备ldh/碳复合材料的方法及所得产品和应用
CN114959661A (zh) * 2022-06-09 2022-08-30 辽宁工业大学 一种激光重熔复合ldh纳米片层提高镁合金耐蚀性的方法
CN116535884A (zh) * 2023-05-26 2023-08-04 西安科技大学 镁锂合金表面致密防腐耐磨SWF/LDHs复合涂层及制备方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101323953A (zh) * 2008-07-11 2008-12-17 北京化工大学 垂直基底生长的环糊精插层水滑石薄膜及其制备方法
CN103695871A (zh) * 2013-08-22 2014-04-02 山东科技大学 一种镁合金表面水热沉积法制备的缓蚀性阴离子插层水滑石薄膜
CN106544652A (zh) * 2016-11-25 2017-03-29 陕西品达石化有限公司 类水滑石‑二氧化硅复合薄膜的制备方法
CN107059005A (zh) * 2016-12-22 2017-08-18 山东科技大学 一种镁/镁合金基体表面的硅烷‑氧化铈‑水滑石复合涂层的制备方法
WO2018029704A2 (en) * 2016-08-08 2018-02-15 Heubach Colour Pvt. Ltd. A synthetic hydrotalcite and one pack stabilizer system comprising the same
CN108315800A (zh) * 2018-01-15 2018-07-24 山东科技大学 一种镁/镁合金的微弧氧化-氧化铝复合涂层的制备方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101323953A (zh) * 2008-07-11 2008-12-17 北京化工大学 垂直基底生长的环糊精插层水滑石薄膜及其制备方法
CN103695871A (zh) * 2013-08-22 2014-04-02 山东科技大学 一种镁合金表面水热沉积法制备的缓蚀性阴离子插层水滑石薄膜
WO2018029704A2 (en) * 2016-08-08 2018-02-15 Heubach Colour Pvt. Ltd. A synthetic hydrotalcite and one pack stabilizer system comprising the same
CN106544652A (zh) * 2016-11-25 2017-03-29 陕西品达石化有限公司 类水滑石‑二氧化硅复合薄膜的制备方法
CN107059005A (zh) * 2016-12-22 2017-08-18 山东科技大学 一种镁/镁合金基体表面的硅烷‑氧化铈‑水滑石复合涂层的制备方法
CN108315800A (zh) * 2018-01-15 2018-07-24 山东科技大学 一种镁/镁合金的微弧氧化-氧化铝复合涂层的制备方法

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113073322A (zh) * 2021-03-29 2021-07-06 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 镁合金表面耐蚀超疏水膜层及其制备方法与应用
CN113070030A (zh) * 2021-03-29 2021-07-06 西安科利思源环保科技有限公司 一种新型复合纳米材料的制备方法
CN113115580A (zh) * 2021-03-31 2021-07-13 海南大学 一种原子层沉积辅助制备ldh/碳复合材料的方法及所得产品和应用
CN113115580B (zh) * 2021-03-31 2022-05-27 海南大学 一种原子层沉积辅助制备ldh/碳复合材料的方法及所得产品和应用
CN114959661A (zh) * 2022-06-09 2022-08-30 辽宁工业大学 一种激光重熔复合ldh纳米片层提高镁合金耐蚀性的方法
CN116535884A (zh) * 2023-05-26 2023-08-04 西安科技大学 镁锂合金表面致密防腐耐磨SWF/LDHs复合涂层及制备方法
CN116535884B (zh) * 2023-05-26 2024-02-20 西安科技大学 镁锂合金表面致密防腐耐磨SWF/LDHs复合涂层及制备方法

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