CN108803953A - 一种电容式触摸屏 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种应用于触摸屏技术领域的电容式触摸屏,所述的电容式触摸屏的BM层(2)位于玻璃层(1)外侧位置,金属网格层(3)位于BM层(2)外侧位置,OC层(4)位于金属网格层(3)外侧位置,所述的金属网格层(3)的金属线的线宽控制在3um‑5um范围之间,金属网格层(3)包括空白区域(5)和金属区域(6),空白区域(5)占金属网格层(3)面积的80%以上,金属网格层(3)的网格的形状为菱形结构。本发明的电容式触摸屏,结构简单,能够有效缩短触摸屏的制作流程,降低制作成本,提高制作效率,降低触摸屏电阻值,导电性能更好,使得触控更加灵敏,触控更加精确。
Description
技术领域
本发明属于触摸屏技术领域,更具体地说,是涉及一种电容式触摸屏。
背景技术
随着触摸屏OGS技术趋于成熟稳定,已不能完全满足市场需求,将相对定位于中低档的中大尺寸电容式触摸屏市场。现有技术中的触摸屏,ITO层电阻值高,导电性能差,操作精准度差,从而无法有效适应市场需求,导致竞争力差。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是:针对现有技术的不足,提供一种结构简单,能够有效缩短触摸屏的制作流程,降低制作成本,提高制作效率,降低触摸屏电阻值,导电性能更好,使得触控更加灵敏,触控更加精确的电容式触摸屏。
要解决以上所述的技术问题,本发明采取的技术方案为:
本发明为一种电容式触摸屏,所述的电容式触摸屏包括玻璃层、BM层、金属网格层、OC层,所述的BM层位于玻璃层外侧位置,金属网格层位于BM层外侧位置,OC层位于金属网格层外侧位置,所述的金属网格层的金属线的线宽控制在3um-5um范围之间,金属网格层包括空白区域和金属区域,空白区域占金属网格层面积的80%以上,金属网格层的网格的形状为菱形结构。
所述的金属网格层包括多个平行布置的金属网格层组件,金属网格层组件的金属线包括金属线Ⅰ和金属线Ⅱ,金属网格层组件的金属线Ⅰ和金属线Ⅱ设置为倾斜交错布置,从而形成多个菱形形状的网格的结构。
所述的金属网格层的单位金属菱形网格为0.5-5mm*0.3-5mm。
所述的金属网格层设置为采用金属镀膜工艺配合光刻、蚀刻工艺制作而成的结构。
所述的金属网格层的金属线采用银、钼铝钼、银铜合金、铜镍合金材料中任意一种制作。
所述的金属网格层为单层金属网格。
采用本发明的技术方案,能得到以下的有益效果:
本发明的电容式触摸屏,在制作触摸屏时,将金属网格层取代ITO层,金属网格层导电性能好,电阻值远比ITO的低,使用金属网格做为pattern,可以在很大程度上降低电阻值,使得触摸屏的触控更加灵敏、更加精准,而金属网格层取代ITO层后,比OGS的制程缩短了一半,良率和效率都大大提高。对金属网格层的金属线的线宽进行控制,确保金属线不会断线,提高触摸屏性能。空白区域和金属区域的设置及比例选择,提升触摸屏性能,使得金属网格层的透过率达到80%以上,这样满足单个手指大小的触控要求。本发明的电容式触摸屏,结构简单,能够有效缩短触摸屏的制作流程,降低制作成本,提高制作效率,降低触摸屏电阻值,导电性能更好,使得触控更加灵敏,触控更加精确。
附图说明
下面对本说明书各附图所表达的内容及图中的标记作出简要的说明:
图1为本发明所述的电容式触摸屏的剖视结构示意图;
图2为本发明所述的电容式触摸屏的金属网格层的结构示意图;
附图中标记分别为:1、玻璃层;2、BM层;3、金属网格层;4、OC层;5、空白区域;6、金属区域;7、金属网格层组件;8、金属线Ⅰ;9、金属线Ⅱ。
具体实施方式
下面对照附图,通过对实施例的描述,对本发明的具体实施方式如所涉及的各构件的形状、构造、各部分之间的相互位置及连接关系、各部分的作用及工作原理等作进一步的详细说明:
如附图1、附图2所示,本发明为一种电容式触摸屏,所述的电容式触摸屏包括玻璃层1、BM层2、金属网格层3、OC层4,所述的BM层2位于玻璃层1外侧位置,金属网格层3位于BM层2外侧位置,OC层4位于金属网格层3外侧位置,所述的金属网格层3的金属线的线宽控制在3um-5um范围之间,金属网格层3包括空白区域5和金属区域6,空白区域5占金属网格层3面积的80%以上,金属网格层3的网格的形状为菱形结构。上述结构,在制作触摸屏时,将金属网格层取代ITO层,金属网格层导电性能好,电阻值远比ITO的低,使用金属网格做为pattern,可以很大程度降低了电阻值,使得触摸屏的触控更加灵敏、更加精准,而制作触摸屏时,使用金属网格层取代ITO层后,比OGS的制程缩短了一半,良率和效率都大大提高。上述结构,对金属网格层的金属线的线宽进行控制,确保金属线不会断线,提高触摸屏性能。而空白区域5和金属区域6的设置及比例选择,全面提升触摸屏性能,使得金属网格层的透过率达到80%以上,这样也能够满足单个手指大小的触控要求。本发明所述的电容式触摸屏,结构简单,能够有效缩短触摸屏的制作流程,降低制作成本,提高制作效率,降低触摸屏电阻值,导电性能更好,使得触控更加灵敏,触控更加精确。
