CN108531871A - 一种连续镀膜溅镀系统 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种连续镀膜溅镀系统，包括真空结构，真空结构的两端分别设有升降机，真空结构的下部连接有支架，真空结构内和支架的底部均设有输送装置；真空结构中镀膜溅膜工艺室包括依次连接的第一氧化物镀膜室、金属镀膜室、氮化物镀膜室、氮化物和氧化物的混合物镀膜室、第二氧化物镀膜室和第三氧化物镀膜室；且真空结构之间设有真空阀门。本发明可以在太阳能平板集热器生产中，对板芯表面进行连续的完成6层膜的镀膜溅镀，使得太阳能平板集热器有效吸收太阳热能。本发明的真空阀门中由于连接轴与阀门主轴之前设有弹性膜片式联轴器，使得阀门主轴不易变形；互锁装置，在阀门闭合时，避免了突然破真空时，对阀门造成的损坏。
Description
技术领域
本发明涉及一种连续镀膜溅镀系统，具体涉及在太阳能平板集热器生产中，用于对板芯表面进行连续镀膜溅镀的系统，镀膜溅镀技术领域。
背景技术
在太阳能平板集热器生产中，往往要在板芯表面镀一层薄膜，以提高对太阳热能的吸收，以往使用的化学镀膜，对环境污染大，而且对太阳热能的吸收不好。
由于在溅镀化合物薄膜时，若直接以化合物当作靶材，则所溅镀出来的薄膜会与靶材成份有所差别，且因为不同物质被离子击出的溅击产额不同，因此不容易控制化合物的成份组成与性质。为了得到优异质量的化合物薄膜，通常在溅镀金属靶时，通入与被溅射出物质反应的气体，在基板上相互反应生成所需的化合物薄膜，此种溅镀系统称为反应性溅镀。如果所通入的气体含量刚好足够与溅射出的原子进行反应，使得在靶材表面甚少形成化合物，则有利溅射的进行。相反地，如果通入过量的气体，则不仅在基板上与溅射出的原子进行反应，也会在靶面上与靶材反应生成化合物。因此大幅降低溅射速率，适当的控制反应气体分压，将有助于溅镀率的提升。
发明内容
本发明旨在解决上述问题，提供了一种连续镀膜溅镀系统，本发明可以在太阳能平板集热器生产中，对板芯表面进行连续的完成6层膜的镀膜溅镀，进而有效吸收太阳热能。
本发明的技术方案如下：
一种连续镀膜溅镀系统，包括真空结构，真空结构的两端分别设有升降机，真空结构的下部连接有支架，真空结构内和支架的底部均设有输送装置；输送装置优选为辊轴输送装置；
真空结构包括依次连接的抽真空室A、抽真空室B、缓冲室A、镀膜溅膜工艺室、缓冲室B、抽真空室C和抽真空室D，镀膜溅膜工艺室包括依次连接的第一氧化物镀膜室、金属镀膜室、氮化物镀膜室、氮化物和氧化物的混合物镀膜室、第二氧化物镀膜室和第三氧化物镀膜室。
本发明的工作原理，板芯通过升降机送入抽真空室A，进行粗略抽真空，然后进入抽真空室B，进行彻底抽真空，然后进入缓冲室A，完成缓冲，然后进入镀膜溅膜工艺室，在镀膜溅膜工艺室，板芯进入第一氧化物镀膜室，完成第一层膜——氧化物膜的镀膜，然后进入金属镀膜室，完成第二层膜——金属膜的镀膜，然后进入氮化物镀膜室，完成第三层膜——氮化物膜的镀膜，然后进入氮化物和氧化物的混合物镀膜室，完成第四层膜——氮化物和氧化物的混合物膜的镀膜，然后进入第二氧化物镀膜室，完成第五层膜——氧化物膜的镀膜，然后进入第三氧化物镀膜室，完成第六层膜——氧化物膜的镀膜，六层镀膜完成后，板芯进入缓冲室B，完成缓冲，然后依次进入抽真空室C和抽真空室D，板芯从抽真空室D出来后由升降机送至支架的输送装置上，完成外回流。
在上述技术方案的基础上，所述第一氧化物镀膜室内设置有2组金属靶材，A1和A2；所述金属镀膜室内设置有1组金属靶材，B；所述氮化物镀膜室内设置有1组金属靶材，C；所述氮化物和氧化物的混合物镀膜室内设置有2组金属靶材，D和E；所述第二氧化物镀膜室内设置有2组金属靶材，H；所述第三氧化物镀膜室内设置有2组半导体靶材。
本发明中，真空结构内的各室之间设有真空阀门，阀门包括阀门主体和互锁装置，阀门主体包括阀门框体、阀门气缸、连接轴、阀门主轴、弹性膜片式联轴器、阀板固定板和阀板，阀门气缸与连接轴连接，连接轴的另一端与弹性膜片式联轴器连接，弹性膜片式联轴器的另一端与阀门主轴连接，阀门主轴固定在阀门框体上，阀门主轴上连接有多个阀板固定板，阀板与阀板固定板固连；
互锁装置包括互锁气缸、延伸杆和导轮，互锁气缸位于阀门气缸的相对测，互锁气缸与延伸杆的连接，导轮设置于延伸杆上。
真空阀门的工作原理如下：
互锁气缸启动，使得延伸杆收缩，延伸杆上的导轮脱离阀板上固定板，阀门气缸启动上升，使得连接轴升起，连接轴作用于弹性膜片式联轴器，使得弹性膜片式联轴器带动主轴转动，打开阀板；当阀门关闭时，阀门气缸启动收缩，使得连接轴下降，连接轴作用于弹性膜片式联轴器，使得弹性膜片式联轴器带动主轴转动，关闭阀板，这一结构避免了突然破真空时，对阀门造成的损坏。
在上述技术方案的基础上，阀门主轴上设有三个阀板固定板，第一阀板固定板、第二阀板固定板和第三阀板固定板；第一阀板固定板和第三阀板固定板位于阀门主轴的两端，第二阀板固定板位于阀门主轴的中间位置；这一结构使得阀板打开或关闭时，主轴受力均匀，不易变形。
在上述技术方案的基础上，阀门气缸的型号为CDA2B63TF-100Z；互锁气缸型号为CDQ2F63-35DZ。
本发明具有如下优点：
1、本发明可以在太阳能平板集热器生产中，对板芯表面进行连续的完成6层膜的镀膜溅镀，使得太阳能平板集热器有效吸收太阳热能。
2、本发明的真空阀门中由于连接轴与阀门主轴之前设有弹性膜片式联轴器，使得阀门主轴不易变形；互锁装置，在阀门闭合时，避免了突然破真空时，对阀门造成的损坏。
附图说明
图1为本发明结构示意图；
图2为真空阀门结构示意图；
图3为真空阀门在缓冲室A上的安装结构示意图。
符号说明
1.升降机、2.真空结构、3.支架、4.输送装置、21.抽真空室A、22.抽真空室B、23.缓冲室A、24.镀膜溅膜工艺室、25.缓冲室B、26.抽真空室C、27.抽真空室D、24-1.第一氧化物镀膜室、24-2.金属镀膜室、24-3.氮化物镀膜室、24-4.氮化物和氧化物的混合物镀膜室、24-5.第二氧化物镀膜室、24-6和第三氧化物镀膜室、5.真空阀门、501.阀门框体、502.阀门气缸、503.连接轴、504.阀门主轴、505.弹性膜片式联轴器、506.阀板固定板、507.阀板、508.互锁气缸、509.延伸杆、510.导轮、506-1.第一阀板固定板、506-2.第二阀板固定板、506-3.第三阀板固定板。
具体实施方式
下面结合附图和实例对本发明作进一步说明：
实施例1一种连续镀膜溅镀系统
如图1所示，镀膜溅镀系统包括真空结构2，真空结构2的两端分别设有升降机1，真空结构2的下部连接有支架3，真空结构2内和支架3的底部均设有输送装置4；
真空结构2包括依次连接的抽真空室A 21、抽真空室B 22、缓冲室A 23、镀膜溅膜工艺室24、缓冲室B 25、抽真空室C 26和抽真空室D 27，镀膜溅膜工艺室24包括依次连接的第一氧化物镀膜室24-1、金属镀膜室24-2、氮化物镀膜室24-3、氮化物和氧化物的混合物镀膜室24-4、第二氧化物镀膜室24-5和第三氧化物镀膜室24-6。
实施例2一种连续镀膜溅镀系统
在实施例1的基础上，如图1所示，所述第一氧化物镀膜室24-1内设置有2组金属靶材，A1和A2；所述金属镀膜室24-2内设置有1组金属靶材，B；所述氮化物镀膜室24-3内设置有1组金属靶材，C；所述氮化物和氧化物的混合物镀膜室24-4内设置有2组金属靶材，D和E；所述第二氧化物镀膜室24-5内设置有2组金属靶材，H；所述第三氧化物镀膜室24-6内设置有2组半导体靶材。
实施例3一种连续镀膜溅镀系统
在实施例1和实施例2的基础上，如图1-3所示，真空结构2内的各室之间设有真空阀门5，阀门5包括阀门主体和互锁装置，阀门主体包括阀门框体501、阀门气缸502、连接轴503、阀门主轴504、弹性膜片式联轴器505、阀板固定板506和阀板507，阀门气缸502与连接轴503连接，连接轴503的另一端与弹性膜片式联轴器505连接，弹性膜片式联轴器505的另一端与阀门主轴504连接，阀门主轴504固定在阀门框体501上，阀门主轴504上连接有三个阀板固定板506，阀板507与阀板固定板506固连；
互锁装置包括互锁气缸508、延伸杆509和导轮509，互锁气缸508位于阀门气缸502的相对测，互锁气缸502与延伸杆509的连接，导轮510设置于延伸杆509上。
实施例4一种连续镀膜溅镀系统
在实施例3的基础上，如图1-3所示，阀门主轴504上设有三个阀板固定板506，第一阀板固定板506-1、第二阀板固定板506-2和第三阀板固定板506-3；第一阀板固定板506-1和第三阀板固定板506-3位于阀门主轴504的两端，第二阀板固定板506-2位于阀门主轴504的中间位置；阀门气缸502的型号为CDA2B63TF-100Z；互锁气缸508型号为CDQ2F63-35DZ。
上面以举例方式对本发明进行了说明，但本发明不限于上述具体实施例，凡基于本发明所做的任何改动或变型均属于本发明要求保护的范围。
Claims (8)
1.一种连续镀膜溅镀系统，其特征在于，镀膜溅镀系统包括真空结构，真空结构的两端分别设有升降机，真空结构的下部连接有支架，真空结构内和支架的底部均设有输送装置；
真空结构包括依次连接的抽真空室A、抽真空室B、缓冲室A、镀膜溅膜工艺室、缓冲室B、抽真空室C和抽真空室D，镀膜溅膜工艺室包括依次连接的第一氧化物镀膜室、金属镀膜室、氮化物镀膜室、氮化物和氧化物的混合物镀膜室、第二氧化物镀膜室和第三氧化物镀膜室。
2.根据权利要求1所述的镀膜溅镀系统，其特征在于，输送装置优选为辊轴输送装置。
3.根据权利要求1所述的镀膜溅镀系统，其特征在于，所述第一氧化物镀膜室内设置有2组金属靶材，A1和A2；所述金属镀膜室内设置有1组金属靶材，B；所述氮化物镀膜室内设置有1组金属靶材，C；所述氮化物和氧化物的混合物镀膜室内设置有2组金属靶材，D和E；所述第二氧化物镀膜室内设置有2组金属靶材，H；所述第三氧化物镀膜室内设置有2组半导体靶材。
4.根据权利要求1-3任一项所述的镀膜溅镀系统，其特征在于，真空结构内的各室之间设有真空阀门，阀门包括阀门主体和互锁装置，阀门主体包括阀门框体、阀门气缸、连接轴、阀门主轴、弹性膜片式联轴器、阀板固定板和阀板，阀门气缸与连接轴连接，连接轴的另一端与弹性膜片式联轴器连接，弹性膜片式联轴器的另一端与阀门主轴连接，阀门主轴固定在阀门框体上，阀门主轴上连接有多个阀板固定板，阀板与阀板固定板固连；
互锁装置包括互锁气缸、延伸杆和导轮，互锁气缸位于阀门气缸的相对测，互锁气缸与延伸杆的连接，导轮设置于延伸杆上。
5.根据权利要求3所述的镀膜溅镀系统，其特征在于，阀门主轴上设有三个阀板固定板，第一阀板固定板、第二阀板固定板和第三阀板固定板。
6.根据权利要求5所述的镀膜溅镀系统，其特征在于，第一阀板固定板和第三阀板固定板位于阀门主轴的两端，第二阀板固定板位于阀门主轴的中间位置。
7.根据权利要求3所述的镀膜溅镀系统，其特征在于，阀门气缸的型号为CDA2B63TF-100Z。
8.根据权利要求3所述的镀膜溅镀系统，其特征在于，互锁气缸型号为CDQ2F63-35DZ。
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|---|---|---|---|---|
| CN109207966A (zh) * | 2018-10-23 | 2019-01-15 | 杭州海莱德智能科技有限公司 | 一种积木式平板pecvd镀膜系统 |
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