CN108376663A - 一种rena制绒设备多出口式均匀排液装置 - Google Patents
一种rena制绒设备多出口式均匀排液装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN108376663A CN108376663A CN201810376290.8A CN201810376290A CN108376663A CN 108376663 A CN108376663 A CN 108376663A CN 201810376290 A CN201810376290 A CN 201810376290A CN 108376663 A CN108376663 A CN 108376663A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- fixed
- water service
- baffle
- texturing slot
- service pipe
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 241000084978 Rena Species 0.000 title claims abstract description 16
- 238000005530 etching Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 238000005086 pumping Methods 0.000 title claims abstract description 13
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 59
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 24
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims abstract description 12
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 claims description 14
- 235000008216 herbs Nutrition 0.000 claims description 13
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 6
- 238000009941 weaving Methods 0.000 abstract description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 208000020442 loss of weight Diseases 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67063—Apparatus for fluid treatment for etching
- H01L21/67075—Apparatus for fluid treatment for etching for wet etching
- H01L21/67086—Apparatus for fluid treatment for etching for wet etching with the semiconductor substrates being dipped in baths or vessels
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B33/00—After-treatment of single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure
- C30B33/08—Etching
- C30B33/10—Etching in solutions or melts
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/0236—Special surface textures
- H01L31/02363—Special surface textures of the semiconductor body itself, e.g. textured active layers
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Weting (AREA)
- Mixers Of The Rotary Stirring Type (AREA)
Abstract
本发明公开了一种RENA制绒设备多出口式均匀排液装置，包括制绒槽，所述制绒槽内腔中部设置有转轴，所述转轴上固定有搅拌叶，所述搅拌叶远离转轴一端固定有拨动块；所述制绒槽内设置有若干通水管，所述通水管固定于制绒槽内侧壁上，所述通水管与制绒槽连接处开设有出水口，所述通水管远离出水口一端活动连接有挡板；所述挡板与拨动块活动连接。本发明通过搅拌叶对制绒槽内部液体进行搅拌的同时，还可以间隔均匀的打开通水管，实现排液，而且多个通水管的设置，使得排液效果更加均匀，降低对制绒机内部制绒液的混合效果的影响，十分值得推广。
