CN108689536A - 一种乳化液低压处理装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种乳化液低压处理装置，包括依次串联设置的破乳池、一次沉淀池、反应池、高级氧化器、二次沉淀池和清水池，废水在破乳池和反应池内进行生化方式初步处理，高级氧化器包括反应器筒体，反应器筒体内设置有反光导流筒，反光导流筒与反应器筒体之间为填料区，进水管和进气管穿过反应器筒体下部的填料区在反光导流筒底部开口处设有布水器和曝气器，排水管设置在反应器筒体上部，二氧化钛催化板将反光导流筒分隔为若干纵向氧化区，紫外灯柱设置在每个氧化区中心，高级氧化器分区照射，催化板完全处于紫外灯柱的最佳催化距离内，同时反光导流筒能够反射紫外灯柱发出的紫外光，加强光照，提高光催化效率。
Description
技术领域
本发明涉及废水处理技术领域，具体涉及一种乳化液低压处理装置。
背景技术
乳化液是一种水乳交融的悬浊液，是由油、水和各种化学添加剂配制而成。乳化液广泛存在于各行各业的生产和生活之中。食品、石油、石炼、炼钢、屠宰、机加工等诸多行业都涉及到乳化液，乳化液多用于冷却、润滑或传递压力等，其具有一定的润滑性、冷却性、清洗性和防锈性，是目前生产中使用最广泛的一种切削液。但它的使用寿命短，使用一段时间后因各种因素就不能继续使用了，废液多。乳化液废水属于工业污染源中重要的污染源，直接将乳化液废水排放对水质污染较严重。
因此，必须将乳化液废水进行处理后再排放。乳化液废水的特点是：高COD和BOD，国产乳化液COD在8000ppm以上，进口的COD高的可达到数十万ppm，且油量也在3000～5000ppm；高浊度、难生化降解。而在诸多种乳化液废水之中又尤以机加工乳化液废水为最难处理之一，它的乳化程度高，B/C值低，高浓度、高浊度、高盐度，尤其还含有许多加工过程中混入的重金属、各种化学试剂等。乳化液废液的处理问题一直是困扰着我们的难题。
乳化液废水的来源不一，种类浓度、特性也各异，目前对机械行业产生的乳化油废水的处理，采用的是两步法，首先把浮油从乳化废水或废液中用比重法分离出来，然后再用化学、电学或其它物理方法破坏乳化油，使油与水进一步分离，继而通过凝聚电解气浮、砂滤、活性炭吸附；若是碱性乳化废水，还要进行中和预处理，才能使废水净化处理。这样的处理方法，设备投资多，工艺繁杂，污水处理不彻底。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种生化处理和高级氧化一体的乳化液处理装置，对乳化液进行破乳后利用高级氧化器对废水进行充分氧化、过滤处理，处理后的废水能够直接排放或者回用。
为了解决上述技术问题，本发明提供了一种乳化液低压处理装置，包括依次串联设置的破乳池、一次沉淀池、反应池、高级氧化器、二次沉淀池和清水池，在破乳池内添加无机物破乳剂和混凝剂，通过生化方式对废水进行初步处理，在反应池内进行PH调节，使适于催化氧化的废水进入高级氧化器，所述高级氧化器包括反应器筒体，所述反应器筒体内设置有反光导流筒，所述反光导流筒与所述反应器筒体之间为填料区利用填料帮助提高废水降解的速率，进水管和进气管穿过所述反应器筒体下部的填料区在所述反光导流筒底部开口处设有布水器和曝气器，排水管设置在反应器筒体上部，二氧化钛催化板将所述反光导流筒分隔为若干纵向氧化区，紫外灯柱设置在每个所述氧化区中心，此时紫外灯柱与催化板的相对距离较为均匀，催化板完全处于紫外灯柱的最佳催化距离内，催化氧化反应完全且效率高，所述反光导流筒能够反射紫外灯柱发出的紫外光，加强光照，提高光催化效果。
进一步的，所述破乳池通过药剂自动添加组件向池内分别添加破乳剂和混凝剂，并对添加药剂后的废水进行搅拌，处理废水中的油类和COD等污染物。
进一步的，所述一次沉淀池和二次沉淀池为斜板沉淀池，斜板沉淀池运用“浅层沉淀”原理，缩短颗粒沉降距离，从而缩短了沉淀时问，并且增加了沉淀池的沉淀面积，提高了处理效率。
进一步的，所述一次沉淀池和二次沉淀池下方连接排泥机，保证沉淀池的持续工作能力。
进一步的，所述高级氧化还包括导流泵，所述导流泵进水端连接所述高级氧化器筒体上部，所述导流泵出水端连接所述反光导流筒底部开口处，加强废水回流，是废水完全氧化。
进一步的，所述反应器筒体与所述反光导流筒之间设置有将所述填料区分为内填料区和外填料区的第二导流筒，所述第二导流筒与反应器筒体底部之间存在流道，从反光导流筒内流出的废水流入内填料区，经流道进入外填料区，最终由排水管排出，水流在填料区的回转使得废水与填料接触充分。
进一步的，所述催化板十字交叉设置将所述反光导流筒平均分为4个氧化区，方便设置且催化板均位于紫外灯柱的最佳催化距离内，每个氧化区除了紫外灯柱发出的紫外光外都能得到镜面反射的紫外光。
进一步的，所述填料区内设置有表面涂覆有二氧化钛涂覆层的空心陶瓷球，使废水在填料区进一步氧化。
进一步的，所述空心陶瓷球表面设有若干贯通所述空心陶瓷球内外的通孔，废水从通孔内流通，充分接触空心陶瓷球的内外表面，有效提高反应效率。
本发明的一种一种乳化液低压处理装置，与现有技术相比的有益效果是：操作简单，采用生化操作与高级氧化结合的方式，对乳化液的处理彻底，高级氧化器采用紫外灯分区照射，使催化板完全处于紫外灯柱的最佳催化距离内，同时反光导流筒能够反射紫外灯柱发出的紫外光，加强光照，提高光催化效率。
附图说明
图1是本发明整体结构示意图；
图2是本发明高级氧化器俯视图；
图3是空心陶瓷球结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例对本发明作进一步说明，以使本领域的技术人员可以更好地理解本发明并能予以实施，但所举实施例不作为对本发明的限定。
如图1所示，一种乳化液低压处理装置，包括依次串联设置的破乳池3、一次沉淀池4、反应池5、高级氧化器1、二次沉淀池6和清水池7，所述破乳池3和反应池5内均设有搅拌组件31，乳化液废水进入破乳池3后，通过药剂自动添加组件32向所述破乳池3内分别添加破乳剂和混凝剂，并对添加药剂后的废水进行搅拌，本发明实施例中，破乳剂和混凝剂采用无机物，目的是使废水中不要再产生新的有机物，即使废水的COD值不会因加入破乳剂和混凝剂而增加，混凝后的废水进入一次沉淀池4在一次沉淀池4内进行沉淀，将水中的部分有机物沉淀下来，初步处理后的废水再次进入反应池5，在反应池5内进行PH调节，使适于催化氧化的废水进入高级氧化器1，废水中难以处理的有机物在高级氧化器1中被充分氧化，而后进入二次沉淀池6内再次进行沉淀，一次沉淀池4和二次沉淀池6内的沉淀物经下方连接的排泥机41排出，保证沉淀池的持续工作能力，所述一次沉淀池4和二次沉淀池6为斜板沉淀池，斜板沉淀池运用“浅层沉淀”原理，缩短颗粒沉降距离，从而缩短了沉淀时问，并且增加了沉淀池的沉淀面积，提高了处理效率，经二次沉淀处理后的废水最终排入清水池7，可排放或者回用。
如图2所示，所述高级氧化器1包括反应器筒体1，所述反应器筒体1内设置有反光导流筒12，所述反光导流筒12与所述反应器筒体1之间为填料区13，所述填料区13内设置有填料，帮助提高废水降解的速率，进水管14和进气管15穿过所述反应器筒体1下部的填料区13在所述反光导流筒12底部开口处设有布水器141和曝气器151，使废水以射流方式直接进入反光导流筒12内，因此能够对废水和臭氧加以低压，废水以旋流的方式在反光导流筒12内形成内循环，与臭氧充分融合，达到充分氧化的目的，排水管16设置在反应器筒体1上部，废水充满反光导流筒12后流入填料区13，再次与填料区13的填料充分接触，废水充满填料区13后从反应器筒体1上部的排水管16排出，反光导流筒12内还设有二氧化钛催化板17，催化板17将所述反光导流筒12分隔为若干纵向氧化区121，紫外灯柱18设置在每个所述氧化区121中心，此时紫外灯柱18与催化板17的相对距离较为均匀，催化板17完全处于紫外灯柱18的最佳催化距离内，催化氧化反应完全且效率高，所述反光导流筒12能够反射紫外灯柱18发出的紫外光，加强光照，提高光催化效果，为方便设置且使催化效果最佳，所述催化板17十字交叉设置将所述反光导流筒12平均分为4个氧化区121，此时催化板17均位于紫外灯柱18的最佳催化距离内，且每个氧化区121除了紫外灯柱18发出的紫外光外都能得到镜面反射的紫外光，废水在氧化区121得到深度氧化，再经过填料区13的进一步氧化后经排水管16排出的水能够直接回用或者排放，为使废水和臭氧进入每个氧化区121，所述布水器141为管式布水器141，所述曝气器151为纳米级钛合金曝气盘，能够使进入污水中的臭氧气泡更细密，与污水的融合更好，提高氧化效果，为进一步加强废水在高级氧化器1内的回流效果，所述高级氧化器1还包括导流泵19，所述导流泵19进水端连接所述高级氧化器1筒体上部，所述导流泵19出水端连接所述反光导流筒12底部开口处，为保证从反光导流筒12中流出的废水与填料区13填料充分接触，在所述反应器筒体1与所述反光导流筒12之间设置有第二导流筒122，第二导流筒122将填料区13分为内填料区131和外填料区132，第二导流筒122与反应器筒体1底部之间存在流道，废水从反光导流筒12内流出后流入内填料区131，而后经流道进入外填料区132，使得废水与填料充分接触。
如图3所示，所述填料区13内设置的填料为表面涂覆有二氧化钛涂覆层21的空心陶瓷球2，所述空心陶瓷球2表面设有若干贯通所述空心陶瓷球2内外的通孔22，废水从通孔22内流通，充分接触空心陶瓷球2的内外表面，空心陶瓷球2比表面积大，污水和臭氧与空心陶瓷球2表面的二氧化钛氧化剂接触充分，有效提高反应效率。
以上所述实施例仅是为充分说明本发明而所举的较佳的实施例，本发明的保护范围不限于此。本技术领域的技术人员在本发明基础上所作的等同替代或变换，均在本发明的保护范围之内。本发明的保护范围以权利要求书为准。
Claims (9)
1.一种乳化液低压处理装置，其特征在于，包括依次串联设置的破乳池、一次沉淀池、反应池、二次沉淀池、高级氧化器、二次沉淀池和清水池，所述高级氧化器包括反应器筒体，所述反应器筒体内设置有反光导流筒，所述反光导流筒与所述反应器筒体之间为填料区，进水管和进气管穿过所述反应器筒体下部的填料区在所述反光导流筒底部开口处设有布水器和曝气器，排水管设置在反应器筒体上部，二氧化钛催化板将所述反光导流筒分隔为若干纵向氧化区，紫外灯柱设置在每个所述氧化区中心。
2.如权利要求1所述的一种乳化液低压处理装置，其特征在于，所述破乳池通过药剂自动添加组件向池内分别添加破乳剂和混凝剂，并对添加药剂后的废水进行搅拌。
3.如权利要求1所述的一种乳化液低压处理装置，其特征在于，所述一次沉淀池和二次沉淀池为斜板沉淀池。
4.如权利要求3所述的一种乳化液低压处理装置，其特征在于，所述一次沉淀池和二次沉淀池下方连接排泥机。
5.如权利要求1所述的一种乳化液低压处理装置，其特征在于，所述高级氧化器还包括导流泵，所述导流泵进水端连接所述高级氧化器筒体上部，所述导流泵出水端连接所述反光导流筒底部开口处。
6.如权利要求1所述的一种乳化液低压处理装置，其特征在于，所述反应器筒体与所述反光导流筒之间设置有将所述填料区分为内填料区和外填料区的第二导流筒，所述第二导流筒与反应器筒体底部之间存在流道。
7.如权利要求1所述的一种乳化液低压处理装置，其特征在于，所述催化板十字交叉设置将所述反光导流筒平均分为4个氧化区。
8.如权利要求1所述的一种乳化液低压处理装置，其特征在于，所述填料区内设置有表面涂覆有二氧化钛涂覆层的空心陶瓷球。
9.如权利要求8所述的一种乳化液低压处理装置，其特征在于，所述空心陶瓷球表面设有若干贯通所述空心陶瓷球内外的通孔。
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- 2018-07-17 CN CN201810784042.7A patent/CN108689536A/zh active Pending
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