CN108906548B - 一种图形化膜层的制备方法、涂布装置 - Google Patents
一种图形化膜层的制备方法、涂布装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN108906548B CN108906548B CN201810744528.8A CN201810744528A CN108906548B CN 108906548 B CN108906548 B CN 108906548B CN 201810744528 A CN201810744528 A CN 201810744528A CN 108906548 B CN108906548 B CN 108906548B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- coating
- liquid
- film layer
- controller
- patterned film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 145
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 142
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 23
- 238000000059 patterning Methods 0.000 title description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 102
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 21
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 19
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 18
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 15
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 15
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 5
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims 2
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 7
- 239000002699 waste material Substances 0.000 abstract description 7
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 6
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 6
- 239000002042 Silver nanowire Substances 0.000 description 5
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 5
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 3
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 3
- 229920000172 poly(styrenesulfonic acid) Polymers 0.000 description 3
- 229940005642 polystyrene sulfonic acid Drugs 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 2
- GKWLILHTTGWKLQ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydrothieno[3,4-b][1,4]dioxine Chemical compound O1CCOC2=CSC=C21 GKWLILHTTGWKLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- AQSJGOWTSHOLKH-UHFFFAOYSA-N phosphite(3-) Chemical class [O-]P([O-])[O-] AQSJGOWTSHOLKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D5/00—Processes for applying liquids or other fluent materials to surfaces to obtain special surface effects, finishes or structures
- B05D5/06—Processes for applying liquids or other fluent materials to surfaces to obtain special surface effects, finishes or structures to obtain multicolour or other optical effects
- B05D5/065—Processes for applying liquids or other fluent materials to surfaces to obtain special surface effects, finishes or structures to obtain multicolour or other optical effects having colour interferences or colour shifts or opalescent looking, flip-flop, two tones
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
本发明提供了一种图形化膜层的制备方法，包括以下步骤：提供基板、涂布液和涂布装置，涂布装置包括一个或多个涂布组件，以及与一个或多个涂布组件相连接的控制器；将涂布液添加到涂布组件中，通过控制器控制涂布组件在基板上按预设图形移动，进而使涂布组件中的涂布液按照预设图形涂布至基板上，得到图形化膜层。本发明提供的制备方法，采用了一种全新的图形化膜层的制备工艺，通过控制器控制涂布组件在基板上按预设图形移动，只需一步操作，最终即可得到图形化膜层。本发明的制备方法可取代传统的黄光工艺，极大地避免了材料的浪费、降低了成本、降低了危险性，提高了图形化膜层的制备效率、产品良率。
Description
技术领域
本发明属于显示技术领域，具体涉及一种图形化膜层的制备方法、涂布装置。
背景技术
OLED因其高色域、高对比度、广视角、颜色均匀等优点，被认为是最具潜力的显示技术。而在OLED显示技术中显示面板中的像素的形成及各种图形化膜层的形成是OLED显示技术中的关键技术。现在，在制备图形化膜层中通常是先整面成膜，然后通过光阻涂布、曝光、显影、蚀刻和剥离等黄光工艺来形成图案，但这种方法具有较高的危险性、生产的效率较低、会造成材料的浪费、提高产品的成本、产品的良率不可控等缺点。
目前，有人通过将多层需要图形化的膜层合并在一起仅通过一次黄光工艺进行图形化进而来减少黄工工艺的次数。但上述方法仍然会造成大量材料的浪费，成本的增加以及生产时间的增加，并没有从根本上解决黄光工艺的问题。
发明内容
鉴于此，本发明提供了一种图形化膜层的制备方法、涂布装置，采用一种全新的制备工艺，通过控制器控制涂布组件在基板上按控制器中的预设图形移动，进而使所述涂布组件中的所述涂布液按照所述预设图形涂布至所述基板上，只需一步操作，最终即可得到图形化膜层。
本发明第一方面提供了一种图形化膜层的制备方法，包括以下步骤：
提供基板、涂布液和涂布装置，所述涂布装置包括一个或多个涂布组件，以及与所述一个或多个涂布组件相连接的控制器；
将所述涂布液添加到所述涂布组件中，通过所述控制器控制所述涂布组件在所述基板上按预设图形移动，进而使所述涂布组件中的所述涂布液按照所述预设图形涂布至所述基板上，得到图形化膜层。
本发明第一方面提供的一种图形化膜层的制备方法，采用了一种现有技术还未出现过的、全新的图形化膜层的制备工艺和一种全新的涂布装置，通过控制器控制涂布组件在基板上按控制器中的预设图形移动，进而使所述涂布组件中的所述涂布液按照所述预设图形涂布至所述基板上。只需一步操作，最终即可得到图形化膜层。本发明提供的制备方法可取代传统的黄光工艺，极大地避免了材料的浪费、降低了成本、降低了危险性，提高了图形化膜层的制备效率、产品良率。
其中，所述涂布组件包括注入管、储液腔和喷嘴，所述喷嘴包括出液口，所述注入管与所述储液腔相连接，所述喷嘴与所述储液腔相连接，在所述涂布过程中，所述涂布液从所述注入管注入，并在所述储液腔中暂存，最终所述涂布液从所述出液口中流出。
其中，所述出液口上还设有一个或多个毛刷。
其中，所述控制器还用于控制所述涂布液从所述出液口中流出的速度。
其中，所述涂布液中固体物质的最大尺寸小于所述出液口的最大尺寸。
其中，所述涂布液的粘度为5-50cts。
其中，所述涂布液的固含量为1-20％。
其中，所述涂布液的表面张力为20-40dyn/cm。
其中，所述涂布液包括金属溶液或光刻胶。
本发明第二方面提供了一种涂布装置，所述涂布装置包括一个或多个涂布组件，以及与所述一个或多个涂布组件相连接的控制器，所述控制器用于控制所述涂布组件按预设图形移动，所述涂布组件包括注入管、储液腔和喷嘴，所述喷嘴包括出液口，所述注入管与所述储液腔相连接，所述喷嘴与所述储液腔相连接。
本发明第二方面提供的一种涂布装置，采用涂布组件和控制器，通过控制器控制涂布组件按预设图形移动，进而使涂布组件中的涂布液按照预设图形涂布至所述基板上，最终就能得到图形化膜层。本发明提供的涂布装置可简单、快速、一步成型地形成图形化膜层，省去了众多工序。极大地避免了材料的浪费、降低了成本、降低了危险性，提高了图形化膜层的制备效率、产品良率。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对本发明实施例中所需要使用的附图进行说明。
图1为本发明一实施例中图形化膜层的制备过程示意图；
图2为本发明一实施例中涂布装置的结构示意图。
具体实施方式
以下是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本发明的保护范围。
请参阅图1，本发明实施例提供的一种图形化膜层的制备方法，包括以下步骤：
步骤1：提供基板2、涂布液和涂布装置1，所述涂布装置1包括一个或多个涂布组件11，以及与所述一个或多个涂布组件11相连接的控制器12；
步骤2：将所述涂布液添加到所述涂布组件11中，通过所述控制器12控制所述涂布组件11在所述基板2上按预设图形移动，进而使所述涂布组件11中的所述涂布液按照所述预设图形涂布至所述基板2上，得到图形化膜层。
本发明实施例提供的一种图形化膜层的制备方法，采用了一种全新的图形化膜层的制备工艺和一种全新的涂布装置1，预先在控制器12中输入好需要在基板2上形成的预设图形，当开始工作时，通过控制器12控制涂布组件11在基板2上按控制器12中的预设图形进行移动，进而使所述涂布组件11中的所述涂布液按照所述预设图形涂布至所述基板2上。只需一步操作，最终即可得到图形化膜层。本发明提供的制备方法可取代传统的黄光工艺，极大地避免了材料的浪费、降低了成本、降低了危险性，提高了图形化膜层的制备效率、产品良率。另外，多个涂布组件11可以在多个基板2或同一块基板2上的多个位置形成多个相同的图形化膜层，大大降低了工艺的时间与成本。