Description
技术领域
本发明涉及硅片制绒技术领域，具体为一种RENA制绒设备多出口式均匀排液装置。
背景技术
硅片在切割过程中会在表面形成大约10μm厚的损伤层，这一层与硅片基体的性质不同，会严重影响太阳能电池的性能。清洗工序制绒工艺就是利用硅片的这一层损伤层，通过硝酸对其氧化制绒，形成高低不平的表面，大大增加电池片表面的受光面积，减少反射，从而提高太阳能电池的转换效率。在多晶制绒时，需要控制硅片的减薄量，尤其是需要控制硅片整面膜的减薄均匀性。
目前RENA制绒机台存在设计上的缺陷，制绒槽的进液方式存在缺陷，进液集中在整个槽体的一端，导致制绒机台道与道之间腐蚀程度存在差异，最终导致每道之间减重差异较大，且液体循环均匀性较差，得到的绒面均匀性、稳定性差，进而导致镀膜岗位的返工片和色差片等不良片的比率大大增加。
为了解决上述缺陷，现有技术中，申请号为“201420221775.7”的一种改进的多晶制绒RENA机，其改进了制绒机的进液方式，使得进液方式变更为更为均匀的进液方式，产生了更为均匀的腐蚀液混合效果，降低制绒机各道之间的减重差异，最终提高企业利润。
虽然进液方式得到了改善，变得更加均匀，但是进液和排液都是需要制绒机需要考虑的问题，当进液方式变得均匀后，其出液方式扔采用制绒槽侧壁上开设的溢流口进行排液，使得排液时，只会将靠近溢流口处的制绒液进行排出，也就无法保证排液时的排液均匀性，从而也会影响制绒机内部的制绒液的混合效果。
发明内容
本发明的目的在于提供一种RENA制绒设备多出口式均匀排液装置，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：
一种RENA制绒设备多出口式均匀排液装置，包括制绒槽，所述制绒槽内腔中部设置有转轴，所述转轴上固定有搅拌叶，所述搅拌叶远离转轴一端固定有拨动块；
所述制绒槽内设置有若干通水管，所述通水管固定于制绒槽内侧壁上，所述通水管与制绒槽连接处开设有出水口，所述通水管远离出水口一端活动连接有挡板；
所述挡板与拨动块活动连接。
优选的，所述通水管对称的固定于制绒槽的四个内侧壁上。
优选的，所述挡板活动插设于挡板孔中，所述挡板孔中设置有复位弹簧，所述复位弹簧连接于挡板上，所述挡板孔开设于安装块中，且所述安装块固定于制绒槽侧壁上。
优选的，所述安装块上开设有限位孔，所述限位孔中活动插设有限位杆，所述限位杆固定有连杆，所述连杆远离限位杆一端固定于挡板上，所述限位孔内设置有辅助弹簧，所述辅助弹簧连接于限位杆上。
优选的，所述通水管中固定有液流盘，所述液流盘中开设有通孔。
优选的，所述转轴固定于电机上，所述电机固定于横杆上，所述横杆两端通过固定杆固定于制绒槽侧壁上。
优选的，所述搅拌叶中开设有通水孔，所述通水孔一侧侧壁开设有吸水孔，所述拨动块中对应通水孔开设有出液孔。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：
本发明通过搅拌叶的搅拌功能，对制绒槽内部的制绒液进行均匀搅拌，使得制绒液的浓度分布更加均匀，排液时通过通水管将制绒液排出，通水管的管口通过挡板挡住，当转轴工作时，带动拨动块进行转动，当拨动块触碰到挡板时，将挡板向一侧推动，使得通水管的管口不再被挡板挡住，制绒液进入通水管并且从出水口流出，实现制绒槽内部液体的均匀排液功能。
本发明通过搅拌叶对制绒槽内部液体进行搅拌的同时，还可以间隔均匀的打开通水管，实现排液，而且多个通水管的设置，使得排液效果更加均匀，降低对制绒机内部制绒液的混合效果的影响，十分值得推广。
附图说明
图1为本发明的整体结构示意图；
图2为本发明的制绒槽内部结构俯视示意图；
图3为本发明的A区结构放大示意图；
图4为本发明的搅拌叶与拨动块连接结构示意图。
图中：1制绒槽、2转轴、3搅拌叶、31通水孔、32吸水孔、4拨动块、41出液孔、5通水管、6出水口、7挡板、8挡板孔、9复位弹簧、10安装块、11连杆、12限位杆、13限位孔、14辅助弹簧、15液流盘、16通孔、17电机、18横杆、19固定杆。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
请参阅图1-4，本发明提供一种技术方案：
一种RENA制绒设备多出口式均匀排液装置，包括制绒槽1，制绒槽1用来对硅片进行制绒，制绒槽1内腔中部设置有转轴2，转轴2固定于电机17上，电机17通过外部电源带动，电机17固定于横杆18上，横杆18两端通过固定杆19固定于制绒槽1侧壁上，转轴2通过电机17进行带动，使得转轴2可以在制绒槽1内腔中进行转动，转轴2上固定有搅拌叶3，转轴2在转动时，带动搅拌叶3对制绒槽1内腔的液体进行搅动，使得液体浓度分布更加均匀，搅拌叶3远离转轴2一端固定有拨动块4，拨动块4跟随搅拌叶3一起转动，用来控制通水管5的开启与闭合。