所述的金属网格层3包括多个平行布置的金属网格层组件7,金属网格层组件7的金属线包括金属线Ⅰ8和金属线Ⅱ9,金属网格层组件7的金属线Ⅰ8和金属线Ⅱ9设置为倾斜交错布置,从而形成多个菱形形状的网格的结构。上述结构,采用金属网格层,并选择合适金属线线宽,使得触摸屏产品的消影效果达到最佳;金属网格层的网格的单位大小设置,使的性能和透过率达到一个平衡。
所述的金属网格层3的单位金属菱形网格为0.5-5mm*0.3-5mm。为达到透过率要求和触控的线性度,需要设计0.68*0.45mm单位金属菱形网格,保证空白区域和金属区域的比例,同时满足单个手指大小触控要求。根据单位金属菱形网格再设计成TX和RX的pattern区域,形成坐标,使得手指触控精准。
所述的金属网格层3设置为采用金属镀膜工艺配合光刻、蚀刻工艺制作而成的结构。所述的金属网格层3的金属线采用银、钼铝钼、银铜合金、铜镍合金材料中任意一种制作。所述的金属网格层3为单层金属网格。金属网格层与ITO相比,导电性能好,电阻值远比ITO的低,使用金属网格做为pattern,可以很大程度降低了电阻值,使得触摸屏的触控更加灵敏。并且使用了单层金属网格,比OGS的制程缩短了一半,良率和效率都大大提高,全面提高触摸屏性能。
本发明所述的电容式触摸屏(OGM,One Glass Metal Mesh),是OGS的升级版本,采用金属镀膜工艺配合光刻、蚀刻等工艺制作成金属网格层(metal mesh),与传统采用薄膜材料或者纳米银等材料结合压印等工艺不同,具有电阻值低、导电性能更好、支持窄边框、支持手写笔操作的特点,用于中高档的二合一笔记本电脑、打印机及工业触摸屏等产品,全面提升触摸屏的市场竞争力。
本发明所述的电容式触摸屏,有效缩短了电容式触摸屏的制作流程,提高了效率。新的触摸屏的结构,相对OGS更加简单,产品的成本得到控制,提升我司产品的市场竞争力。使用金属网格,降低了电阻值,从而是触控更加灵敏。
本发明的电容式触摸屏,在制作触摸屏时,将金属网格层取代ITO层,金属网格层导电性能好,电阻值远比ITO的低,使用金属网格做为pattern,可以在很大程度上降低电阻值,使得触摸屏的触控更加灵敏、更加精准,而金属网格层取代ITO层后,比OGS的制程缩短了一半,良率和效率都大大提高。对金属网格层的金属线的线宽进行控制,确保金属线不会断线,提高触摸屏性能。空白区域和金属区域的设置及比例选择,提升触摸屏性能,使得金属网格层的透过率达到80%以上,这样满足单个手指大小的触控要求。本发明的电容式触摸屏,结构简单,能够有效缩短触摸屏的制作流程,降低制作成本,提高制作效率,降低触摸屏电阻值,导电性能更好,使得触控更加灵敏,触控更加精确。
上面结合附图对本发明进行了示例性的描述,显然本发明具体的实现并不受上述方式的限制,只要采用了本发明的方法构思和技术方案进行的各种改进,或未经改进将本发明的构思和技术方案直接应用于其他场合的,均在本发明的保护范围内。
Claims (6)
1.一种电容式触摸屏,其特征在于:所述的电容式触摸屏包括玻璃层(1)、BM层(2)、金属网格层(3)、OC层(4),所述的BM层(2)位于玻璃层(1)外侧位置,金属网格层(3)位于BM层(2)外侧位置,OC层(4)位于金属网格层(3)外侧位置,所述的金属网格层(3)的金属线的线宽控制在3um-5um范围之间,金属网格层(3)包括空白区域(5)和金属区域(6),空白区域(5)占金属网格层(3)面积的80%以上,金属网格层(3)的网格的形状为菱形结构。
2.根据权利要求1所述的电容式触摸屏,其特征在于:所述的金属网格层(3)包括多个平行布置的金属网格层组件(7),金属网格层组件(7)的金属线包括金属线Ⅰ(8)和金属线Ⅱ(9),金属网格层组件(7)的金属线Ⅰ(8)和金属线Ⅱ(9)设置为倾斜交错布置,从而形成多个菱形形状的网格的结构。
3.根据权利要求1或2所述的电容式触摸屏,其特征在于:所述的金属网格层(3)的单位金属菱形网格为0.5-5mm*0.3-5mm。
4.根据权利要求1或2所述的电容式触摸屏,其特征在于:所述的金属网格层(3)设置为采用金属镀膜工艺配合光刻、蚀刻工艺制作而成的结构。
5.根据权利要求2所述的电容式触摸屏,其特征在于:所述的金属网格层(3)的金属线采用银、钼铝钼、银铜合金、铜镍合金材料中任意一种制作。
6.根据权利要求1或2所述的电容式触摸屏,其特征在于:所述的金属网格层(3)为单层金属网格。
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