CN108958526A - 一种改善蚀刻痕迹的触摸屏制作工艺 - Google Patents

一种改善蚀刻痕迹的触摸屏制作工艺 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种改善蚀刻痕迹的触摸屏制作工艺，是制作位于外周的聚酯网和位于中间的钢丝网复合的复合网版，然后采用耐酸油墨TPER‑5200配合复合网版，通过丝网印刷工艺形成0.07～0.15mm间隙的遮蔽层，进而蚀刻形成相应间隙的电极图形。这种宽度的蚀刻痕迹难以被肉眼察觉，从而在无需消影镀层的情况下实现了消影效果，避免了消影镀层所带来的透光度和色差等问题，且相对于消影底材，其材料成本降低60～70％；相对于黄光制程其生产周期短，制造成本低，并能达到与黄光制程相同的制造精度，经济实惠，适于推广应用。

Description

一种改善蚀刻痕迹的触摸屏制作工艺
技术领域
本发明涉及触摸屏的制造技术，特别是涉及一种改善蚀刻痕迹的触摸屏制作工艺。
背景技术
触摸屏图形通常是由沿第一方向排布的第一电极条和沿第二方向排布的第二电极条形成的阵列结构，由整面或双面电极材料通过蚀刻形成，同向电极条的行业标准间隙正常为0.3mm左右，由于电极材料和基板反射率的差异，这种宽度间隙的蚀刻痕迹会被人眼所捕捉，即肉眼会看到触摸屏图形，视觉体验较差。
为了减少视觉反差，实现消影效果，常规的做法是进行消影镀层处理，尤其对于第一电极条和第二电极条制作于基板正反面的情况，需要采用双面消影镀层才能看不到蚀刻痕迹，材料成本和制造成本高，且由于消影镀层的存在减少了透光率并容易导致色差等问题。
改进的方法是减小同向电极条的间隙，将其降至肉眼不可分辨的范围之内，无需消影镀层即可实现消影效果。目前制作小间隙必须采用黄光制程才能达到其精度要求。黄光工艺需要制作相应的光罩，并通过曝光、显影等步骤来制作相应的光阻图案，工艺复杂，制造成本和开模成本高。
上述问题导致高品质触摸屏的生产成本高，从而搭载相应触摸屏的终端产品造价居高不下，这极大制约了行业的发展。因此，在确保触摸屏品质的前提下，寻求一种经济实用的制造工艺对于推动行业发展具有重要的意义。
发明内容
本发明的目的在于解决现有技术存在的不足，提供一种改善蚀刻痕迹的触摸屏制作工艺。
本发明的技术方案为：
一种改善蚀刻痕迹的触摸屏制作工艺，包括以下步骤：
1)提供复合网版，所述复合网版的网纱区域由位于外周的聚酯网和位于中间的钢丝网复合而成，其中所述聚酯网的目数为80～200目，线径为15～25μm；所述钢丝网的目数为420～520目，线径为12～20μm，张网角度为45°；所述钢丝网区域具有呈条形且平行间隔排列的若干涂层区，相邻涂层区的间隙形成漏浆区，其中涂层区的宽度为0.07～0.15mm；
2)提供触摸屏底材，所述触摸屏底材包括基板以及设于所述基板至少一面上的电极材料层，采用步骤1)所述复合网版，取耐酸油墨通过丝网印刷工艺于所述电极材料层上形成与漏浆区相对应的遮蔽层，所述耐酸油墨是TPER-5200，来自日本互应化学公司；
3)对所述耐酸油墨进行紫外固化，然后蚀刻去除电极材料层裸露的部分，剥离所述耐酸油墨，得到与所述遮蔽层对应的电极图形。
可选的，所述聚酯网与所述钢丝网的面积比为1～5:1。
可选的，所述紫外固化是于UV炉中进行固化，其中皮带传送速度为2-2.5m/min，UV能量为800-1000毫焦。
可选的，所述基板是玻璃或者PET薄膜，所述电极材料层是ITO。
可选的，所述电极材料层的厚度为30～50nm。
可选的，所述复合网版的涂层区的厚度为25～40μm，所述遮蔽层的厚度为5-15μm。
本发明的有益效果是：
1.通过复合网版，采用丝网印刷的工艺制作0.07～0.15mm间隙的电极图形，这种宽度的蚀刻痕迹难以被肉眼察觉，从而在无需消影镀层的情况下实现了消影效果，避免了消影镀层所带来的透光度和色差等问题，且相对于消影底材，其材料成本降低60～70％；相对于黄光制程其生产周期短，制造成本低，并能达到与黄光制程相同的制造精度，经济实惠，适于推广应用。
2.复合网版采用聚酯网和钢丝网结合，克服了钢丝网回弹性差，受力过大易塑性变形等问题，精度高，同时搭配使用TPER-5200耐酸油墨，立体感较强，不易扩散，图形精度高。
3.不受底材以及触摸屏类型的限制，适用于单基板双面电极材料以及双层基板等产品结构，使用范围广。
附图说明
图1是一实施例的网版的结构示意图；
图2是一实施例的工艺流程示意图。
具体实施方式
以下结合附图和实施例对本发明做进一步具体的说明。
一种改善蚀刻痕迹的触摸屏制作工艺包括以下步骤：
步骤1：提供复合网版，所述复合网版的网纱区域由位于外周的聚酯网和位于中间的钢丝网复合而成，其中所述聚酯网的目数为80～200目，线径为15～25μm；所述钢丝网的目数为420～520目，线径为12～20μm，张网角度为45°；所述钢丝网区域具有呈条形且平行间隔排列的若干涂层区，相邻涂层区的间隙形成漏浆区，其中涂层区的宽度为0.07～0.15mm；所述聚酯网与所述钢丝网的面积比为1～5:1；
步骤2：提供触摸屏底材，所述触摸屏底材包括基板以及设于所述基板至少一面上的电极材料层，采用步骤1)所述复合网版，取耐酸油墨通过丝网印刷工艺于所述电极材料层上形成与漏浆区相对应的遮蔽层，所述耐酸油墨是TPER-5200；所述基板是玻璃或者PET薄膜，所述电极材料层是ITO；所述电极材料层的厚度为30～50nm；所述复合网版的涂层区的厚度为25～40μm，所述遮蔽层的厚度为5-15μm。
步骤3：对所述耐酸油墨进行紫外固化，然后蚀刻去除电极材料层裸露的部分，剥离所述耐酸油墨，得到与所述遮蔽层对应的电极图形；所述紫外固化是于UV炉中进行固化，其中皮带传送速度为2-2.5m/分钟，UV能量为800-1000毫焦。
举例来说，参考图1，复合网版1采用90×90cm铝框11，铝框11内的网纱区域外周聚酯网纱12宽度大约20cm，中间部分90×90cm区域采用钢丝网13，网纱目数420目，线径18μm，张网角度45度倾斜角。钢丝网13区域具有呈条形且平行间隔排列的若干涂层区，相邻涂层区的间隙形成漏浆区，其中涂层区的宽度为0.15mm，厚度为36μm。参考图2a，触摸屏底材2包括玻璃基板21以及设于玻璃基板21相对两面上的ITO电极层22，总厚度为0.7mm，其中ITO电极层的厚度分别为40nm。采用复合网版印刷工艺搭配耐酸油墨TPER-5200于ITO电极层22上形成与漏浆区相对应的遮蔽层3，然后立马采用UV炉固化。参考图2b，遮蔽层3也呈条形且平行间隔排列，其间隔D即为涂层区的宽度0.15mm。参考图2c，蚀刻去除ITO电极层裸露的部分，剥离所述耐酸油墨，得到与所述遮蔽层对应的电极图形22’，电极图形22’的间隙D即为0.15mm。同样的步骤对反面的ITO电极层进行印刷及蚀刻，且使正反面的电极图形互相垂直，即得到触控结构。
通过上述工艺各步骤以及网版和油墨的配合，印刷立体感强，不易扩散，从而可以保证良率和精度，可以实现快速、稳定的批量生产。
上述实施例仅用来进一步说明本发明的一种改善蚀刻痕迹的触摸屏制作工艺，但本发明并不局限于实施例，凡是依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均落入本发明技术方案的保护范围内。

Claims (6)

1.一种改善蚀刻痕迹的触摸屏制作工艺，其特征在于包括以下步骤：
1)提供复合网版，所述复合网版的网纱区域由位于外周的聚酯网和位于中间的钢丝网复合而成，其中所述聚酯网的目数为80～200目，线径为15～25μm；所述钢丝网的目数为420～520目，线径为12～20μm，张网角度为45°；所述钢丝网区域具有呈条形且平行间隔排列的若干涂层区，相邻涂层区的间隙形成漏浆区，其中涂层区的宽度为0.07～0.15mm；
2)提供触摸屏底材，所述触摸屏底材包括基板以及设于所述基板至少一面上的电极材料层，采用步骤1)所述复合网版，取耐酸油墨通过丝网印刷工艺于所述电极材料层上形成与漏浆区相对应的遮蔽层，所述耐酸油墨是TPER-5200；
3)对所述耐酸油墨进行紫外固化，然后蚀刻去除电极材料层裸露的部分，剥离所述耐酸油墨，得到与所述遮蔽层对应的电极图形。
2.根据权利要求1所述的改善蚀刻痕迹的触摸屏制作工艺，其特征在于：所述聚酯网与所述钢丝网的面积比为1～5:1。
3.根据权利要求1所述的改善蚀刻痕迹的触摸屏制作工艺，其特征在于：所述紫外固化是于UV炉中进行固化，其中皮带传送速度为2-2.5m/min，UV能量为800-1000毫焦。
4.根据权利要求1所述的改善蚀刻痕迹的触摸屏制作工艺，其特征在于：所述基板是玻璃或者PET薄膜，所述电极材料层是ITO。
5.根据权利要求4所述的改善蚀刻痕迹的触摸屏制作工艺，其特征在于：所述电极材料层的厚度为30～50nm。
6.根据权利要求1所述的改善蚀刻痕迹的触摸屏制作工艺，其特征在于：所述复合网版的涂层区的厚度为25～40μm，所述遮蔽层的厚度为5-15μm。
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