CN108417610A - 显示屏及其制作方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种显示屏及其制作方法、显示装置。一种显示屏，包括基板，所述基板的至少一个表面上设有高分子记忆层。当该基板在外力作用下产生形变，或者出现裂纹时，高分子记忆层可以自动恢复原来的形状，从而带动与其相连的基板恢复原来的形状，从而修复基板的形变及细微裂纹。

Description

显示屏及其制作方法、显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术，特别是涉及一种基板、显示屏及其制作方法、显示装置。

背景技术

显示屏是显示器内用于电致发光的器件。例如柔性显示屏，其发光原理一般是内置的OLED(Organic Light-Emitting Diode,有机发光二极管)在TFT(Thin FilmTransistor，薄膜晶体管)阵列的驱动下发光显示。

传统的柔性显示屏，通常采用在基板上形成TFT层，并在TFT层上形成OLED层的技术方案达到正常发光显示的目的。

申请人在实现传统技术的过程中发现：传统的柔性显示屏，在外力作用下发生形变后，容易产生裂纹，可能会导致屏体的显示不良。

发明内容

基于此，有必要针对现有技术中存在的柔性显示屏在外力作用下发生形变后，容易产生裂纹，可能会导致屏体的显示不良问题，提供一种显示屏及其制作方法、显示装置。

一种显示屏，包括：基板，所述基板的至少一个表面设有高分子记忆层；TFT层，设于所述基板或所述高分子记忆层上；显示层，设于所述TFT层上；封装层，设于所述TFT层及所述显示层上，所述封装层与所述TFT层将所述显示层与外界隔离。

上述显示屏，其基板上设有高分子记忆层，并在该基板上设有TFT层、显示层及封装层。高分子记忆层在产生形变后会恢复原来的形状。当该基板在外力作用下产生形变甚至裂纹时，高分子记忆层会带动基板进行形状恢复，从而修复基板上的细微裂纹。因此，当该显示屏在外力作用下产生形变及裂纹时，高分子记忆层可以自动恢复原来的形状，从而带动与其相连的基板及设于基板上的TFT层、显示层恢复原来的形状。因此，该显示屏可以自动修正其形变及细微裂纹，提升显示质量。

进一步，所述的显示屏，所述高分子记忆层为降冰片烯、聚氨酯树脂、聚乳酸和聚亚氨酯中的一种或多种。

进一步，所述的显示屏，所述基板的其中一个表面设有所述高分子记忆层时，所述TFT层设于所述基板或所述高分子记忆层上；所述基板的两个表面均设有所述高分子记忆层时，所述TFT层设于所述高分子记忆层上。

一种显示装置，包括：如上所述的显示屏；盖板，设置在所述显示屏的封装层一侧，用于封闭保护所述显示屏。

上述显示装置，采用了上述可以自行修正形变、修复裂纹的显示屏，从而可以提高其对外力的抵抗能力，提升其显示质量。

在一个实施例中，所述的显示装置，所述盖板的至少一个表面上设有高分子记忆层。

上述显示装置，其盖板的至少一个表面也设有高分子记忆层，从而提升了盖板对外力的抵抗能力，提升了显示装置的质量。

一种显示屏的制作方法，包括如下步骤：在基板的至少一个表面上形成高分子记忆层；在所述基板表面或所述高分子记忆层上形成TFT层；在所述TFT层上形成显示层；在所述TFT层及所述显示层上形成封装层，以使所述封装层与所述TFT层将所述显示层与外界隔离。

上述显示屏的制作方法，在基板的至少一个表面上形成有高分子记忆层。当使用该方法制作的显示屏在外力作用下产生形变、甚至出现裂纹时，高分子记忆层可以自动恢复原来的形状，从而带动基板及设于基板上的TFT层、显示层等恢复原来的形状。由此，该显示屏的制作方法可以修复显示屏上的细微裂纹，从而提高屏体强度，提升显示屏的显示质量。

进一步，所述显示屏的制作方法，所述高分子记忆层的形成方法包括旋涂、溅射、喷涂和丝网印刷中的一种或多种。

进一步，所述显示屏的制作方法，所述在基板的至少一个表面上形成高分子记忆层步骤之后，所述在所述基板或所述高分子记忆层上形成TFT层步骤之前，还包括如下步骤：对所述高分子记忆层进行固化处理。

进一步，所述显示屏的制作方法，所述固化处理的方式包括UV固化、胶联剂固化、自然固化的一种或多种。

进一步，所述显示屏的制作方法，所述在所述TFT层及所述显示层上形成封装层的步骤具体包括：在所述TFT层及所述显示层上形成第一无机层，以使所述第一无机层与所述TFT层将所述显示层与外界隔离；在所述第一无机层外形成有机层，以使所述有机层与所述TFT层将所述第一无机层与所述外界隔离；在所述有机层外形成第二无机层，以使所述第二无机层与所述TFT层将所述有机层与所述外界隔离。

上述显示屏、显示装置及显示屏的制作方法中，使用设有高分子记忆层的基板为显示屏的衬底基板，该高分子记忆层在产生形变后可以恢复原来的形状。因此，当使用该基板的显示屏及显示装置产生形变及细微裂纹时，高分子记忆层会带动基板，从而带动显示屏、显示装置恢复原来的形状，进而可以修复显示屏上的细微裂纹，提高显示屏的显示质量。

附图说明

图1为本申请一个实施例中基板的结构示意图。

图2为本申请另一个实施例中基板的结构示意图。

图3为本申请又一个实施例中基板的结构示意图。

图4为本申请一个实施例中显示屏的结构示意图。

图5为本申请另一个实施例中显示屏的结构示意图。

图6为本申请又一个实施例中显示屏的结构示意图。

图7为本申请又一个实施例中显示屏的结构示意图。

图8为本申请一个实施例中显示屏制作方法的工艺流程图。

图9为本申请一个实施例中显示屏制作方法中形成封装层的工艺流程图。

其中，各附图标号所代表的含义分别是：

10、显示屏； 100、基板；

110、高分子记忆层； 120、TFT层；

130、显示层； 140、封装层；

142、第一无机层； 144、有机层；

146、第二无机层。

具体实施方式

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进，因此本发明不受下面公开的具体实施例的限制。

传统的电子显示屏，在对显示屏进行切割开槽，或使用外力挤压显示屏时，显示屏可能在外力作用下形变甚至产生裂纹。该问题严重时可能会导致屏体显示不良，影响显示屏的显示质量。

针对上述显示屏在外力作用下可能会产生形变，甚至产生裂纹的情况，本申请提供一种用于显示屏的基板、显示屏及其制作方法，及使用该显示屏的显示装置。

一种基板，如图1、图2及图3所述，基板100的至少一个表面上设有高分子记忆层110。

具体的，基板100用于通过蒸镀或其他方式沉积显示电路及显示器件层，属于显示屏的衬底层。该基板100可以是柔性玻璃基板，也可以是普通的玻璃基板。

高分子记忆层110设于基板100的至少一个表面上。高分子记忆层110应当具有自动恢复原来形状的功能。

在图1中，高分子记忆层110设于基板100的上表面。在图2中，高分子记忆层110设于基板100的下表面。在图3中，基板100的上表面及下表面均设有高分子记忆层110。

上述基板100，在至少一个表面上设有高分子记忆层110。该高分子记忆层110具有自动恢复原来形状的功能。当该基板100在外力作用下产生形变，或者出现裂纹时，高分子记忆层110可以自动恢复原来的形状，从而带动与其相连的基板100恢复原来的形状，从而修复基板100的形变及细微裂纹。

需要注意的是，上述自动恢复原来的形状的高分子记忆层，并不仅仅指能够在自然条件下恢复原来形状的材料，也包括在一定外界条件下可以恢复原来形状的材料。例如一种高分子记忆层，当其温度上升为30℃时具备恢复原来的形状的功能，此时，该温度并不影响玻璃基板的正常使用，而在该温度下，即可实现修复基板形变及细微裂纹的功能。因此，是否需要外界条件才能具备恢复原来形状的材料，并不对本申请的高分子记忆层作出限定。

如图4所示，本申请还提供一种显示屏10，包括：基板100、TFT层120、显示层130、封装层140。

具体的，基板100用于通过气相沉积、溅镀或其他方式沉积TFT层120，为显示屏10的衬底层。基板100的至少一个表面上设有高分子记忆层110。高分子记忆层110具有自动恢复原来形状的功能。

TFT层120设于基板100或高分子记忆层110上，用于驱动显示层130发光。TFT层120的材料可以是非晶硅、单晶硅、锡氧化铟的一种或多种。当基板100的上下表面均设有高分子记忆层110时，TFT层120设于高分子记忆层110上。当基板100的下表面设有高分子记忆层110时，TFT层120设于基板100的上表面上。当基板100的上表面设有高分子记忆层110时，TFT层120设于高分子记忆层110上。

显示层130设于TFT层120上，受TFT层120驱动。当TFT层120驱动显示层130时，显示层130发光。

封装层140设于TFT层120及显示层130上，封装层140及TFT层120将显示层130与外界隔离，从而达到显示层130的封装效果。

更具体的，本实施例中的显示屏10，包括：基板100，基板100的至少一面上设有高分子记忆层110。在基板100上或高分子记忆层110上设有用于驱动显示层130的TFT层120，且显示层130设于TFT层120上。在TFT层120上及显示层130上，设有封装层140。封装层140将显示层130与外界隔离，以避免外界的空气或水分子进入显示层130，从而破坏显示层130的正常工作。

上述显示屏10，采用上述设有高分子记忆层110的基板100，并在该基板100上设有TFT层120、显示层130及封装层140。当该显示屏10在外力作用下产生形变及裂纹时，高分子记忆层110可以自动恢复原来的形状，从而带动与其相连的基板100及设于基板100上的TFT层120、显示层130恢复原来的形状。因此，该显示屏10可以自动修正其形变及细微裂纹，提升显示质量。

在一个实施例中，本申请的显示屏中的基板，其高分子记忆层的材料可以是降冰片烯、聚氨酯树脂、聚乳酸和聚亚氨酯中的一种或多种。

需要理解的是，本实施例中难以列举所有高分子记忆层的材料。因此，当某一材料在自然条件下、或在一定条件下能实现自动恢复原来形状的功能，即应理解为在本实施例的保护范围之中。

在一个实施例中，如图4所示，当基板100的上下表面均设有高分子记忆层110时，TFT层120设于高分子记忆层110上。如图5所示，当基板100的下表面设有高分子记忆层110时，TFT层120设于基板100的上表面上。如图6所示，当基板100的上表面设有高分子记忆层110时，TFT层120设于高分子记忆层110上。

在一个实施例中，上述显示屏，其显示层具体可以是OLED层。OLED层可以包括阳极金属层、有机层、阴极金属层。在该实施例中，阳极金属层设于TFT层上，有机层设于阳极金属层上，阴极金属层设于有机层上。当TFT层驱动OLED层时，阳极金属层与阴极金属层之间电子移动，产生电流，从而使有机层发光。封装层设于TFT层及OLED层上，以使OLED层与外界隔离。

上述显示屏，其显示层采用OLED作为发光显示器件。OLED层外还设有封装层，该封装层的设置可以使构成OLED层的有机层、阴极金属层不被空气中的水氧分子氧化，从而影响OLED层的正常工作，破坏显示屏的显示质量。

在一个实施例中，如图5所示，上述显示屏，包括基板100、设于基板100上表面及下表面的高分子记忆层110、设于基板100上表面的高分子记忆层110上的TFT层120、设于TFT层120上的显示层130、设于TFT层120及显示层130上的封装层。该封装层用于使显示层130与外界相隔离。

其中，封装层140包括：第一无机层142、有机层144、第二无机层146。

具体的，第一无机层142设于TFT层120及显示层130上，以使显示层130在第一无机层142及TFT层120作用下与外界隔离。

有机层144设于第一无机层142及TFT层120上，以使第一无机层142在有机层144与TFT层120作用下与外界隔离。

第二无机层146设于有机层144及TFT层120上，以使有机层144在第二无机层146与TFT层120作用下与外界隔离。

第一无机层142、有机层144、第二无机层146在TFT层120及显示层130上可以以梯形的形状分布，从而使显示层130尽可能受到封装层140保护的同时，提升封装层140的稳定性。

上述显示屏10，采用有机与无机层叠加封装的封装技术，尽可能的保障OLED层不与外界空气中的水氧分子接触，从而延长显示屏10的寿命，提升其显示质量。

本申请还提供一种显示装置，包括：显示屏、盖板。

显示屏为上述任意一个实施例中所述的显示屏，即该显示屏所采用的基板至少一个表面上设有高分子记忆层。

盖板设置在显示屏的封装层一侧，用于封闭保护显示屏。

上述显示装置，采用了上述可以自行修正形变、修复裂纹的显示屏，从而可以提高其对外力的抵抗能力，提升其显示质量。

在一个实施例中，上述显示装置中，盖板的至少一个表面上设有高分子记忆层。

具体的，上述显示装置，包括显示屏及盖板。盖板用于封闭保护显示屏。显示屏的基板的至少一个表面上设有高分子记忆层，且盖板的至少一个表面上也设有高分子记忆层。

上述显示装置，其盖板的至少一个表面也设有高分子记忆层，从而提升了盖板对外力的抵抗能力，提升了显示装置的质量。

本申请还提供一种显示屏的制作方法，如图6所示，包括如下步骤：

S100，在基板的至少一个表面上形成高分子记忆层。

在基板的一个表面上形成高分子记忆层，或在基板的上表面及下表面上均形成高分子记忆层。该高分子记忆层在自然条件下、或其他特定条件下，应当具备自动恢复原来形状的功能。形成高分子记忆层的方法包括旋涂、溅射、喷涂及丝网印刷的一种或多种。该高分子记忆层的材料可以是降冰片烯、聚酯胺树脂、聚乳酸和聚亚氨酯的一种或多种。

S200，在基板表面或高分子记忆层上形成TFT层。

若基板两表面均设有高分子记忆层，则在其中一表面上的高分子记忆层上形成TFT层。若基板仅一个表面设有高分子记忆层，则TFT层可以设于基板的另一个表面上，也可以设于高分子记忆层上。形成TFT层的方法包括气相沉积、溅镀等的一种或多种。

S300，在TFT层上形成显示层。

在TFT层上形成显示层，TFT层用于驱动显示层发光，显示层用于发光。显示层包括OLED层或其他可发光器件层。显示层的形成方法包括真空蒸镀、喷墨印刷等的一种或多种。

S400，在TFT层及显示层上形成封装层，以使封装层与TFT层将显示层与外界隔离。

在TFT层及显示层上形成封装层，以使封装层与TFT层将显示层与外界隔离。封装层用于隔绝外界空气、水分子等与显示层接触并破坏显示层。封装层的形成方法包括气相沉积、喷墨印刷等的一种或多种。

上述显示屏的制作方法，在基板的至少一个表面上形成有高分子记忆层,然后利用该基板制备显示屏。当使用该方法制作的显示屏在外力作用下产生形变、甚至出现裂纹时，高分子记忆层可以自动恢复原来的形状，从而带动基板及设于基板上的TFT层、显示层等恢复原来的形状。由此，该显示屏的制作方法可以修复显示屏上的细微裂纹，从而提高屏体强度，提升显示屏的显示质量。

在一个实施例中，上述显示屏的制作方法，在步骤S100在基板的至少一个表面上行成高分子记忆层之后，在步骤S200在基板表面或高分子记忆层上形成TFT层之前，还包括如下步骤：

S101，对高分子记忆层进行固化处理。

即在基板的至少一个表面上形成高分子记忆层后，还应该对高分子记忆层进行固化处理。不同的高分子记忆层对应不同的固化处理方式，一般的，固化处理的方法包括UV固化、胶联剂固化、自然固化的一种或多种。

应当理解的是，步骤S101对高分子记忆层进行固化处理是为了进行下一步工艺，即步骤S200，在基板表面或高分子记忆层上形成TFT层。因此，当高分子记忆层设于基板一个表面，TFT层设于基板另一个表面时，步骤S101在本申请的显示屏的制作方法中并不是必须的。步骤S101也不必一定在步骤S200之前。

在一个实施例中，如图7所示，本申请的显示屏的制作方法，其中，形成封装层的方法具体可以为：

S410，在TFT层及显示层上形成第一无机层，以使第一无机层与TFT层将显示层与外界隔离。

在TFT层上形成显示层后，在TFT层及显示层上形成第一无机层。第一无机层自上方将显示层覆盖。从而，第一无机层与TFT层将显示层与外界隔离。

S420，在第一无机层外形成有机层，以使有机层与TFT层将第一无机层与外界隔离。

形成第一无机层后，在第一无机层外形成有机层。有机层自上方将第一无机层覆盖。从而，该有机层与TFT层将第一无机层与外界隔离。

S430，在有机层外形成第二无机层，以使第二无机层与TFT层将有机层与外界隔离。

形成有机层后，在有机层外形成第二无机层。第二无机层自上方将有机层覆盖。从而，该第二无机层与TFT层将有机层与外界隔离。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种显示屏，其特征在于，包括：

基板，所述基板的至少一个表面设有高分子记忆层；

TFT层，设于所述基板或所述高分子记忆层上；

显示层，设于所述TFT层上；

封装层，设于所述TFT层及所述显示层上，所述封装层与所述TFT层将所述显示层与外界隔离。

2.根据权利要求1所述的显示屏，其特征在于，所述高分子记忆层为降冰片烯、聚氨酯树脂、聚乳酸和聚亚氨酯中的一种或多种。

3.根据权利要求1所述的显示屏，其特征在于，所述基板的其中一个表面设有所述高分子记忆层时，所述TFT层设于所述基板或所述高分子记忆层上；所述基板的两个表面均设有所述高分子记忆层时，所述TFT层设于所述高分子记忆层上。

4.一种显示装置，其特征在于，包括：

如权利要求1-3任一项所述的显示屏；

盖板，设置在所述显示屏的封装层一侧，用于封闭保护所述显示屏。

5.根据权利要求4所述的显示装置，其特征在于，所述盖板的至少一个表面上设有高分子记忆层。

6.一种显示屏的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：

在基板的至少一个表面上形成高分子记忆层；

在所述基板表面或所述高分子记忆层上形成TFT层；

在所述TFT层上形成显示层；

在所述TFT层及所述显示层上形成封装层，以使所述封装层与所述TFT层将所述显示层与外界隔离。

7.根据权利要求6所述的显示屏的制作方法，其特征在于，所述高分子记忆层的形成方法包括旋涂、溅射、喷涂和丝网印刷中的一种或多种。

8.根据权利要求6所述的显示屏的制作方法，其特征在于，所述在基板的至少一个表面上形成高分子记忆层步骤之后，所述在所述基板或所述高分子记忆层上形成TFT层步骤之前，还包括如下步骤：

对所述高分子记忆层进行固化处理。

9.根据权利要求8所述的显示屏的制作方法，其特征在于，所述固化处理的方式包括UV固化、胶联剂固化、自然固化中的一种或多种。

10.根据权利要求6所述的显示屏的制作方法，其特征在于，所述在所述TFT层及所述显示层上形成封装层的步骤具体包括：

在所述TFT层及所述显示层上形成第一无机层，以使所述第一无机层与所述TFT层将所述显示层与外界隔离；

在所述第一无机层外形成有机层，以使所述有机层与所述TFT层将所述第一无机层与所述外界隔离；

在所述有机层外形成第二无机层，以使所述第二无机层与所述TFT层将所述有机层与所述外界隔离。