CN108682750A - 有机发光二极管及其制作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种有机发光二极管及其制作方法,涉及光电领域。在制作有机发光二极管的过程中,由于至少有一个子发光区域的所掺杂的发光材料与其他的子发光区域掺杂的发光材料不同,且至少两个子发光区域在透明导电基板上的正投影不重叠,或不完全重叠,从而位于不同有机发光层的图案化掩模对应的光亮图案的颜色不同,使得最后形成的光亮图案具有灵活性和层次感。
Description
技术领域
本发明涉及光电领域,具体而言,涉及一种有机发光二极管及其制作方法。
背景技术
有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,OLED)又称为有机电激光显示、有机发光半导体。由美籍华裔教授邓青云(Ching W.Tang)于1979年在实验室中发现。OLED显示技术具有自发光、广视角、几乎无穷高的对比度、较低耗电、极高反应速度等优点。OLED的基本结构是由一薄而透明具半导体特性之铟锡氧化物(ITO),与电力之正极相连,再加上另一个金属阴极,包成如三明治的结构。整个结构层中包括了:空穴传输层(HTL)、发光层(EL)与电子传输层(ETL)。当电力供应至适当电压时,正极空穴与阴极电荷就会在发光层中结合,产生光亮,依其配方不同产生红、绿和蓝RGB三基色,构成基本色彩。OLED的特性是自己发光,不像TFT LCD需要背光,因此可视度和亮度均高,其次,是电压需求低且省电效率高,加上反应快、重量轻、厚度薄,构造简单,成本低等,被视为21世纪最具前途的产品之一。
传统的有机发光二极管都是均匀发光,或在有机发光二极管表面贴附彩色半透明的图片,使得设计过于呆板,没有灵活性和变化性,缺少审美的细节和层次感。
发明内容
本发明的目的在于提供一种有机发光二极管制作方法,其旨在改善上述的问题。
本发明提供一种技术方案:
第一方面,本发明实施例提供了一种有机发光二极管,包括透明导电基板,空穴功能层、有机发光层、电子功能层及电极层,所述有机发光层包括至少两个子发光区域;所述至少两个子发光区域中,至少有一个子发光区域的所掺杂的发光材料与其他的子发光区域掺杂的发光材料不同,且所述至少两个子发光区域在所述透明导电基板上的正投影不重叠或不完全重叠。
进一步地,任意两个所述子发光区域之间设置有过渡区,所述过渡区内设置有激子阻挡型功能材料层过渡区内蒸镀形成激子阻挡功能材料层。
进一步地,在所述有机发光层中还包括非发光子区域,所述非发光子区域内设置有非发光材料层或蒸镀激子淬灭材料层或蒸镀绝缘性材料层。
进一步地,所述有机发光二极管制作方法包括:
在真空条件下,在透明导电基板导电层上先蒸镀空穴功能层;
在所述空穴功能层上的蒸镀有机发光层,在蒸镀所述有机发光层时,使用图案化的掩模板分别将有机发光层蒸镀在多个子发光区域内,其中,至少一个子发光区域所掺杂的发光材料与其他的子发光区域掺杂的发光材料不同,且所述至少两个子发光区域在所述透明导电基板上的正投影不重叠或不完全重叠;
在所述有机发光层上蒸镀电子功能层;
在电子功能层上蒸镀电极层。
进一步地,在真空条件下,在透明导电基板的导电层上先蒸镀空穴注入层的步骤之前,所述有机发光二极管制作方法还包括:
在透明导电基板的与预先设置的导电层相对的一面设置覆盖层;
在所述在电子功能层上蒸镀电极层的步骤之后,所述有机发光二极管制作方法还包括:
在蒸镀完毕后去除覆盖层。
进一步地,所述覆盖层为贴附层或涂层。
进一步地,所述贴附层为铝胶带层或PET高温胶带层,所述涂层为颜料涂层。
进一步地,所述覆盖层为磁性贴片或磁性板。
进一步地,所述任意子发光区域之间设置有过渡区,所述过渡区内设置蒸镀有形成激子阻挡型功能材料层。
进一步地,在所述掩模板在蒸镀时距离所述透明导电基板距离大于等于0.5mm。
本发明提供的有机发光二极管制作方法的有益效果是:在制作有机发光二极管的过程中,由于至少有一个子发光区域的所掺杂的发光材料与其他的子发光区域掺杂的发光材料不同,且至少两个子发光区域在透明导电基板上的正投影不重叠,或不完全重叠,从而位于不同有机发光层的图案化掩模对应的光亮图案的颜色不同,使得最后形成的光亮图案具有灵活性、变化性以及审美的细节和层次感。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,应当理解,以下附图仅示出了本发明的某些实施例,因此不应被看作是对范围的限定,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
图1为本发明实施例提供的有机发光二极管制作方法的流程图;
图2为本发明实施例提供的有机发光二极管的结构示意图。
附图标记:101-透明导电基板;102-空穴功能层;103-有机发光层;104-电子功能层;105-电极层。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本发明实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。
因此,以下对在附图中提供的本发明的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本发明的范围,而是仅仅表示本发明的选定实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
应注意到:相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项,因此,一旦某一项在一个附图中被定义,则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。
在本发明的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,或者是该发明产品使用时惯常摆放的方位或位置关系,或者是本领域技术人员惯常理解的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的设备或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。
此外,术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于区分描述,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本发明的描述中,还需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
实施例
请参阅图1,本发明实施例提供了一种有机发光二极管制作方法,所述有机发光二极管制作方法包括:
本发明实施例提供了一种有机发光二极管制作方法,所述有机发光二极管制作方法包括:
步骤S101:在透明导电基板101的与预先设置的导电层相对的一面设置覆盖层。
需要说明的是,由于透明导电基板101界面对发光性能的影响至关重要,透明导电基板101界面在使用前必须仔细清洗,目的是除去表面上物理附着的污物和化学附着的有机物等。本实施例中,覆盖层可以采用贴附层或涂层,在此不做限制,其中,贴附层可以采用但不限于铝胶带层或PET高温胶带层,涂层可以采用但不限于颜料涂层。透明基板101为刚性基板或柔性基板,其中,刚性基板或柔性基板的厚度小于等于2mm,优选为0.5mm-1.1mm,例如,透明玻璃板的厚度可以优选为0.5mm、0.7mm、1.1mm。其中,覆盖层具有形状层或图案层。在有覆盖层情况下蒸镀而成的有机发光二极管,可以增强覆盖区域对应的有机发光层的发光效率或强度,使出光面呈现图案化的明暗差异,提高了发光面的色彩或明暗变化性。
另外,覆盖层的其中一个区域与剩余的其他一个或多个区域的厚度不同,可以控制最终的发光图案的明暗层次,从而使得发光图案更进一步具有灵活性和变化性,具有更进一步的审美的细节和层次感。
步骤S102:在真空条件下,在透明导电基板101导电层上先蒸镀空穴功能层102。
其中,空穴功能层102可以为空穴注入层和/或空穴传输层。当然地,在其他实施例中,也可以直接从步骤102开始进行。
步骤S103:在空穴功能层102上蒸镀有机发光层103,在蒸镀有机发光层103时,使用图案化的掩模板分别将有机发光层103蒸镀在多个子发光区域内。
有机发光层103包含多个子发光层和多个子发光区域,不同的子发光层与透明导电基板101的距离不同,不同的子发光区域与透明导电基板101的距离可以相同或不同。同一个子发光区域内,可以包含不止一个子发光层。需要说明的是,当不同的子发光区域与透明导电基板101的距离不同,且同一个子发光区域内,包含有多个子发光层时,当有机发光二极管发光时,可以增强发光颜色的多样性与明暗层次感。
其中,至少一个子发光区域所掺杂的发光材料与其他的子发光区域掺杂的发光材料不同,(图2中的阴影部分即为掺杂发光材料的子发光区域)且至少两个子发光区域在透明导电基板101上的正投影不重叠或不完全重叠。这样设置可以使得有机发光二极管在被点亮时,发出不同的颜色。
较佳地,任意子发光区域之间设置有过渡区,过渡区内蒸镀形成激子阻挡功能材料层。这样设置可以避免不同发光区域之间激子扩散,从而避免了影响发光效果。另外,在有机发光层103中还包括可以有非发光子区域,非发光子区域内蒸镀非发光材料层或蒸镀激子淬灭材料层或蒸镀绝缘性材料层。
需要说明的是,在掩模板在蒸镀时距离透明导电基板101距离大于等于0.5mm。当掩模板在蒸镀时距离透明导电基板101距离大于等于0.5mm时,可以降低有机发光二极管的图案边缘的清晰度,使图案边缘具有一定的过渡区,可降低发光时图案的轮廓感,使图案各元素之间的过渡更加的自然,使制得的图案更有绘画的笔法特色。
步骤S104:在有机发光层103上蒸镀电子功能层104。
具体地,电子功能层可以为电子注入层和/或电子传输层。
步骤S105:在电子功能层104上蒸镀电极层105。
步骤S106:对已经形成的有机发光二极管进行封装处理。
步骤S107:在蒸镀完毕后去除覆盖层。
当在其他实施例中直接从步骤102开始执行,相应地,也就没有步骤S107。
请参阅图2,本发明实施例提供了一种有机发光二极管,需要说明的是,本发明实施例所提供的有机发光二极管,其基本原理及产生的技术效果和上述实施例相同,为简要描述,本实施例部分未提及之处,可参考上述的实施例中相应内容。
该有机发光二极管包括透明导电基板101,空穴功能层102、有机发光层103、电子功能层104及电极层105,有机发光层103包括至少两个子发光区域;至少两个子发光区域中,至少有一个子发光区域的所掺杂的发光材料与其他的子发光区域掺杂的发光材料不同,有机发光层103包含多个子发光层和多个子发光区域,不同的子发光层与透明导电基板101的距离不同,不同的子发光区域与透明导电基板101的距离可以相同或不同。同一个子发光区域内,可以包含不止一个子发光层。(图2中的阴影部分即为掺杂发光材料的子发光区域)且至少两个子发光区域在透明导电基板101上的正投影不重叠或不完全重叠。
任意两个子发光区域之间设置有过渡区,过渡区内蒸镀形成激子阻挡功能材料层。在有机发光层103中还包括非发光子区域,非发光子区域内蒸镀非发光材料层或蒸镀激子淬灭材料层或蒸镀绝缘性材料层。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,对于本领域的技术人员来说,本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种有机发光二极管,包括透明导电基板,空穴功能层、有机发光层、电子功能层及电极层,其特征在于,所述有机发光层包括至少两个子发光区域;所述至少两个子发光区域中,至少有一个子发光区域的所掺杂的发光材料与其他的子发光区域掺杂的发光材料不同,且所述至少两个子发光区域在所述透明导电基板上的正投影不重叠或不完全重叠。
2.根据权利要求1所述的有机发光二极管,其特征在于,任意两个所述子发光区域之间设置有过渡区,所述过渡区内蒸镀形成激子阻挡功能材料层。
3.根据权利要求1所述的有机发光二极管,其特征在于,在所述有机发光层中还包括非发光子区域,所述非发光子区域内设置有非发光材料层或蒸镀激子淬灭材料层或蒸镀绝缘性材料层。
4.一种有机发光二极管制作方法,其特征在于,所述有机发光二极管制作方法包括:
在真空条件下,在透明导电基板导电层上先蒸镀空穴功能层;
在所述空穴功能层上的蒸镀有机发光层,在蒸镀所述有机发光层时,使用图案化的掩模板分别将有机发光层蒸镀在多个子发光区域内,其中,至少一个子发光区域所掺杂的发光材料与其他的子发光区域掺杂的发光材料不同,且至少两个所述子发光区域在所述透明导电基板上的正投影不重叠或不完全重叠;
在所述有机发光层上蒸镀电子功能层;
在电子功能层上蒸镀电极层。
5.根据权利要求4所述的有机发光二极管制作方法,其特征在于,在真空条件下,在透明导电基板的导电层上先蒸镀空穴注入层的步骤之前,所述有机发光二极管制作方法还包括:
在透明导电基板的与预先设置的导电层相对的一面设置覆盖层;
在所述在电子功能层上蒸镀电极层的步骤之后,所述有机发光二极管制作方法还包括:
在蒸镀完毕后去除覆盖层。
6.根据权利要求5所述的有机发光二极管制作方法,其特征在于,所述覆盖层为贴附层或涂层。
7.根据权利要求6所述的有机发光二极管制作方法,其特征在于,所述贴附层为铝胶带层或PET高温胶带层,所述涂层为颜料涂层。
8.根据权利要求5所述的有机发光二极管制作方法,其特征在于,所述覆盖层为磁性贴片或磁性板。
9.根据权利要求4所述的有机发光二极管制作方法,其特征在于,任意所述子发光区域之间设置有过渡区,所述过渡区内蒸镀形成激子阻挡功能材料层。
10.根据权利要求4所述的有机发光二极管制作方法,其特征在于,在所述掩模板在蒸镀时距离所述透明导电基板距离大于等于0.5mm。
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