CN108554968A - 一种沉积缸清洗装置及离心沉积机 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种沉积缸清洗装置及离心沉积机，包括固定支架和清洗组件，其中，所述固定支架上固定设置有直线驱动机构，所述直线驱动机构用于驱使所述清洗组件进行直线运动；所述清洗组件包括壳体，所述壳体上设置有可360°转动且内部中空的喷头，所述喷头的转动方向与所述清洗组件的直线运动方向垂直。该沉积缸清洗装置操作简单，节省了人工且清洗效率高。

Description

一种沉积缸清洗装置及离心沉积机

技术领域

本发明涉及沉积技术领域，尤其涉及一种沉积缸清洗装置及离心沉积机。

背景技术

随着生产技术日益月新，生活水平不断提高，对电子产品功能不断革新换代，必将导致电子元件需求量不断增加，其中电子产品中使用了大量的片式电容、电阻、电感。由于电子产品的功能增多，迫使元器件的体积要求也越来越小，微型化的元器件也随之诞生，传统的0805、0603已不能满足电子产品的要求，0402、0201及更小尺寸的电子元件已经成为主流的元器件产品，以满足体积小、功能多的各种电子产品的需求。为提高耐磨性、抗氧化性等性能，一般需要对电子元件进行沉积处理，使得金属离子沉积于电子元件的表面。

电子元件在每次进行沉积处理前，都需要对沉积缸进行清洗。目前都是人工对沉积缸进行清洗，浪费人力，且效率低。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术的缺陷，提供一种沉积缸清洗装置及离心沉积机，用以解决现有技术中的问题。

为解决上述问题，本发明提供了：一种沉积缸清洗装置，包括固定支架和清洗组件，其中，所述固定支架上固定设置有直线驱动机构，所述直线驱动机构用于驱使所述清洗组件进行直线运动；

所述清洗组件包括壳体，所述壳体上设置有可360°转动且内部中空的喷头，所述喷头的转动方向与所述清洗组件的直线运动方向垂直。

作为上述技术方案的进一步改进，所述喷头的横截面呈圆形，所述喷头的侧面及底部均设置有出水孔。

作为上述技术方案的进一步改进，所述直线驱动机构和所述清洗组件之间设置有提盖机构；

所述提盖机构用于提起沉积缸的缸盖。

作为上述技术方案的进一步改进，所述提盖机构包括安装板、卡爪组件和用于驱动所述卡爪组件的动力单元；

所述直线驱动机构和所述清洗组件分别安装于所述安装板的两侧；

所述动力单元固定于所述安装板上，并位于靠近所述清洗组件的一侧；

所述卡爪组件位于所述动力单元和所述清洗组件之间。

作为上述技术方案的进一步改进，所述卡爪组件包括套筒和位于所述套筒内部的活动爪，其中，所述套筒的侧壁上设置有与所述活动爪相对应的通孔；

所述套筒内设置滑动设置有活动芯，所述活动芯用于在所述动力单元的驱动下驱使所述活动爪伸出所述通孔。

作为上述技术方案的进一步改进，所述活动芯上设置横截面自上而下逐渐减小的推伸部，所述活动爪与所述推伸部的侧壁相接触；

所述动力单元用于驱使所述活动芯进行直线运动，所述活动芯的运动方向与自身的横截面相垂直；

所述活动爪的下表面与所述壳体的上表面相贴合且滑动连接，所述活动爪的活动方向与所述活动芯的直线运行方向垂直。

作为上述技术方案的进一步改进，所述套筒内设置复位件，所述复位件用于提供复位作用力使所述活动爪缩回所述套筒内。

作为上述技术方案的进一步改进，所述固定支架上设置有直线轴承；

所述安装板上固定设置有与所述直线轴承一一对应的导向轴，所述导向轴与所述直线轴承滑动连接；

所述导向轴与所述清洗组件的直线运动方向平行。

作为上述技术方案的进一步改进，所述直线驱动机构为气缸。

本发明还提供了：一种离心沉积机，包括如上任一项所述的沉积缸清洗装置。

本发明的有益效果是：本发明提出一种沉积缸清洗装置，通过直线驱动机构驱使清洗组件进入到沉积缸内，再启动喷头，喷头进行360°转动，完成对沉积缸的清洗。该沉积缸清洗装置操作简单，节省了人工且清洗效率高。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍。应当理解，以下附图仅示出了本发明的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。

图1为本发明实施例中一种沉积缸清洗装置的示意图；

图2为本发明实施例中一种清洗组件的示意图；

图3为本发明实施例中一种提盖机构的示意图；

图4为本发明实施例中一种卡爪组件的示意图；

图5为本发明实施例中一种活动芯的示意图；

图6为本发明实施例中一种活动爪的示意图；

图7为本发明实施例中一种离心沉积机的示意图。

主要元件符号说明：

1000-沉积缸清洗装置；1100-固定支架；1110-直线驱动机构；1120-直线轴承；1200-清洗组件；1210-壳体；1220-喷头；1300-提盖机构；1310-安装板；1311-导向轴；1320-卡爪组件；1321-套筒；13211-通孔；1322-活动爪；13221-凹槽；1323-活动芯；13231-圆柱体部；13232-推伸部；13233-凸筋；1330-动力单元；2000-离心沉积机；2100-沉积缸；2200-工作台；2210-横梁；2300-阳极。

具体实施方式

在下文中，将更全面地描述本发明的各种实施例。本发明可具有各种实施例，并且可在其中做出调整和改变。然而，应理解：不存在将本发明的各种实施例限于在此公开的特定实施例的意图，而是应将本发明理解为涵盖落入本发明的各种实施例的精神和范围内的所有调整、等同物和/或可选方案。

在下文中，可在本发明的各种实施例中使用的术语“包括”或“可包括”指示所公开的功能、操作或元件的存在，并且不限制一个或更多个功能、操作或元件的增加。此外，如在本发明的各种实施例中所使用，术语“包括”、“具有”及其同源词仅意在表示特定特征、数字、步骤、操作、元件、组件或前述项的组合，并且不应被理解为首先排除一个或更多个其它特征、数字、步骤、操作、元件、组件或前述项的组合的存在或增加一个或更多个特征、数字、步骤、操作、元件、组件或前述项的组合的可能性。

在本发明的各种实施例中，表述“A或/和B”包括同时列出的文字的任何组合或所有组合，例如，可包括A、可包括B或可包括A和B二者。

在本发明的各种实施例中使用的表述(诸如“第一”、“第二”等)可修饰在各种实施例中的各种组成元件，不过可不限制相应组成元件。例如，以上表述并不限制所述元件的顺序和/或重要性。以上表述仅用于将一个元件与其它元件区别开的目的。例如，第一用户装置和第二用户装置指示不同用户装置，尽管二者都是用户装置。例如，在不脱离本发明的各种实施例的范围的情况下，第一元件可被称为第二元件，同样地，第二元件也可被称为第一元件。

应注意到：在本发明中，除非另有明确的规定和定义，“安装”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，可以是直接连接，也是可以通过中间媒介间接相连；可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

在本发明中，本领域的普通技术人员需要理解的是，文中指示方位或者位置关系的术语为基于附图所示的方位或者位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或者元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

在本发明的各种实施例中使用的术语仅用于描述特定实施例的目的并且并非意在限制本发明的各种实施例。除非另有限定，否则在这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本发明的各种实施例所属领域普通技术人员通常理解的含义相同的含义。所述术语(诸如在一般使用的词典中限定的术语)将被解释为具有与在相关技术领域中的语境含义相同的含义并且将不被解释为具有理想化的含义或过于正式的含义，除非在本发明的各种实施例中被清楚地限定。

实施例1

参阅图1，在本实施例中，提出一种沉积缸清洗装置1000，包括固定支架1100和清洗组件1200，其中，固定支架1100上固定设置有直线驱动机构1110，直线驱动机构1110用于驱使清洗组件1200进行直线运动。

如图2所示，清洗组件1200包括壳体1210，壳体1210上设置有可360°转动且内部中空的喷头1220，喷头1220的转动方向与清洗组件1200的直线运动方向垂直。

在进行沉积处理前及沉积处理后都需要对沉积缸2100进行清洗，以清除沉积缸2100内壁残留的沉积药水，防止不同沉积药水之间的相互污染，以避免影响沉积处理的效果。

清洗组件1200通过直接驱动机构安装于固定支架1100上，移动固定支架1100使得喷头1220正对于沉积缸2100，之后，启动直线驱动机构1110，使得喷头1220进入到沉积缸2100内。清洗组件1200上连接水管后，打开水管，水从喷头1220洒出，从而完成对沉积缸2100的清洗工作。

在本实施例中，喷头1220的横截面可以设置呈圆形，其中，喷头1220的侧面及底部均设置有出水孔。在水压的作用，水从喷头1220的侧面及底部的出水孔喷出，继而分别对沉积缸2100内部的侧壁及底面进行冲洗。

喷头1220可以360°转动，从而可以对沉积缸2100进行全方位的清洗，以保证清洗的效率及效果。

为降低成本，喷头1220可以采用水压驱动的方式进行360°转动。喷头1220可设置为旋转体，侧面的出水孔关于喷头1220的旋转轴环形阵列分布，其中，侧面的出口孔沿孔壁平行延伸后不与旋转轴相交，如此，在向喷头1220内导入水后，在水压的作用下，从侧面的出水孔排出的水会对喷头1220产生切向作用力，在切向作用力的作用下，喷头1220发生转动，从而进行360°的清洗工作。

在完成沉积处理后，需要打开沉积缸2100的缸盖，以方便取出内部已完成沉积处理的电子元件。

为此，在本实施例中，直线驱动机构1110和清洗组件1200之间可以设置有提盖机构1300。其中，提盖机构1300用于提起沉积缸2100的缸盖。

沉积缸2100可以包括有底座和缸盖，底座上可设置有锁紧机构和密封圈。其中，锁紧机构用于锁紧缸盖；密封圈用于保证底座与缸盖之间的密封性，防止液体的泄露。当需要提起缸盖时，锁紧机构被打开，从而方便缸盖与底座的分离。

其中，在缸盖的顶部可以设置有开口，清洗组件1200及提盖机构1300即通过开口进入到沉积缸2100内。

如图3所示，在本实施例中，提盖机构1300包括安装板1310、卡爪组件1320和用于驱动卡爪组件1320的动力单元1330。

其中，直线驱动机构1110和清洗组件1200分别安装于安装板1310的两侧。动力单元1330固定于安装板1310上，并位于靠近清洗组件1200的一侧。同时，卡爪组件1320位于动力单元1330和清洗组件1200之间。

在本实施例中，直线驱动机构1110可以选择使用气缸，其中，安装板1310与气缸的活塞固定连接。在其他具体实施例中，直线驱动机构1110还可以选择使用滚珠丝杆等。

启动直线驱动机构1110，清洗组件1200驱使安装板1310移动，其中，壳体1210可以与安装板1310固定连接，所以在安装板1310移动的同时，清洗组件1200也随之同步移动。

如图4所示，卡爪组件1320包括套筒1321和位于套筒1321内部的活动爪1322，其中，套筒1321的侧壁上设置有与活动爪1322相对应的通孔13211。在本实施例中，套筒1321可以与安装板1310固定，壳体1210可以与套筒1321固定连接，其中，安装板1310、套筒1321及壳体1210自上而下依次设置，安装板1310、套筒1321之间可以通过螺柱固定连接，套筒1321与壳体1210之间可以通过螺丝固定连接。

套筒1321内可以设置滑动设置有活动芯1323，活动芯1323用于在动力单元1330的驱动下驱使活动爪1322伸出通孔13211。在本实施例中，活动爪1322可以设置有3个，且彼此之间可以关于活动芯1323的中心线对称分布；在其他实施例中，活动爪1322的数量还可以根据需要进行，例如，2个、4个、5个等等。

如图4和图5所示，活动芯1323的顶部设置有呈圆柱体形的圆柱体部13231，活动芯1323上设置横截面自上而下逐渐减小的推伸部13232，其中，推伸部13232位于圆柱体部13231的下方，圆柱体部13231与套筒1321间隙配合并与之滑动连接，活动爪1322与推伸部13232的侧壁相接触。

动力单元1330用于驱使活动芯1323进行直线运动，活动芯1323的运动方向与自身的横截面相垂直。其中，活动爪1322位于套筒1321的底部，活动爪1322的下表面与壳体1210的上表面相贴合，且活动爪1322与壳体1210滑动连接，活动爪1322的活动方向与活动芯1323的直线运行方向垂直。

当需要提起缸盖时，可以先松开沉积缸2100底座上的锁紧机构，再启动直线驱动机构1110，在直线驱动机构1110的作用下，套筒1321从缸盖顶部的开口伸入到沉积缸2100内。之后，启动动力单元1330，活动芯1323向下移动，在本实施例中，壳体1210的内部可以设置为中空结构，活动芯1323向下移动时，壳体1210的内部的中空结构为其提供相应的活动空间。由于活动芯1323移动的过程中，活动爪1322由于壳体1210的限制无法向下移动，但随着活动芯1323的下移，活动芯1323与活动爪1322相接处的横截面会逐渐增大。此时，活动芯1323的侧壁会作用于活动爪1322，活动爪1322与活动芯1323之间产生相对滑动，从而使得活动爪1322被从通孔13211内推出，当活动爪1322从套筒1321内伸出至一定的长度后，这些活动爪1322远离活动芯1323的前端所构成的外接圆的面积便大于开口的横截面面积。而后，再次直线驱动机构1110，使得提盖机构1300向上移动，由于活动爪1322的作用，缸盖会随活动爪1322同步向上移动，从而完成提盖的工作。

如图5和图6所示，为保证活动芯1323与活动爪1322之间相对滑动的稳定性，活动芯1323的推伸部13232的侧壁可以设置有凸筋13233，相应的，活动爪1322上可以设置有与凸筋13233相对应的凹槽13221，其中，凸筋13233插入凹槽13221内并与之滑动连接。

在本实施例中，凹槽13221可以设置有燕尾槽，相应的，凸筋13233的形状也呈燕尾形，如此，当活动芯1323在套筒1321内向下或向上活动时，活动爪1322由于凹槽13221与凸筋13233之间的相互作用就会随之伸出或缩入套筒1321。

完成提盖的工作后，需要使提盖机构1300与缸盖分离。为此，启动动力单元1330驱使活动芯1323向上移动，之后使活动爪1322从通孔13211收回至套筒1321内，最后，移动缸盖或提盖机构1300使提盖机构1300从开口移出，如此便完成两者的分离工作。

其中，套筒1321内可以设置有复位件，当未设置有凹槽13221和凸筋13233时，复位件便用于提供复位作用力使活动爪1322缩回套筒1321内。其中，复位件可以选择使用弹簧。当活动爪1322完全位于套筒1321内时，弹簧处于自然状态；当活动爪1322伸出至通孔13211外时，弹簧便会受到活动爪1322和套筒1321内壁的挤压，处于压缩状态；当活动芯1323复位后，作用在活动爪1322上的外力便会撤除，此时，弹簧会提供复位作用力驱使活动爪1322缩回套筒1321内。

在本实施例中，动力单元1330可以选择使用迷你气缸，其中，活动芯1323与迷你气缸的活塞固定连接。

直线驱动机构1110在驱使安装板1310上下移动时，需要保证移动过程中的稳定性。为此，固定支架1100上可以设置有直线轴承1120，安装板1310上可以固定设置有与直线轴承1120一一对应的导向轴1311，导向轴1311与直线轴承1120滑动连接，其中，导向轴1311与清洗组件1200的直线运动方向平行。

在本实施例中，还提出一种离心沉积机2000，包括沉积缸清洗装置1000。

如图7所示，为一种离心沉积机2000的示意图。

沉积缸2100固定于工作台2200上，工作台2200上设置有阳极2300，沉积缸2100内设置有阴极。其中，工作台2200上还设置有横梁2210，横梁2210位于沉积缸2100的上方，阳极2300及沉积缸清洗装置1000均安装于横梁2210之上。

在横梁2210上可以设置有水平移动机构，水平移动机构用于驱使阳极2300或沉积缸清洗装置1000进行水平移动。水平移动机构可以使用链条传输机构或传送带机构等。其中，沉积缸清洗装置1000通过固定支架1100安装于水平移动机构上；而阳极2300上可以通过一安装架安装于水平移动机构上，安装架上可以设置有用于驱使阳极2300上下移动的直线运动机构，在本实施例中，直线运动机构也可以选择使用气缸。

沉积缸2100在对电子元件进行沉积处理前，需对沉积缸2100的内部进行清洗，清理残留的沉积药水，保证沉积缸2100内壁的清洁。清洗工作由沉积缸清洗装置1000完成：启动水平移动机构，使得喷头1220针对于沉积缸2100顶部的开口；启动直线驱动机构1110，使得清洗组件1200向下移动，直至喷头1220完全进入至沉积缸2100内；喷头1220会连接有水管，启动水管上的阀门后，喷头1220开始对沉积缸2100的内部进行清洗，此时，还可以同时打开沉积缸2100底部的排水口，使得清洗后的水从排水口流出；清洗完成后，关闭水管上的阀门；再次启动直线驱动机构1110，使得清洗组件1200向上移动，直至喷头1220从开口完全移出沉积缸2100，同时，关闭沉积缸2100底部的排水口，至此，沉积处理前的清洗工作完成。

完成沉积处理前的清洗工作后，通过沉积缸2100顶部的开口将待沉积处理的电子元件放置沉积缸2100内，接着开始沉积处理工作：将沉积药水导入至沉积缸2100内；启动水平移动机构使阳极2300正对于沉积缸2100顶部的开口，阳极2300在驱动气缸的作用下插入到沉积药水中；使阳极2300和阴极通电，在电流的作用，沉积药水在电子元件的表面沉积，最终完成沉积药水在产品表面的沉积处理工作。

在本实施例中，工作台2200上可以设置有2个或多个沉积缸2100，如此就可以同时对更多的电子元件进行沉积处理，从而提高沉积处理的效率。

本领域技术人员可以理解附图只是一个优选实施场景的示意图，附图中的模块或流程并不一定是实施本发明所必须的。

本领域技术人员可以理解实施场景中的装置中的模块可以按照实施场景描述进行分布于实施场景的装置中，也可以进行相应变化位于不同于本实施场景的一个或多个装置中。上述实施场景的模块可以合并为一个模块，也可以进一步拆分成多个子模块。

上述实施例序号仅仅为了描述，不代表实施场景的优劣。

以上公开的仅为本发明的几个具体实施场景，但是，本发明并非局限于此，任何本领域的技术人员能思之的变化都应落入本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种沉积缸清洗装置，其特征在于，包括固定支架和清洗组件，其中，所述固定支架上固定设置有直线驱动机构，所述直线驱动机构用于驱使所述清洗组件进行直线运动；

所述清洗组件包括壳体，所述壳体上设置有可360°转动且内部中空的喷头，所述喷头的转动方向与所述清洗组件的直线运动方向垂直。

2.根据权利要求1所述的沉积缸清洗装置，其特征在于，所述喷头的横截面呈圆形，所述喷头的侧面及底部均设置有出水孔。

3.根据权利要求1所述的沉积缸清洗装置，其特征在于，所述直线驱动机构和所述清洗组件之间设置有提盖机构；

所述提盖机构用于提起沉积缸的缸盖。

4.根据权利要求3所述的沉积缸清洗装置，其特征在于，所述提盖机构包括安装板、卡爪组件和用于驱动所述卡爪组件的动力单元；

所述直线驱动机构和所述清洗组件分别安装于所述安装板的两侧；

所述动力单元固定于所述安装板上，并位于靠近所述清洗组件的一侧；

所述卡爪组件位于所述动力单元和所述清洗组件之间。

5.根据权利要求4所述的沉积缸清洗装置，其特征在于，所述卡爪组件包括套筒和位于所述套筒内部的活动爪，其中，所述套筒的侧壁上设置有与所述活动爪相对应的通孔；

所述套筒内设置滑动设置有活动芯，所述活动芯用于在所述动力单元的驱动下驱使所述活动爪伸出所述通孔。

6.根据权利要求5所述的沉积缸清洗装置，其特征在于，所述活动芯上设置横截面自上而下逐渐减小的推伸部，所述活动爪与所述推伸部的侧壁相接触；

所述动力单元用于驱使所述活动芯进行直线运动，所述活动芯的运动方向与自身的横截面相垂直；

所述活动爪的下表面与所述壳体的上表面相贴合且滑动连接，所述活动爪的活动方向与所述活动芯的直线运行方向垂直。

7.根据权利要求5所述的沉积缸清洗装置，其特征在于，所述套筒内设置复位件，所述复位件用于提供复位作用力使所述活动爪缩回所述套筒内。

8.根据权利要求4所述的沉积缸清洗装置，其特征在于，所述固定支架上设置有直线轴承；

所述安装板上固定设置有与所述直线轴承一一对应的导向轴，所述导向轴与所述直线轴承滑动连接；

所述导向轴与所述清洗组件的直线运动方向平行。

9.根据权利要求1所述的沉积缸清洗装置，其特征在于，所述直线驱动机构为气缸。

10.一种离心沉积机，其特征在于，包括权利要求1-9中任一项所述的沉积缸清洗装置。