制绒槽1内设置有若干通水管5，通水管5用来实现排液功能，通水管5设置有四个，而且通水管5对称的固定于制绒槽1的四个内侧壁上，可以针对制绒槽1内腔的四个不同方位进行排液，非常方便，通水管5固定于制绒槽1内侧壁上，通水管5与制绒槽1连接处开设有出水口6，通水管5内的液体通过出水口6排出，通水管5远离出水口6一端活动连接有挡板7，挡板7与拨动块4活动连接，拨动块4随着搅拌叶3一起转动，当拨动块4在转动至挡板7位置时，会推动挡板7进行移动，而挡板7用来挡住通水管5，当挡板7挡住通水管5时，出水管5无法进行排液，当挡板7被拨动块4转动时所推开，则通水管5开通，实现排液功能，挡板7活动插设于挡板孔8中，挡板孔8中设置有复位弹簧9，复位弹簧9连接于挡板7上，挡板孔8开设于安装块10中，且安装块10固定于制绒槽1侧壁上，挡板7在被推开后，可以通过复位弹簧9的功能，进行复位，拨动块4在转动过程中离开当前位置的挡板7后，挡板7复位，重新挡住通水管5，停止该通水管5的排液。
转轴2在转动过程中，带动拨动块4绕着转轴2进行圆周转动，从而使得拨动块4依次推动四个挡板7，依次打开通水管5进行排液，排液速率可以通过转轴2的转速控制进行调整。
作为一个优选，为了使得挡板7在遮挡通水管5时可以移动的更加平稳，在安装块10上开设有限位孔13，限位孔13中活动插设有限位杆12，限位杆12固定有连杆11，连杆11远离限位杆12一端固定于挡板7上，限位孔13内设置有辅助弹簧14，辅助弹簧14连接于限位杆12上，使得挡板7在移动时，带动限位杆12在限位孔13内进行运动，可以有效的防止挡板7在运动过程中发生偏移，避免对通水管5的遮挡功能失效。
作为一个优选，通水管5中固定有液流盘15，液流盘15中开设有通孔16，可以通过对通孔16的尺寸设置，来调控通水管5在排液时的流量大小，非常方便。
作为一个优选，为了防止拨动块4在推动挡板7时，拨动块4也会遮挡通水管5的情况，在搅拌叶3中开设有通水孔31，通水孔31一侧侧壁开设有吸水孔32，拨动块4中对应通水孔31开设有出液孔41，使得拨动块4在推动挡板7时，吸水孔32会吸进去制绒液体，并且从通水孔31进入到出液孔41内，可以在拨动块4遮挡住通水管5时，也可以实时的进行排液。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (7)
1.一种RENA制绒设备多出口式均匀排液装置，包括制绒槽(1)，其特征在于：所述制绒槽(1)内腔中部设置有转轴(2)，所述转轴(2)上固定有搅拌叶(3)，所述搅拌叶(3)远离转轴(2)一端固定有拨动块(4)；
所述制绒槽(1)内设置有若干通水管(5)，所述通水管(5)固定于制绒槽(1)内侧壁上，所述通水管(5)与制绒槽(1)连接处开设有出水口(6)，所述通水管(5)远离出水口(6)一端活动连接有挡板(7)；
所述挡板(7)与拨动块(4)活动连接。
2.根据权利要求1所述的一种RENA制绒设备多出口式均匀排液装置，其特征在于：所述通水管(5)对称的固定于制绒槽(1)的四个内侧壁上。
3.根据权利要求1所述的一种RENA制绒设备多出口式均匀排液装置，其特征在于：所述挡板(7)活动插设于挡板孔(8)中，所述挡板孔(8)中设置有复位弹簧(9)，所述复位弹簧(9)连接于挡板(7)上，所述挡板孔(8)开设于安装块(10)中，且所述安装块(10)固定于制绒槽(1)侧壁上。
4.根据权利要求3所述的一种RENA制绒设备多出口式均匀排液装置，其特征在于：所述安装块(10)上开设有限位孔(13)，所述限位孔(13)中活动插设有限位杆(12)，所述限位杆(12)固定有连杆(11)，所述连杆(11)远离限位杆(12)一端固定于挡板(7)上，所述限位孔(13)内设置有辅助弹簧(14)，所述辅助弹簧(14)连接于限位杆(12)上。
5.根据权利要求1所述的一种RENA制绒设备多出口式均匀排液装置，其特征在于：所述通水管(5)中固定有液流盘(15)，所述液流盘(15)中开设有通孔(16)。
6.根据权利要求1所述的一种RENA制绒设备多出口式均匀排液装置，其特征在于：所述转轴(2)固定于电机(17)上，所述电机(17)固定于横杆(18)上，所述横杆(18)两端通过固定杆(19)固定于制绒槽(1)侧壁上。
7.根据权利要求1所述的一种RENA制绒设备多出口式均匀排液装置，其特征在于：所述搅拌叶(3)中开设有通水孔(31)，所述通水孔(31)一侧侧壁开设有吸水孔(32)，所述拨动块(4)中对应通水孔(31)开设有出液孔(41)。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201810376290.8A CN108376663B (zh) | 2018-04-25 | 2018-04-25 | 一种rena制绒设备多出口式均匀排液装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201810376290.8A CN108376663B (zh) | 2018-04-25 | 2018-04-25 | 一种rena制绒设备多出口式均匀排液装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN108376663A true CN108376663A (zh) | 2018-08-07 |
| CN108376663B CN108376663B (zh) | 2023-07-25 |
Family
ID=63032781
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201810376290.8A Active CN108376663B (zh) | 2018-04-25 | 2018-04-25 | 一种rena制绒设备多出口式均匀排液装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN108376663B (zh) |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104538503A (zh) * | 2015-01-19 | 2015-04-22 | 常州捷佳创精密机械有限公司 | 太阳能硅片的淋浴式湿法制绒设备及方法 |
| CN206104424U (zh) * | 2016-10-10 | 2017-04-19 | 赵俊星 | 一种无震动型实验用玻璃板清洗装置 |
| CN206422082U (zh) * | 2016-12-15 | 2017-08-18 | 苏州库睿斯自动化设备有限公司 | 一种腐蚀量均匀改进的制绒设备 |
| CN206441756U (zh) * | 2017-02-16 | 2017-08-25 | 温州隆润科技有限公司 | 一种太阳能硅片清洗制绒装置 |
| CN207993831U (zh) * | 2018-04-25 | 2018-10-19 | 通威太阳能（安徽）有限公司 | 一种rena制绒设备多出口式均匀排液装置 |
-
2018
- 2018-04-25 CN CN201810376290.8A patent/CN108376663B/zh active Active
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104538503A (zh) * | 2015-01-19 | 2015-04-22 | 常州捷佳创精密机械有限公司 | 太阳能硅片的淋浴式湿法制绒设备及方法 |
| CN206104424U (zh) * | 2016-10-10 | 2017-04-19 | 赵俊星 | 一种无震动型实验用玻璃板清洗装置 |
| CN206422082U (zh) * | 2016-12-15 | 2017-08-18 | 苏州库睿斯自动化设备有限公司 | 一种腐蚀量均匀改进的制绒设备 |
| CN206441756U (zh) * | 2017-02-16 | 2017-08-25 | 温州隆润科技有限公司 | 一种太阳能硅片清洗制绒装置 |
| CN207993831U (zh) * | 2018-04-25 | 2018-10-19 | 通威太阳能（安徽）有限公司 | 一种rena制绒设备多出口式均匀排液装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN108376663B (zh) | 2023-07-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN207993831U (zh) | 一种rena制绒设备多出口式均匀排液装置 | |
| CN108580474A (zh) | 一种换热器快速清洗装置及清洗方法 | |
| CN108376663A (zh) | 一种rena制绒设备多出口式均匀排液装置 | |
| CN207596527U (zh) | 一种用于废水处理的沉淀装置 | |
| CN208664210U (zh) | 一种连续供浆装置 | |
| CN208104553U (zh) | 一种低温多效海水淡化装置的化学清洗装置 | |
| CN213327072U (zh) | 一种园林景观用水循环处理装置 | |
| CN107601637A (zh) | 一种用于废水处理的沉淀装置 | |
| CN114083441A (zh) | 一种磨片机砂浆桶及操作方法 | |
| CN212640098U (zh) | 全自动重力式溶氧精滤器 | |
| CN218332288U (zh) | 一种具有过滤装置的显影药水配槽 | |
| CN206821925U (zh) | 一种枸杞鲜果清洗脱蜡装置 | |
| CN106282008A (zh) | 多功能干发酵库 | |
| CN208542098U (zh) | 一种防止箱体罐体沉淀的装置 | |
| CN211451527U (zh) | 一种高效冷却池 | |
| CN213885760U (zh) | 一种建筑涂料搅拌装置 | |
| CN218608739U (zh) | 一种具有纳米吸收技术的吸收塔 | |
| CN209303288U (zh) | 冲洗系统 | |
| CN218709349U (zh) | 用于水厂汽水分离装置 | |
| CN108314276A (zh) | 一种污水处理设备 | |
| CN107182893A (zh) | 一种循环水养殖系统间歇式回水装置及其回水工艺 | |
| CN214862795U (zh) | 一种铜制程用剥离液的高效制备装置 | |
| CN216295816U (zh) | 一种试剂均匀分散组件 | |
| CN219474414U (zh) | 一种清洗酐类精馏换热器的系统 | |
| CN211636147U (zh) | 化学制备用练漂剂混合设备 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |