CN108691060A - 一种附加纬接结双面全显色提花织物结构设计方法 - Google Patents

Abstract

该发明提供一种附加纬接结双面全显色提花织物结构设计方法，属于提花织物设计领域。其特征在于针对双面全显色双层结构，采用附加纬纱在双层结构之间用作接结纱的方法，实现双面全显色织物可被附加纬接结的效果，主要技术方案步骤是：(1)可遮盖技术点的设计，(2)可遮盖全显色组织设计，(3)织物正反面图案设计，(4)组织替换形成正面织物结构图，(5)组织替换形成反面织物结构图，(6)附加纬接结组织设计，(7)正、反面织物结构与接结组织组合，形成附加纬接结双面全显色提花织物结构图。采用该设计方法生产的双面提花织物手感厚实，正反面具有全显色的多彩效果。

Description

一种附加纬接结双面全显色提花织物结构设计方法

技术领域

本发明涉及一种经、纬纱交织提花织物的设计方法，采用附加纬接结的方法进行双面全显色效果提花织物的设计。

背景技术

双面提花的双层结构设计中，附加纱接结包括附加经接结和附加纬接结。为了使经纱的张力保持均匀，经纱的交织次数不宜相差太大，因此附加纬接结的方法更加合理、便捷。附加纬接结方法中为了获得好的接结效果，附加纬纱颜色需和正反面颜色相近，因此限制了织物两面的色彩差别，并且由于工艺复杂，色彩表达也相对单一。

发明内容

本发明旨在克服上述方法的不足，提供一种具有双面丰富色彩效果的提花织物结构设计方法，其主要特征在于：织物正反两面的花纹效果各由一组经纱和偶数组纬纱交织表现；可以表现多色晕纹效果；用于交织正面和反面织物结构的纬纱和附加纬纱的颜色均无限制；附加纬纱用作接结纱通过规则的接结组织将正反两面的织物结构组合为一体，满足交织平衡的要求。

本发明的实现方法和主要技术内容为：

(1)可遮盖技术点的设计

根据不同的织物设计需求，选择所需基本组织A和基本组织B，两个基本组织的组织特征相同，但具有不同的起始点，基本组织的有效选择范围为原组织中的斜纹或缎纹，经纬组织循环数相同为N，N在3到48之间，对应的组织循环在3×3到48×48之间，根据基本组织B的组织特征，将其组织点反转，并向上沿经向加强1，该纬面加强缎纹组织为全显色技术点A，根据基本组织A的组织特征，将其组织点反转，并向下沿经向加强1，该纬面加强缎纹组织称为全显色技术点B，

①根据全显色技术点的组织特征，设定可遮盖技术点A，方法是在全显色技术点A和全显色技术点B共有经组织点的位置重合处为每一纬设计两个连续经组织点，其余全为纬组织点的组织，称之为可遮盖技术点A，形式为纬面加强缎纹组织，

②根据全显色技术点和可遮盖技术点A的组织特征，设定可遮盖技术点B，方法是在全显色技术点A和全显色技术点B共有经组织点与可遮盖技术点A纬组织点的位置重合处为每一纬设计两个连续纬组织点，其余全为经组织点的组织，称之为可遮盖技术点B，形式为经面加强缎纹组织；

(2)可遮盖全显色组织设计

将可遮盖技术点A的经组织点添加到基本组织A和B上相应的位置形成两个组织，分别称为可遮盖基本组织A和可遮盖基本组织B，将可遮盖技术点B的纬组织点添加到全显色技术点A和B上相应的位置形成两个组织，分别称为可遮盖全显色技术点A和可遮盖全显色技术点B，

①根据基本组织和可遮盖全显色技术点的组织特征，设计用于正面织物结构设计的可遮盖全显色组织I，方法是在基本组织A的基础上，不破坏可遮盖全显色技术点A的情况下设计一组影光组织，称之为可遮盖基础组织I，在基本组织B的基础上，不破坏可遮盖全显色技术点B的情况下设计一组影光组织，称之为可遮盖配合组织I，

当M＝N时，基础组织I和配合组织I的数目最小，为(N-4)个，

当M＝1时，基础组织I和配合组织I的数目最大，为(N-4)+(N-5)×(N-1)个，

N表示组织循环数，M表示影光组织组织点加强数，

②根据可遮盖基本组织和全显色技术点的组织特征，设计用于反面织物结构设计的可遮盖全显色组织II，方法是在可遮盖基本组织A的基础上，不破坏全显色技术点A的情况下设计一组影光组织，称之为可遮盖基础组织II，在可遮盖基本组织B的基础上，不破坏全显色技术点B的情况下设计一组影光组织，称之为可遮盖配合组织II，

当M＝N时，基础组织II和配合组织II的数目最小，为(N-4)个，

当M＝1时，基础组织II和配合组织II的数目最大，为(N-4)+(N-5)×(N-1)个，

N表示组织循环数，M表示影光组织组织点加强数；

(3)织物正反面图案设计

用于织物正面和反面的计算机数码图像具有一定的技术要求，在图像的技术特征满足的前提下，图像的效果可以多样化，从而在织物的正面和反面产生不同的图案效果，设计完成的计算机图像为灰度模式，灰度级别不超过设计的可遮盖基础组织I、可遮盖基础组织II、可遮盖配合组织I或可遮盖配合组织II的组织数目，

①织物正面的计算机数码灰度图像效果不限，数目为偶数个，将完成的计算机灰度图像左右颠倒后依次排列成A1、B1、A2、B2、……，

②织物反面的计算机数码灰度图像效果不限，数目为偶数个，依次排列成C1、D1、C2、D2、……；

(4)组织替换形成正面织物结构图

确定灰度图像中的黑到白与可遮盖全显色组织I中的经面到纬面组织的替代关系，并保持不变，

①将完成的计算机灰度图像A1、A2、……的图像灰度与可遮盖基础组织I一一替换，形成各自的大循环组织图，对应称为ZA1、ZA2、……，

②将完成的计算机灰度图像B1、B2、……的图像灰度与可遮盖配合组织I一一替换，形成各自的大循环组织图，对应称为ZB1、ZB2、……，

③将大组织循环图ZA1、ZB1按相同起始位置进行组合，沿纬向1∶1组合可以设计两色纬正面织物结构图，即按ZA1第一纬：ZB1第一纬依次排列；将ZA1、ZB1、ZA2和ZB2沿纬向1∶1∶1∶1组合可以设计四色纬正面织物结构图，即按ZA1第一纬：ZB1第一纬：ZA2第一纬：ZB2第一纬依次排列，依次类推，可以设计偶数组纬的正面织物结构图；

(5)组织替换形成反面织物结构图。

确定灰度图像中的黑到白与可遮盖全显色组织II中的经面到纬面组织的替代关系，并保持不变，

①将完成的计算机灰度图像C1、C2、……的图像灰度与可遮盖基础组织II一一替换，形成各自的大循环组织图，对应称为ZC1、ZC2、……，

②将完成的计算机灰度图像D1、D2、……的图像灰度与可遮盖配合组织II一一替换，形成各自的大循环组织图，对应称为ZD1、ZD2、……，

③将大组织循环图ZC1、ZD1按相同起始位置进行组合，沿纬向1∶1组合可以设计两色纬反面织物结构图，即按ZC1第一纬：ZD1第一纬依次排列；将ZC1、ZD1、ZC2和ZD2沿纬向1∶1∶1∶1组合可以设计四色纬反面织物结构图，即按ZC1第一纬：ZD1第一纬：ZC2第一纬：ZD2第一纬依次排列，依次类推，可以设计偶数组纬的反面织物结构图；

(6)附加纬接结组织设计

①以可遮盖技术点A为基础，设计一种接结组织，属于附加纬接下经的接结组织，称为附加纬接里组织，方法是将可遮盖技术点A沿经向扩大两倍，保留奇数纬上的经组织点，并且减少组织点到每一经上有且只有一个经交织点，完成的接结组织具有规则组织的特征，

②以可遮盖技术点B为基础，设计一种接结组织，属于附加纬接上经的接结组织，称为附加纬接表组织，方法是将可遮盖技术点B沿经向扩大两倍，保留奇数纬上的纬组织点，并且减少组织点到每一经上有且只有一个纬交织点，完成的接结组织具有规则组织的特征；

(7)正、反面织物结构与接结组织组合，形成附加纬接结双面全显色提花织物结构图

①将正面织物结构图、全经点和附加纬接表组织沿纬向1∶1∶1排列，获得具有附加纬接表经接结组织的复合结构FJB，

②将全纬点、反面织物结构图和附加纬接里组织沿纬向1∶1∶1排列，获得具有附加纬接里经接结组织的复合结构FJL，

③将FJB、FJL沿经向1∶1排列，获得具有规则接结组织效果的附加纬双面全显色提花织物结构图。

根据以上技术方案设计所得的附加纬接结双面全显色提花织物结构图，设定合适的经纬密度，可以用于生产正反面为单经偶数纬、中间附加纬接结的双面全显色提花织物，方法是对应正反面效果，将附加纬接结双面全显色提花织物结构图加上选纬信息，设定经纬密度，该织物结构图能直接用于设计生产双面全显色提花织物。

本发明具有以下创新技术特点：应用本发明所述设计方案，开发出的提花织物正反两面均由一组经纱与偶数组纬纱交织，纬纱之间不会相互覆盖，具有全显色的特征，可以在织物正面和反面表现多色晕纹效果和复杂花纹；附加纬充当接结纱将正反两面合为一体，并且有效的被正反两面纱线遮盖不露于织物表面；用于交织正面和反面结构的所有纬纱和附加纬纱颜色均无限制；接结组织为规则组织，满足交织平衡的要求，可进行大批量生产；在本发明技术方案的约束下，正反面的图案设计无论如何变化，都能用于附加纬接结双面全显色提花织物的设计。

附图说明

下面结合附图和实施例对本发明进一步说明

图1基本组织A、基本组织B和全显色技术点A、全显色技术点B的设计示意图；

图2可遮盖技术点A和可遮盖技术点B的设计示意图；

图3可遮盖基本组织A、可遮盖基本组织B和可遮盖全显色技术点A、可遮盖全显色技术点B的设计示意图；

图4以基本组织A为基础的可遮盖基础组织I(一次的加强组织点为组织循环数)；

图5以基本组织B为基础的可遮盖配合组织I(一次的加强组织点为组织循环数)；

图6以可遮盖基本组织A为基础的可遮盖基础组织II(一次的加强组织点为组织循环数)；图7以可遮盖基本组织B为基础的可遮盖配合组织II(一次的加强组织点为组织循环数)；图8附加纬接里组织和附加纬接表组织设计示意图；

图9实施例中附加纬接结双面全显色提花织物结构图的局部效果；

图10实施例中的附加纬接结双面全显色提花织物实物正面效果；

图11实施例中的附加纬接结双面全显色提花织物实物反面效果；

图12实施例中的附加纬接结双面全显色提花织物实物经向横切剖面效果。

具体实施方式

以12枚缎纹组织设计正反面均为全显色效果提花织物为例，详细说明该发明的实施方法。

(1)可遮盖技术点的设计

①图1中，选择12枚5飞纬面缎纹组织，根据全显色要求，确定组织起始点为左下角(经，纬)＝(1，1)的组织为基本组织A，组织起始点为左下角(经，纬)＝(4，1)的组织为基本组织B，基本组织的确定原则为组合后的组织点能够均匀分布。根据基本组织A和基本组织B的特点，分别设定全显色技术点。根据基本组织B的特征，对基本组织A设定全显色技术点，方法是将基本组织B的组织点反转，并向上沿经向加强1，该全显色技术点为12枚5飞的经面加强缎纹；根据基本组织A的特征，对基本组织B设定全显色技术点，方法是将基本组织A的组织点反转，并向下沿经向加强1，该全显色技术点为12枚5飞的经面加强缎纹，

②图2中，以图1所示全显色技术点为基础设计的可遮盖技术点A，方法是在全显色技术点A和全显色技术点B共有经组织点的位置重合处为每一纬设计两个连续经组织点，其余组织点全为纬组织点，该可遮盖技术点为12枚5飞的纬面加强缎纹；以全显色技术点和可遮盖技术点A为基础设计可遮盖技术点B，方法是在全显色技术点A和全显色技术点B共有经组织点与可遮盖技术点A纬组织点的位置重合处为每一纬设计两个连续纬组织点，其余组织点全为经组织点，该可遮盖技术点为12枚5飞的经面加强缎纹。

(2)可遮盖全显色组织设计

①图3中，以基本组织和可遮盖技术点为基础设计可遮盖基本组织，将可遮盖技术点A的经组织点添加到基本组织A和基本组织B上相应的位置分别形成可遮盖基本组织A和可遮盖基本组织B，该可遮盖基本组织为12枚5飞的纬面加强缎纹；以全显色技术点和可遮盖技术点B为基础设计可遮盖全显色技术点，将可遮盖技术点B的纬组织点添加到全显色技术点A和全显色技术点B上相应的位置分别形成可遮盖全显色技术点A和可遮盖全显色技术点B，该可遮盖全显色技术点为12枚5飞的经面加强缎纹，

②图4中，以基本组织A为基础设计的一组影光组织，称为可遮盖全显色基础组织I，组织点加强数M＝N＝12，当遇到可遮盖全显色技术点A时越过，形成一组8个影光效果的可遮盖全显色基础组织I，用于正面织物结构的设计，

③图5中，以基本组织B为基础设计的一组影光组织，称为可遮盖全显色配合组织I，组织点加强数M＝N＝12，当遇到可遮盖全显色技术点B时越过，形成一组8个影光效果的可遮盖全显色配合组织I，用于正面织物结构的设计，

④图6中，以可遮盖基本组织A为基础设计的一组影光组织，称为可遮盖全显色基础组织II，组织点加强数M＝N＝12，当遇到全显色技术点A时越过，形成一组8个影光效果的可遮盖全显色基础组织II，用于反面织物结构的设计，

⑤图7中，以可遮盖基本组织B为基础设计的一组影光组织，称为可遮盖全显色配合组织II，组织点加强数M＝N＝12，当遇到全显色技术点B时越过，形成一组8个影光效果的可遮盖全显色配合组织II，用于反面织物结构的设计。

(3)织物正反面图案设计

根据双面提花织物正面和反面效果的要求，设计四幅计算机图像分别两两用于织物正面和反面，用于正面的称为A1、B1，用于反面的称为C1、D1，是位图模式的灰度图，规格相同，横向1200像素，纵向600像素。

(4)组织替换形成正面织物结构图

确定灰度图像中的黑到白与可遮盖全显色组织I中的经面到纬面组织的替代关系，并保持不变，

①将完成的计算机灰度图像A1的图像灰度与可遮盖全显色基础组织I一一替换，形成大循环组织图，对应称为ZA1，

②将完成的计算机灰度图像B1的图像灰度与可遮盖全显色配合组织I一一替换，形成大循环组织图，对应称为ZB1，

③将完成的大组织循环图ZA1和ZB1按相同起始位置沿纬向1∶1进行组合，形成两色纬的正面织物结构图。

(5)组织替换形成反面织物结构图

确定灰度图像中的黑到白与可遮盖全显色组织II中的经面到纬面组织的替代关系，并保持不变，

①将完成的计算机灰度图像C1的图像灰度与可遮盖全显色基础组织II一一替换，形成大循环组织图，对应称为ZC1，

②将完成的计算机灰度图像D1的图像灰度与可遮盖全显色配合组织II一一替换，形成大循环组织图，对应称为ZD1，

③将完成的大组织循环图ZC1和ZD1按相同起始位置沿纬向1∶1进行组合，形成两色纬的反面织物结构图。

(6)附加纬接结组织设计

①图8中，以可遮盖技术点A为基础，组织循环为12×12，沿经向扩大两倍，组织循环为12×24，保留奇数纬上的经组织点，然后减少经组织点到保证每一经上的经交织点有且只有一个，称为附加纬接里组织，完成的接结组织具有规则组织的特征，

②图8中，以可遮盖技术点B为基础，组织循环为12×12，沿经向扩大两倍，组织循环为12×24，保留奇数纬上的纬组织点，然后减少纬组织点到保证每一经上的纬交织点有且只有一个，称为附加纬接表组织，完成的接结组织具有规则组织的特征。

(7)正、反面织物结构与接结组织组合，形成附加纬接结双面全显色提花织物结构图

①将正面织物结构图、全经点和附加纬接表组织沿纬向1∶1∶1排列，获得具有附加纬接表经接结组织的复合结构FJB，规格为1200×3600像素，

②将全纬点、反面织物结构图和附加纬接里组织沿纬向1∶1∶1排列，获得具有附加纬接里经接结组织的复合结构FJL，规格为1200×3600像素，

③将FJB和FJL沿经向1∶1排列，获得具有规则接结组织的附加纬接结双面全显色提花织物结构图，规格为2400×3600像素，图9是只有黑白两色的附加纬接结双面全显色提花织物结构图的局部效果。

(8)附加纬接结双面全显色提花织物结构图的应用

设定经密和纬密为114×180，加上正反各两纬以及一组附加纬的选纬信息，设计所得的附加纬接结双面全显色提花织物结构图用于生产附加纬接结双面全显色提花织物，织物正面效果如图10所示，织物反面效果如图11所示，织物的经向剖面如图12所示，正反两层中间的纱线为接结纬纱。

上述实施例用来解释和说明本发明，而不是对本发明的限制，在本发明的精神和权利要求的保护范围内，对本发明做出任何修改和改变，都落入本发明的保护范围。

Claims (2)

1.一种附加纬接结双面全显色提花织物结构设计方法，其特征在于针对双面全显色双层结构，采用附加一组纬纱在双层结构之间用作接结纱，实现织物两面均具有全显色效果，主要步骤是：(1)可遮盖技术点的设计，(2)可遮盖全显色组织设计，(3)织物正反面图案设计，(4)组织替换形成正面织物结构图，(5)组织替换形成反面织物结构图，(6)附加纬接结组织设计，(7)正、反面织物结构与接结组织组合，形成附加纬接结双面全显色提花织物结构图，其中：

(1)可遮盖技术点的设计

选择所需基本组织A和基本组织B，在此基础上设计对应的全显色技术点A和全显色技术点B，具体可参照发明专利“全显色织物的组织结构设计方法”，

①根据全显色技术点的组织特征，设定可遮盖技术点A，方法是全显色技术点A和全显色技术点B共有经组织点的位置重合处为每一纬设计两个连续经组织点，其余全为纬组织点的组织，称之为可遮盖技术点A，

②根据全显色技术点和可遮盖技术点A的组织特征，设定可遮盖技术点B，方法是在全显色技术点A和全显色技术点B共有经组织点与可遮盖技术点A的纬组织点位置重合处为每一纬设计两个连续纬组织点，其余全为经组织点的组织，称之为可遮盖技术点B，

(2)可遮盖全显色组织设计

将可遮盖技术点A的经组织点添加到基本组织A和基本组织B上相应的位置形成两个组织，分别称为可遮盖基本组织A和可遮盖基本组织B，将可遮盖技术点B的纬组织点添加到全显色技术点A和全显色技术点B上相应的位置形成两个组织，分别称为可遮盖全显色技术点A和可遮盖全显色技术点B，

①根据基本组织和可遮盖全显色技术点的组织特征，设计用于正面织物结构设计的可遮盖全显色组织I，方法是在基本组织A的基础上，不破坏可遮盖全显色技术点A的情况下设计一组影光组织，称之为可遮盖基础组织I，在基本组织B的基础上，不破坏可遮盖全显色技术点B的情况下设计一组影光组织，称之为可遮盖配合组织I，

当M＝N时，基础组织I和配合组织I的数目最小，为(N-4)个，

当M＝1时，基础组织I和配合组织I的数目最大，为(N-4)+(N-5)×(N-1)个，

N表示组织循环数，M表示影光组织组织点加强数，

②根据可遮盖基本组织和全显色技术点的组织特征，设计用于反面织物结构设计的可遮盖全显色组织II，方法是在可遮盖基本组织A的基础上，不破坏全显色技术点A的情况下设计一组影光组织，称之为可遮盖基础组织II，在可遮盖基本组织B的基础上，不破坏全显色技术点B的情况下设计一组影光组织，称之为可遮盖配合组织II，

当M＝N时，基础组织II和配合组织II的数目最小，为(N-4)个，

当M＝1时，基础组织II和配合组织II的数目最大，为(N-4)+(N-5)×(N-1)个，

N表示组织循环数，M表示影光组织组织点加强数，

(3)织物正反面图案设计

织物正面和反面的计算机数码图像均为位图模式，规格相同，设计完成的计算机图像为灰度模式，灰度级别不超过设计的可遮盖基础组织I、可遮盖基础组织II、可遮盖配合组织I或可遮盖配合组织II的组织数目，

①将完成的织物正面偶数个计算机灰度图像左右颠倒后依次排列成A1、B1、A2、B2、……，

②将完成的织物反面偶数个计算机灰度图像依次排列成C1、D1、C2、D2、……，

(4)组织替换形成正面织物结构图

确定灰度图像中的黑到白与可遮盖全显色组织I中的经面到纬面组织的替代关系，并保持不变，

①将完成的计算机灰度图像A1、A2、……的图像灰度与可遮盖基础组织I一一替换，形成各自的大循环组织图，对应称为ZA1、ZA2、……，

②将完成的计算机灰度图像B1、B2、……的图像灰度与可遮盖配合组织I一一替换，形成各自的大循环组织图，对应称为ZB1、ZB2、……，

③将大组织循环图ZA1、ZB1按相同起始位置进行组合，沿纬向1∶1组合可以设计两色纬正面织物结构图，即按ZA1第一纬：ZB1第一纬依次排列；将ZA1、ZB1、ZA2和ZB2沿纬向1∶1∶1∶1组合可以设计四色纬正面织物结构图，即按ZA1第一纬：ZB1第一纬：ZA2第一纬：ZB2第一纬依次排列，依次类推，可以设计偶数组纬的正面织物结构图。

(5)组织替换形成反面织物结构图

确定灰度图像中的黑到白与可遮盖全显色组织II中的经面到纬面组织的替代关系，并保持不变，

①将完成的计算机灰度图像C1、C2、……的图像灰度与可遮盖基础组织II一一替换，形成各自的大循环组织图，对应称为ZC1、ZC2、……，

②将完成的计算机灰度图像D1、D2、……的图像灰度与可遮盖配合组织II一一替换，形成各自的大循环组织图，对应称为ZD1、ZD2、……，

③将大组织循环图ZC1、ZD1按相同起始位置进行组合，沿纬向1∶1组合可以设计两色纬反面织物结构图，即按ZC1第一纬：ZD1第一纬依次排列；将ZC1、ZD1、ZC2和ZD2沿纬向1∶1∶1∶1组合可以设计四色纬反面织物结构图，即按ZC1第一纬：ZD1第一纬：ZC2第一纬：ZD2第一纬依次排列，依次类推，可以设计偶数组纬的反面织物结构图。

(6)附加纬接结组织设计

①以可遮盖技术点A为基础，设计一种接结组织，方法是将可遮盖技术点A沿经向扩大两倍，保留奇数纬上的经组织点，并且使每一经上有且只有一个经交织点，完成的接结组织具有规则组织的特征，称为附加纬接里组织，

②以可遮盖技术点B为基础，设计一种接结组织，方法是将可遮盖技术点B沿经向扩大两倍，保留奇数纬上的纬组织点，并且使每一经上有且只有一个纬交织点，完成的接结组织具有规则组织的特征，称为附加纬接表组织，

(7)正、反面织物结构与接结组织组合，形成附加纬接结双面全显色提花织物结构图

①将正面织物结构图、全经点和附加纬接表组织沿纬向1∶1∶1排列，获得具有附加纬接表经接结组织的复合结构FJB，

②将全纬点、反面织物结构图和附加纬接里组织沿纬向1∶1∶1排列，获得具有附加纬接里经接结组织的复合结构FJL，

③将FJB、FJL沿经向1∶1排列，获得具有规则接结组织效果的附加纬接结双面全显色提花织物结构图。

2.根据权利要求1所述的设计方法得到的附加纬接结双面全显色提花织物结构图的生产应用，其特征在于：设定经纬密度，加上选纬信息，该织物结构图直接用于设计生产附加纬接结的双面全显色提花织物。