本发明实施方式中，所述涂布组件11包括注入管111、储液腔112和喷嘴113，所述喷嘴113包括出液口114，所述注入管111与所述储液腔112相连接，所述喷嘴113与所述储液腔112相连接，在所述涂布过程中，所述涂布液从所述注入管111注入，并在所述储液腔112中暂存，最终所述涂布液从所述出液口114中流出。涂布液在涂布组件11的移动过程中流出，而由于涂布组件11是在控制器12的控制下按照规律的移动方向去进行移动的，因此涂布液也是按照规律的方向流出，因此可使涂布液中的固体物质规则排布。上述方式得到的图形化膜层可极大地提升显示面板在使用时电子或光子的传输速度。本发明实施例提供的涂布组件11，结构简单，可良好地应用在基板2上去在控制器12的控制下形成图形化膜层。
本发明实施方式中，所述出液口114上还设有一个或多个毛刷115。由于毛刷115中毛的存在，毛刷115可以更好地控制涂布液中固体物质的排布。例如当涂布液中的固体物质不是颗粒状，而是像银纳米线似的线状，毛刷115中的毛会在移动的过程中使银纳米线规则排布，使其银纳米线的电阻更小，导电性能更好。而多个毛刷115可以在同一块基板2上的多个位置形成多个相同的图形化膜层，进一步地降低了工艺的时间与成本。
本发明实施方式中，所述控制器12还用于控制所述涂布液从所述出液口114中流出的速度。当图形化膜层中有些部位需要厚一点或宽一些的时候，控制器12可以控制涂布液的流出速度大一点，而当图形化膜层中有些部位需要薄一点或窄一些的时候，控制器12可以控制涂布液的流出速度小一点。
本发明实施方式中，经一次形成的膜层的厚度为0.1-2μm。膜层的厚度可根据控制器12调节或涂布液的粘度、固含量和表面张力来调节。优选地，经一次形成的膜层的厚度为0.4-1.5μm。优选地，经一次形成的膜层的厚度为0.8-1.2μm。
本发明实施方式中，所述涂布液中固体物质的最大尺寸小于所述出液口114的最大尺寸。涂布液中的固体物质需要从出液口114中，因此所述涂布液中固体物质的最大尺寸必须小于所述出液口114的最大尺寸。其中，出液口114的最大尺寸为10-80μm。因此涂布液中的固体物质的最大尺寸需要小于80μm。优选地，出液口114的最大尺寸为10-60μm。优选地，出液口114的最大尺寸为10-35μm。
本发明实施方式中，所述涂布液的粘度为5-50cts。优选地，所述涂布液的粘度为10-40cts。更优选地，所述涂布液的粘度为20-30cts。
本发明实施方式中，所述涂布液的固含量为1-20％。优选地，所述涂布液的固含量为3-17％。更优选地，所述涂布液的固含量为7-13％。
本发明实施方式中，所述涂布液的表面张力为20-40dyn/cm。优选地，所述涂布液的表面张力为23-37dyn/cm。更优选地，所述涂布液的表面张力为28-31dyn/cm。
涂布液的粘度、固含量和表面张力都会影响着图形化膜层中图形的厚度与宽度。当粘度、固含量和表面张力过低时，涂布液会过于分散，变得比较“稀”，使图形无法成型。而当粘度、固含量和表面张力过高时，涂布液会集中、团聚在一起，使得涂布液从出液口114中的流出变得很不顺畅，同样影响着图形化膜层的形成。
本发明实施方式中，所述涂布液包括金属溶液或光刻胶。光刻胶包括有色光刻胶。
下面对金属溶液进行举例说明。当金属溶液为纳米银导线溶液时，按重量分数计，所述纳米银导线溶液包括可聚合单体1-10％，银纳米线(AgNW)0.5-3％、溶剂87-98.5％，所述可聚合单体包括3、4-乙撑二氧噻吩(PEDOT)0.5-5％和聚苯乙烯磺酸(PSS)0.5-5％。
本发明实施方式中，所述纳米银线为矩形，矩形的边长为5-30μm和5-30μm。
本发明实施方式中，所述溶剂包括甲醇、乙醇、异丙醇和丙三醇中的一种或多种。
本发明实施方式中，所述纳米银线溶液按重量分数计还包括催化剂1-3％和光稳定剂1-5％。
本发明实施方式中，所述光稳定剂包括苯甲酮类、苯并三唑类、辛氧基酚类和亚磷酸酯类中的一种或多种。
本发明实施方式中，所述纳米银导线溶液的制备方法为将PEDOT和PSS混合，得到可聚合单体，再将可聚合单体与银纳米线混合在一起，形成混合溶液，将混合溶液在恒温水浴的条件下以50-100℃的温度下密封搅拌3-120min。然后继续添加溶剂达到所需要的粘度和固含量。还可以在上述混合溶液中根据需要添加催化剂和光稳定剂。
请参阅图2，本发明实施例提供的一种涂布装置1，所述涂布装置1包括一个或多个涂布组件11，以及与所述一个或多个涂布组件11相连接的控制器12，所述控制器12用于控制所述涂布组件11按预设图形移动，所述涂布组件11包括注入管111、储液腔112和喷嘴113，所述喷嘴113包括出液口114，所述注入管111与所述储液腔112相连接，所述喷嘴113与所述储液腔112相连接。
本发明实施例提供的一种涂布装置1，采用涂布组件11和控制器12，用控制器12控制涂布组件11按预设图形移动，进而使涂布组件11中的涂布液按照预设图形涂布至所述基板2上，最终就能得到图形化膜层。本发明提供的涂布装置1可简单、快速、一步成型地形成图形化膜层，省去了众多工序。极大地避免了材料的浪费、降低了成本、降低了危险性，提高了图形化膜层的制备效率、产品良率。
以上对本发明实施方式所提供的内容进行了详细介绍，本文对本发明的原理及实施方式进行了阐述与说明，以上说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本发明的限制。
Claims (5)
1.一种图形化膜层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
提供基板、涂布液和涂布装置，所述涂布液的粘度为5-50cts，所述涂布液的固含量为1-20％，所述涂布液的表面张力为20-40dyn/cm，所述涂布装置包括一个或多个涂布组件，以及与所述一个或多个涂布组件相连接的控制器，预先在所述控制器中输入好需要在所述基板上形成的预设图形，所述涂布组件包括注入管、储液腔和喷嘴，所述喷嘴包括出液口，所述注入管与所述储液腔相连接，所述喷嘴与所述储液腔相连接，所述出液口上还设有一个或多个毛刷；
将所述涂布液添加到所述涂布组件中，在涂布过程中，所述涂布液从所述注入管注入，并在所述储液腔中暂存，最终所述涂布液从所述出液口中流出，通过所述控制器控制所述涂布组件在所述基板上按预设图形移动，进而使所述涂布组件中的所述涂布液按照预设图形涂布至所述基板上，得到图形化膜层。
2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述控制器还用于控制所述涂布液从所述出液口中流出的速度。
3.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述涂布液中固体物质的最大尺寸小于所述出液口的最大尺寸。
4.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述涂布液包括金属溶液。
5.一种涂布装置，其特征在于，采用如权利要求1-4任一项所述的图形化膜层的制备方法，所述涂布装置包括一个或多个涂布组件，以及与所述一个或多个涂布组件相连接的控制器，所述控制器用于控制所述涂布组件按预设图形移动，所述涂布组件包括注入管、储液腔和喷嘴，所述喷嘴包括出液口，所述注入管与所述储液腔相连接，所述喷嘴与所述储液腔相连接。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201810744528.8A CN108906548B (zh) | 2018-07-06 | 2018-07-06 | 一种图形化膜层的制备方法、涂布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201810744528.8A CN108906548B (zh) | 2018-07-06 | 2018-07-06 | 一种图形化膜层的制备方法、涂布装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN108906548A CN108906548A (zh) | 2018-11-30 |
| CN108906548B true CN108906548B (zh) | 2021-08-24 |
Family
ID=64425629
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201810744528.8A Active CN108906548B (zh) | 2018-07-06 | 2018-07-06 | 一种图形化膜层的制备方法、涂布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN108906548B (zh) |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1552091A (zh) * | 2001-07-03 | 2004-12-01 | ���������ƴ���ʽ���� | 涂布装置及涂布方法 |
| CN1960022A (zh) * | 2005-11-04 | 2007-05-09 | 精工爱普生株式会社 | 将流体刷涂到表面能图案化的衬底上限定的高分辨率结构 |
| CN101022893A (zh) * | 2004-08-23 | 2007-08-22 | 株式会社石井表记 | 用于喷墨打印机的排出速率控制方法、墨散布检查方法和定向膜形成方法 |
| CN103331232A (zh) * | 2013-05-30 | 2013-10-02 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 涂布喷头、具有该涂布喷头的涂布装置及其涂布方法 |
| CN103372519A (zh) * | 2012-04-19 | 2013-10-30 | 株式会社日立高新技术仪器 | 浆料涂布装置和浆料涂布方法以及芯片粘合装置 |
| CN203437271U (zh) * | 2013-07-09 | 2014-02-19 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种涂布装置 |
| CN106102933A (zh) * | 2014-03-10 | 2016-11-09 | 武藏工业株式会社 | 涂布装置及涂布方法 |
-
2018
- 2018-07-06 CN CN201810744528.8A patent/CN108906548B/zh active Active
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1552091A (zh) * | 2001-07-03 | 2004-12-01 | ���������ƴ���ʽ���� | 涂布装置及涂布方法 |
| CN101022893A (zh) * | 2004-08-23 | 2007-08-22 | 株式会社石井表记 | 用于喷墨打印机的排出速率控制方法、墨散布检查方法和定向膜形成方法 |
| CN1960022A (zh) * | 2005-11-04 | 2007-05-09 | 精工爱普生株式会社 | 将流体刷涂到表面能图案化的衬底上限定的高分辨率结构 |
| CN103372519A (zh) * | 2012-04-19 | 2013-10-30 | 株式会社日立高新技术仪器 | 浆料涂布装置和浆料涂布方法以及芯片粘合装置 |
| CN103331232A (zh) * | 2013-05-30 | 2013-10-02 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 涂布喷头、具有该涂布喷头的涂布装置及其涂布方法 |
| CN203437271U (zh) * | 2013-07-09 | 2014-02-19 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种涂布装置 |
| CN106102933A (zh) * | 2014-03-10 | 2016-11-09 | 武藏工业株式会社 | 涂布装置及涂布方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN108906548A (zh) | 2018-11-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Calvert | Inkjet printing for materials and devices | |
| Jiang et al. | Fabrication of transparent multilayer circuits by inkjet printing | |
| Xuan et al. | Inkjet-printed quantum dot color conversion films for high-resolution and full-color micro light-emitting diode displays | |
| JP4353579B2 (ja) | 高分子膜の選択的付着方法 | |
| Seifert et al. | Additive manufacturing technologies compared: morphology of deposits of silver ink using inkjet and aerosol jet printing | |
| TW589665B (en) | Methods of fabricating patterned layers on a substrate | |
| Kim et al. | Electrostatic-force-assisted dispensing printing of electrochromic gels for low-voltage displays | |
| US6413790B1 (en) | Preferred methods for producing electrical circuit elements used to control an electronic display | |
| Cao et al. | Numerical analysis of droplets from multinozzle inkjet printing | |
| US11189796B2 (en) | Array substrate and manufacturing method thereof, and display panel | |
| CN108198845B (zh) | 像素界定层及制备方法、显示基板及制备方法、显示装置 | |
| CN101490602A (zh) | 包含液体的膜结构 | |
| US20060228466A1 (en) | Solution dispense and patterning process and apparatus | |
| JP2014504422A (ja) | 電子ユニットの製造に使用するための印刷方法 | |
| Yang et al. | Stability of lines with zero receding contact angle produced by inkjet printing at small drop volume | |
| CN106784393B (zh) | 一种导电纳米线层，其图形化方法及应用 | |
| Zhang et al. | Direct Writing Large‐Area Multi‐Layer Ultrasmooth Films by an All‐Solution Process: Toward High‐Performance QLEDs | |
| JP2005243822A (ja) | 薄膜トランジスタの製造方法、薄膜トランジスタ、薄膜トランジスタ回路、電子デバイスおよび電子機器 | |
| CN109651882B (zh) | 一种喷墨打印用空穴注入层墨水及其在有机发光显示中的应用 | |
| CN105070650A (zh) | 梯形像素Bank结构和OLED器件的制备方法 | |
| CN108649052A (zh) | 一种阵列基板及其制作方法、显示装置 | |
| CN108906548B (zh) | 一种图形化膜层的制备方法、涂布装置 | |
| Tao et al. | Critical impact of solvent evaporation on the resolution of inkjet printed nanoparticles film | |
| CN1199794C (zh) | 喷墨打印制备金属薄膜的方法 | |
| Parsekian et al. | Scalable, Alternating Narrow Stripes of Polyvinyl Alcohol Support and Unmodified PEDOT: PSS with Maintained Conductivity Using a Single-Step Slot Die Coating Approach |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| CB02 | Change of applicant information |
Address after: 9-2 Tangming Avenue, Guangming New District, Shenzhen City, Guangdong Province Applicant after: TCL China Star Optoelectronics Technology Co.,Ltd. Address before: 9-2 Tangming Avenue, Guangming New District, Shenzhen City, Guangdong Province Applicant before: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co.,Ltd. |
|
| CB02 | Change of applicant information | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |