CN108242461A - 显示设备 - Google Patents

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Abstract

本申请涉及一种显示设备，该显示设备，包括：显示面板和窗口衬底，其中，显示面板配置为通过它的前表面显示图像；窗口衬底设置在显示面板的前表面上。窗口衬底包括至少两片基衬底。显示设备还可包括紫外线阻挡层。紫外线阻挡层可设置在至少两个基衬底之间。

Description

显示设备
相关申请的交叉引用
本申请要求于2016年12月26日提交至韩国知识产权局的第10-2016-0179453号韩国专利申请的优先权，该韩国专利申请的全部内容通过引用整体地并入本文。
技术领域
本发明的示例性实施方式涉及一种显示设备。
背景技术
有机发光显示设备是一种自发射显示设备。例如，当与非发射显示设备相比时，有机发光显示设备可具有相对宽的视角、相对高的对比度以及相对高的响应速率。
有机发光显示设备可包括多个金属图案或金属层。有机发光显示设备可反射外部光。偏光板可包括在有机发光显示设备中，以减小或防止外部光的反射。
偏光板可包括偏光器和相位延迟板。偏光板可减小或防止外部光的反射。然而，从有机发光显示设备内侧发射的光的透射率可能发生降低。
发明内容
本公开的示例性实施方式提供了一种显示设备。显示设备包括显示面板、窗口衬底和紫外线阻挡层。显示面板配置为通过它的前表面显示图像。窗口衬底设置在显示面板的前表面上。窗口衬底包括至少两片基衬底。紫外线阻挡层设置在至少两个基衬底之间。
在小于大约350nm的波长带中，紫外线阻挡层可具有大约10％或更小的透射率。
在小于大约400nm的波长带中，紫外线阻挡层可具有大约1％或更小的透射率。
至少两个基衬底可包括具有第一厚度的第一玻璃衬底和具有第二厚度的第二玻璃衬底。第一厚度和第二厚度中的每一个可以是大约20μm至大约100μm。紫外线阻挡层的厚度可以是大约10μm至大约100μm。
当窗口衬底弯曲时第一玻璃衬底设置在显示设备的外侧处并且第二玻璃衬底设置在显示设备的内侧处，以及，第一厚度可小于第二厚度。
紫外线阻挡层的厚度是大约10μm至大约100μm。
紫外线阻挡层可包括光学透明粘合物。
基衬底的数量可以是至少三个。
显示面板可包括：阵列衬底；设置在阵列衬底上的有机发光二极管；以及设置在有机发光二极管上的防反射层。
防反射层可包括颜色过滤器和黑矩阵。
有机发光二极管可包括：设置在阵列衬底上的第一电极；设置在第一电极上的有机发射层；以及设置在有机发射层上的第二电极。
第二电极可在与有机发射层对应的区域中包括半透射反射层。第二电极可在其它区域中包括反射层。
第二电极可在与有机发射层对应的区域和其它区域中具有不同的厚度。
基衬底中的至少一个可被化学钢化。
窗口衬底可具有抗冲击特性使得当大约5.8g的笔在第一高度处竖直地落到窗口衬底的一个表面上时窗口衬底不被损坏，并且第一高度可以是大约7cm或更大。
窗口衬底的至少一部分和显示面板可以是柔性的。
显示设备还可包括缓冲层。缓冲层可设置在显示面板的后表面上。缓冲层可配置为吸收施加到窗口衬底和显示面板的冲击。
显示设备还可包括支撑构件。支撑构件可设置在显示面板和缓冲层之间。支撑构件可包括金属膜。
显示设备还可包括粘合层。粘合层可设置在窗口衬底和显示面板之间。
附图说明
结合附图，根据示例性实施方式的以下描述，这些和/或其它方面将变得明显和更易于理解，在附图中：
图1是示出根据本发明的示例性实施方式的显示设备的立体图；
图2A是根据本发明的示例性实施方式的沿图1的线I-I'截取的剖视图；
图2B是根据本发明的示例性实施方式的图1的可折叠显示设备的剖视图；
图3A是示出根据本发明的示例性实施方式的图1的像素的俯视图；
图3B是根据本发明的示例性实施方式的沿图3A的线II-II'截取的剖视图；
图4是示出根据本发明的示例性实施方式的包括三个像素的显示设备的剖视图；
图5A是示出根据对比示例的窗口衬底和根据本发明的示例性实施方式的窗口衬底的抗冲击特性的图；
图5B是示出根据对比示例的窗口衬底和根据本发明的示例性实施方式的窗口衬底的斥力的图；
图6是根据本发明的示例性实施方式的沿图3A的线II-II'截取的剖视图；以及
图7至图9是示出根据本发明的示例性实施方式的显示设备的剖视图。
具体实施方式
下文将参照附图更详细地描述本发明的示例性实施方式。就这一点而言，示例性实施方式可具有不同的形式，并且不应解释为限于本文所描述的本发明的示例性实施方式。
贯穿说明书和附图，相同的参考标记可表示相同的元件。
将理解，尽管本文可使用术语“第一”和“第二”描述各种组件，但是这些组件不应受这些术语限制。
为了描述的清楚，可能放大附图中元件的尺寸。
将理解，当组件(诸如，层、薄膜、区域或板)被称为在另一组件上时，所述组件可直接地在所述另一组件上，或者可存在介于中间的组件。
在下文中，将参考附图详细描述本发明的示例性实施方式。
图1是示出根据本发明的示例性实施方式的显示设备的立体图。图2A是根据本发明的示例性实施方式的沿图1的线I-I'截取的剖视图。图2B是根据本发明的示例性实施方式的图1的可折叠显示设备的剖视图。
参照图1、图2A和图2B，显示设备可以是可折叠显示设备或可弯曲显示设备。
显示设备可具有各种形状，例如，显示设备可具有矩形板形状，所述矩形板形状具有两对大致平行的侧边。当显示设备具有矩形板形状时，两对侧边中的任意一对侧边可设置为长于另一对侧边。本文描述的本发明的示例性实施方式可包括具有矩形形状的显示设备。矩形形状的相对长的边的延伸方向可以是第一方向D1。矩形形状的相对短的边的延伸方向可以是第二方向D2。与矩形形状的相对长的边和相对短的边的延伸方向大致垂直的方向可以是第三方向D3。
然而，显示设备的形状不限于此，并且显示设备可具有各种形状。例如，显示区域DA可设置为各种形状，诸如，具有封闭形状的包括大致的直边的多边形、包括曲边的圆和椭圆以及包括由直线和曲线形成的边的半圆和半椭圆。根据本发明的示例性实施方式，当显示设备具有大致的直边时，具有二次曲线(conic)形状的转角的至少一部分可具有曲线。例如，当显示设备具有矩形形状时，其中相邻的大致的直边相交的部分可替换为具有预定曲率的曲线。换言之，在矩形形状的顶点部分中，两个相邻的端部可连接至两个相邻的大致的直边，并且由具有预定曲率的曲边形成。所述曲率可根据曲线的位置(例如，起始位置)、曲线的长度等不同地设定。
显示设备的至少一部分可具有柔性。显示设备可在具有柔性的部分中折叠。显示设备可包括可折叠区域和相对的刚性区域。可折叠区域可具有柔性并且可以是可折叠的。展开区域可设置在所述可折叠区域的至少一侧并且处于展开状态。
展开区域可称作刚性区域。术语“刚性”可包括具有柔性但是具有比可折叠区域的柔性小的柔性的区域。术语“刚性”也可表示具有柔性但是展开的区域。术语“刚性”也可表示大致不具有柔性并且是相对刚性的区域。
根据本发明的示例性实施方式，整个显示设备均可与可折叠区域对应。例如，当显示设备完全卷曲时，整个显示设备均可与可折叠区域对应。
根据本发明的示例性实施方式，第一刚性区域RA1、可折叠区域FA和第二刚性区域RA2可顺序地设置在第一方向D1上。可折叠区域FA可在第二方向D2上延伸。
显示设备可沿着中心线折叠，该中心线可称作弯折线FL；然而，本发明的示例性实施方式不限于此。弯折线FL的数量可以是两个或更多。弯折线FL可设置在可折叠区域FA内。根据本发明的示例性实施方式，弯折线FL可穿过可折叠区域FA的中心。可折叠区域FA可例如基于所公开的弯折线FL是轴对称的；然而，本发明的示例性实施方式不限于此。例如，弯折线FL可不对称地设置在可折叠区域FA内。可折叠区域FA和设置在可折叠区域FA中的弯折线FL可与显示面板DP的区域重叠。显示面板DP可显示图像。当显示设备折叠时，显示设备的显示图像的部分可折叠。
术语“折叠”可表示形式是不固定的，而是可变形的，例如从原始形式到另一形式。术语“折叠”可包括显示设备沿着一个或多个特定的线(例如，弯折线FL)折叠、弯曲或以滚动式方法卷曲的场合。根据本发明的示例性实施方式，第一刚性区域RA1和第二刚性区域RA2的表面可大致彼此平行，并且可折叠为面对面；然而，本公开的示例性实施方式不限于此。例如，第一刚性区域RA1和第二刚性区域RA2的表面可利用设置于其间的可折叠区域FA，通过预定角度(例如，锐角、直角或钝角)折叠。
在根据本发明的示例性实施方式的显示设备中，弯折线FL可设置在可折叠区域FA内，例如，在第二方向D2上。第二方向D2可以是可折叠区域FA的延伸方向。
根据本发明的示例性实施方式，第一刚性区域RA1和第二刚性区域RA2可具有相同的面积，并且可折叠区域FA可定位在第一刚性区域RA1和第二刚性区域RA2之间；然而，本发明的示例性实施方式不限于此。例如，第一刚性区域RA1和第二刚性区域RA2可具有不同的面积。此外，设置的刚性区域的数量可能不是两个，并且可设置至少一个刚性区域。多个刚性区域可利用设置于其间的可折叠区域FA彼此间隔开。
根据本发明的示例性实施方式的显示设备可包括显示面板DP和窗口衬底WD。显示面板DP可显示图像。窗口衬底WD可设置在显示面板DP的表面上。
显示面板DP可显示预定的视觉信息，诸如，文本消息、视频、照片以及2-D或3-D图像。显示面板DP的类型是不受限的，因此可设置显示图像的任意显示面板。
显示面板DP可设置为包括两个表面的板形状。根据本发明的示例性实施方式，显示面板DP可显示图像，例如，通过它的至少一个表面显示图像。至少一个表面可设置在显示面板DP的前表面和后表面之间。下面将更详细地描述通过它的前表面显示图像的显示面板DP。
显示面板DP可包括显示区域DA和非显示区域NDA。在显示区域DA中可显示图像。非显示区域NDA可设置在显示区域DA的至少一侧上。例如，非显示区域NDA可环绕显示区域DA。
显示区域DA可以是在其中设置多个像素PXL例如以显示图像的区域。
显示区域DA可设置为与显示设备的形状对应的形状。例如，与显示设备的形状相似，显示设备可设置为各种形状，诸如具有封闭形状的包括大致的直边的多边形、包括曲边的圆和椭圆以及包括由大致的直线和曲线形成的边的半圆和半椭圆。根据本发明的示例性实施方式，显示区域DA可具有矩形形状。
像素PXL可设置在显示区域DA上。每个像素PXL可以是显示图像的最小单元。可设置多个像素PXL。像素PXL可发射白光和/或彩色光。每个像素PXL可发射红光、绿光和蓝光中的任意一种；然而，本发明的示例性实施方式不限于此。因此，每个像素PXL可发射具有诸如青色、洋红色和黄色的颜色的光。
多个像素PXL可以是包括有机发射层的有机发光设备；然而，本发明的示例性实施方式不限于此。多个像素PXL能以各种形式实现，诸如，液晶设备、电泳设备和电润湿设备。
下面将更详细地描述包括像素PXL的显示面板DP。
窗口衬底WD可设置在显示面板DP的第一表面上。显示面板DP的第一表面可以是显示面板DP的前表面。窗口衬底WD可允许图像穿过显示面板DP、阻挡紫外线并且减轻外部冲击。因此，窗口衬底WD可减小或防止显示面板DP被损坏或错误地操作。外部冲击可表示来自外部的可表现为压力和应力的力，并且可表示对显示面板DP造成缺陷的力。
窗口衬底WD可阻挡紫外线，例如，防止包括在显示面板DP中的组成元件(例如，有机发光设备)被损坏。下面将更详细地描述窗口衬底WD的紫外线阻挡。
窗口衬底WD可具有相对的弹性。因此，窗口衬底WD可吸收外部冲击并且大致同时地将外部冲击传播至如上所述的相邻区域。例如，窗口衬底WD可具有弹性力。窗口衬底WD可例如由于弹性力而通过来自外部的冲击变形。当来自外部的压力移除时，窗口衬底WD可恢复至原始状态。此外，窗口衬底WD可具有相对高的抗冲击特性。因此，窗口衬底WD可通过外部冲击引起的变形或损坏较小。
窗口衬底WD可减轻例如通过显示面板DP的点冲击、面冲击和压应变和/或拉应变引起的(例如，通过对显示面板DP的面冲击引起的)显示面板DP的弯曲变形。因此，可减小或防止显示面板DP的缺陷。
窗口衬底WD的全部或至少一部分可具有柔性。例如，窗口衬底WD的全部或至少部分区域可具有柔性。
根据本发明的示例性实施方式，显示面板DP和窗口衬底WD可具有大致相同的形状。
窗口衬底WD可包括至少两片基衬底和紫外线阻挡层UVC。紫外线阻挡层UVC可设置在相邻的基衬底之间。
基衬底可包括玻璃、石英、有机聚合物材料等。有机聚合物材料可包括以下之一：聚醚砜(PES)、聚丙烯酸酯、聚醚酰亚胺(PEI)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚苯硫醚(PPS)、聚芳酯(PAR)、聚酰亚胺(PI)、聚碳酸脂(PC)、三醋酸纤维素(TAC)或醋酸丙酸纤维素(CAP)。此外，基衬底还可包括玻璃纤维增强塑料(FRP)。根据本发明的示例性实施方式，基衬底可设置有两个玻璃衬底，例如，第一玻璃衬底GL1和第二玻璃衬底GL2。
根据本发明的示例性实施方式，基衬底可包括第一玻璃衬底GL1和第二玻璃衬底GL2。紫外线阻挡层UVC可设置在第一玻璃衬底GL1和第二玻璃衬底GL2之间。
显示面板DP可设置在窗口衬底WD的第一玻璃衬底GL1或第二玻璃衬底GL2上。显示面板DP可设置在第二玻璃衬底GL2上。显示面板DP可设置为在其中第二玻璃衬底GL2的外表面与显示面板DP的第一表面接触的形式。然而，窗口衬底WD和显示面板DP的位置不限于此。显示面板DP可设置在第一玻璃衬底GL1上。显示面板DP可设置为在其中第一玻璃衬底GL1的外表面与显示面板DP的第一表面接触的形式。
光学透明粘合层可设置在显示面板DP和窗口衬底WD之间。这里，粘合层可以是结合剂和/或粘合物。
根据本发明的示例性实施方式，在可折叠区域FA以及第一刚性区域RA1和第二刚性区域RA2中，窗口衬底WD可具有不同的厚度、不同的斥力和不同的抗冲击特性。虽然窗口衬底WD可以是柔性的，但是当窗口衬底WD在特定区域(例如，可折叠区域FA)中弯曲超过一次时，施加到特定区域的应力可大于施加到窗口衬底WD的剩余区域的应力。因此，由于根据本发明的示例性实施方式的窗口衬底WD在特定的区域(例如，可折叠区域FA)和窗口衬底WD的剩余区域(例如，第一刚性区域RA1和第二刚性区域RA2)中可具有不同的厚度、不同的斥力和不同的抗冲击特性，所以可减小或防止例如通过重复地弯曲窗口衬底WD而产生的应力对窗口衬底WD的损坏。
例如，窗口衬底WD的可折叠区域FA中的每个指标可通过使第一玻璃衬底GL1和/或第二玻璃衬底GL2的厚度差异化的方法或者使化学强化深度差异化的方法而不同地设定。
根据本发明的示例性实施方式，第一玻璃衬底GL1和第二玻璃衬底GL2中的每一个可设置为具有两个表面的板形状。第一玻璃衬底GL1和第二玻璃衬底GL2的每一个可包括玻璃材料。玻璃材料可包括硅酸盐。玻璃材料可另外包括各种材料。因此，第一玻璃衬底GL1和第二玻璃衬底GL2的耐久性、表面粗糙度和透明度是相对高的。例如，第一玻璃衬底GL1和第二玻璃衬底GL2可包括铝硅酸盐、硼硅酸盐、硼铝硅酸盐等。第一玻璃衬底GL1和第二玻璃衬底GL2还可包括碱金属、碱土金属和它们的氧化物等。
根据本发明的示例性实施方式，第一玻璃衬底GL1和第二玻璃衬底GL2的材料不限于所公开的内容。第一玻璃衬底GL1和第二玻璃衬底GL2可包括其它各种材料并且可处于各种比率。
紫外线阻挡层UVC可阻挡来自外部的紫外线，例如，以保护显示面板DP。紫外线阻挡层UVC可将第一玻璃衬底GL1和第二玻璃衬底GL2彼此附接。紫外线阻挡层UVC可包括阻挡紫外线的材料以及将第一玻璃衬底GL1和第二玻璃衬底GL2结合的材料。阻挡紫外线的材料以及将第一玻璃衬底GL1和第二玻璃衬底GL2结合的材料能以混合形式提供。
阻挡紫外线的材料的示例可包括基于苯并三唑的紫外线吸收剂、基于三嗪的紫外线吸收剂、基于二苯甲酮的紫外线吸收剂、基于苯甲酸盐的紫外线吸收剂等。阻挡紫外线的材料可包括无机超细粒子，诸如，氧化锌或氧化钛。这些材料可单独地使用或彼此组合地使用。
将第一玻璃衬底GL1和第二玻璃衬底GL2结合的材料可以是光学透明的。将第一玻璃衬底GL1和第二玻璃衬底GL2结合的材料可包括丙烯酸聚合物、乙烯-乙酸乙烯酯聚合物、腈类聚合物、硅橡胶、丁基橡胶、苯乙烯嵌段(styrene block)共聚物、乙烯醚聚合物、聚氨酯聚合物、环氧聚合物等。例如，紫外线阻挡层UVC可包括聚氨酯聚合物，或者在其中橡胶或丙烯酸聚合物被添加至聚氨酯聚合物的材料。然而，展示紫外线阻挡层UVC的粘合性的材料不限于此。
紫外线阻挡层UVC可通过阻挡紫外线的材料而阻挡在具有比可见光的波长更短的波长的波长带中的光。紫外线阻挡层UVC可阻挡紫外线波长带中的光。根据本发明的示例性实施方式，紫外线阻挡层UVC可阻挡在小于大约350nm的波长带中的大约90％或更多的光。因此，紫外线阻挡层UVC可具有大约10％或更小的透射率。根据本发明的示例性实施方式，紫外线阻挡层UVC可阻挡在小于大约400nm的波长带中的大约99％或更多的光。因此，紫外线阻挡层UVC可具有大约1％或更小的透射率。
紫外线阻挡层UVC可阻挡从外部朝向显示面板DP行进的紫外线。因此，紫外线阻挡层UVC可防止紫外线对包括在显示面板DP中的设备(例如，有机发光设备)的影响。紫外线阻挡层UVC可允许除了紫外线的大致全部的光(例如，可见光)。因此，紫外线阻挡层UVC可大致同时地增大透射率以及从显示面板DP发射的图像的可视性。
根据本发明的示例性实施方式，紫外线阻挡层UVC可包括粘合物。因此，第一玻璃衬底GL1和第二玻璃衬底GL2中生成的应力可散布。当冲击施加到第一玻璃衬底GL1和/或第二玻璃衬底GL2的部分时，紫外线阻挡层UVC可补偿通过所述冲击在第一玻璃衬底GL1和/或第二玻璃衬底GL2中生成的拉伸强度。因此，紫外线阻挡层UVC可防止第一玻璃衬底GL1和/或第二玻璃衬底GL2损坏。紫外线阻挡层UVC可吸收当第一玻璃衬底GL1和/或第二玻璃衬底GL2损坏时生成的冲击能量。因此，紫外线阻挡层UVC可减小或防止损坏的第一玻璃衬底GL1和/或第二玻璃衬底GL2的散布。紫外线阻挡层UVC可包括弹性材料，例如以吸收冲击能量。紫外线阻挡层UVC可包括柔性材料，例如以是可弯曲的或可折叠的。
根据本发明的示例性实施方式，第一玻璃衬底GL1、第二玻璃衬底GL2和紫外线阻挡层UVC的整体厚度可以是大约300μm或更小。在第一玻璃衬底GL1的两个表面之间的距离可以是第一厚度。在第二玻璃衬底GL2的两个表面之间的距离可以是第二厚度。设置在第一玻璃衬底GL1和第二玻璃衬底GL2之间的紫外线阻挡层UVC的厚度可以是第三厚度。第一厚度至第三厚度的总和可以是大约300μm或更小。当窗口衬底WD具有大于300μm的厚度时，抵抗变形的斥力(repulsive force)增大。因此，窗口衬底WD的弯曲可能是相对困难的。
根据本发明的示例性实施方式，第一玻璃衬底GL1的第一厚度可以是大约20μm至大约100μm。第二玻璃衬底GL2的第二厚度可以是大约20μm至大约100μm。紫外线阻挡层UVC的第三厚度可以是大约10μm至大约100μm。可替代地，第一厚度可以是大约30μm至大约50μm。第二厚度可以是大约30μm至大约50μm。紫外线阻挡层UVC的第三厚度可以是大约10μm至大约30μm。
因此，窗口衬底WD能以相对小的曲率半径R弯曲。因此，窗口衬底WD可具有大约1mm至大约10mm或者大约1mm至大约5mm的曲率半径R。
根据本发明的示例性实施方式，第一玻璃衬底GL1和第二玻璃衬底GL2的厚度可大致彼此相同。第一玻璃衬底GL1和第二玻璃衬底GL2的厚度可彼此不同。当窗口衬底WD被折叠，使得基于任意一个表面所述一个表面的部分面对剩余部分以最小化施加到第一玻璃衬底GL1和第二玻璃衬底GL2的应力时，第一玻璃衬底GL1和第二玻璃衬底GL2的厚度可以是不同的。
例如，窗口衬底WD沿其折叠的参考线可以是弯折线FL。弯折线FL可定位在窗口衬底WD的第二玻璃衬底GL2中。窗口衬底WD可基于弯折线FL折叠，使得第二玻璃衬底GL2的表面的一部分面对第二玻璃衬底GL2的表面的剩余部分。第一玻璃衬底GL1可设置在窗口衬底WD的外侧处。第二玻璃衬底GL2可设置在窗口衬底WD的内侧处。第一玻璃衬底GL1的一个表面可以是外圆周表面。第二玻璃衬底GL2的一个表面可以是内部圆周表面。在窗口衬底WD的弯曲期间，设置在窗口衬底WD的外侧处的第一玻璃衬底GL1的第一厚度可小于设置在窗口衬底WD的内侧处的第二玻璃衬底GL2的第二厚度。根据本发明的示例性实施方式，第一厚度可以是大约20μm至大约40μm。第二厚度可以是大约30μm至大约50μm。
当具有相对小的截面面积的对象(例如，笔)接触对比示例的窗口衬底时，应力可施加到所述窗口衬底，使得窗口衬底弯曲并且随后破裂。玻璃衬底的抗冲击特性可提高。因此，可减少使窗口衬底破裂的发生。根据本发明的示例性实施方式，第一玻璃衬底GL1和第二玻璃衬底GL2可以是例如通过离子交换过程的化学钢化玻璃。因此，窗口衬底WD的抗冲击特性可提高。术语“离子交换过程”可表示玻璃具有大致相同的原子价的正离子与置于所述玻璃的表面上或者所述玻璃的表面的邻近区域上的正离子进行交换。例如，“离子交换过程”可表示玻璃内部的正离子(例如，碱金属正离子，诸如Na+和Li+)与来自外部的另一正离子(例如，正离子，诸如K+)进行交换。离子交换过程可用于提供从玻璃的两个表面延伸至特定深度的压应力分布。当压应力被提供至第一玻璃衬底GL1和第二玻璃衬底GL2时，只要裂纹存在于由参考线形成的区域(在所述区域中压应力是0)内，便可提供抵抗所述弯曲的相对高的强度。
根据本发明的示例性实施方式，可大致对称地执行第一玻璃衬底GL1和第二玻璃衬底GL2的两个表面的化学钢化；然而，本发明的示例性实施方式不限于此。例如，可不对称地执行第一玻璃衬底GL1和第二玻璃衬底GL2的两个表面的化学钢化。具体地，当第一玻璃衬底GL1或第二玻璃衬底GL2在特定方向上折叠时，可不对称地执行用于补偿在特定方向上的折叠的化学钢化。
根据本发明的示例性实施方式，能以大致相同的水平或不同的水平对窗口衬底WD的第一玻璃衬底GL1和第二玻璃衬底GL2执行化学钢化。例如，第一玻璃衬底GL1和第二玻璃衬底GL2可化学钢化以得到具有大致相同的水平的压应力；然而，本发明的示例性实施方式不限于此。例如，第一玻璃衬底GL1和第二玻璃衬底GL2可化学钢化以得到具有不同水平的压应力。第二玻璃衬底GL2可化学钢化以得到比第一玻璃衬底GL1的压应力更大的压应力。因此，第二玻璃衬底GL2可具有比第一玻璃衬底GL1的深度更深的深度。
施加有拉应力的具有裂纹的表面，当第一玻璃衬底GL1和第二玻璃衬底GL2折叠或卷曲时，损坏可最小化。第一玻璃衬底GL1和第二玻璃衬底GL2可大致可以是薄衬底。根据本发明的示例性实施方式，可减小当第一玻璃衬底GL1和第二玻璃衬底GL2折叠或卷曲时通过拉应力引起的裂纹的生成或增长。因此，可减小对窗口衬底WD的损坏。
下面将更详细地描述包括一个像素PXL的显示面板DP。
图3A是示出根据本发明的示例性实施方式的图1的像素的俯视图。图3B是根据本发明的示例性实施方式的沿图3A的线II-II'截取的剖视图。图4是示出根据本发明的示例性实施方式的包括三个像素的显示设备的剖视图。
参照图1、图3A、图3B和图4，显示面板DP可包括阵列衬底ASB、有机发光二极管OLED、封装层CPL和防反射层ARL。有机发光二极管OLED可设置在阵列衬底ASB上。封装层CPL可设置在有机发光二极管OLED上。
阵列衬底ASB可包括衬底SUB、处于衬底SUB上的薄膜晶体管和电容器Cst。
衬底SUB可包括透明绝缘材料，例如以允许光穿过。衬底SUB可包括玻璃、石英、有机聚合物等。有机聚合物材料可包括以下之一：聚醚砜(PES)、聚丙烯酸酯、聚醚酰亚胺(PEI)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚苯硫醚(PPS)、聚芳酯(PAR)、聚酰亚胺(PI)、聚碳酸脂(PC)、三醋酸纤维素(TAC)或醋酸丙酸纤维素(CAP)。此外，衬底SUB还可包括玻璃纤维增强塑料(FRP)。下面，将更详细地描述作为本发明的示例性实施方式的包括玻璃的基衬底。
设置的薄膜晶体管的数量可以是至少两个。薄膜晶体管可各自包括第一薄膜晶体管T1和第二薄膜晶体管T2。第一薄膜晶体管T1可以是开关元件。第一薄膜晶体管T1可连接至扫描线SL和数据线DL。第二薄膜晶体管T2可以是驱动元件。因此，第二薄膜晶体管T2可连接至电容器Cst和电力供应线VL。
第一薄膜晶体管T1和第二薄膜晶体管T2的每一个可包括半导体层SA、栅电极GE以及源电极SE和漏电极DE。栅电极GE可以与半导体层SA绝缘。源电极SE和漏电极DE可连接至半导体层SA。
半导体层SA可设置在衬底SUB上。半导体层SA可包括非晶硅(a-Si)、多晶硅(p-Si)、氧化物半导体或有机半导体中的任意之一。氧化物半导体可包括Zn、In、Ga、Sn或其混合物中的至少之一。例如，氧化物半导体可包括铟-镓-锌氧化物(IGZO)。
在半导体层SA中，与源电极SE和漏电极DE连接的区域分别可以是被掺杂或注入杂质的源区和漏区。此外，在源区和漏区之间的区域可以是沟道区。
当半导体层SA包括氧化物半导体时，用于阻挡入射到氧化物半导体层SA中的光的光阻挡层可设置在氧化物半导体层SA的上部和下部上。
缓冲层BUL可设置在衬底SUB和半导体层SA之间。缓冲层BUL可包括硅的氧化物(SiOx)和硅的氮化物(SiNx)中的至少之一。例如，缓冲层BUL可包括第一层和第二层。第一层可包括硅的氧化物。第二层可设置在第一层上。第二层可包括硅的氮化物。此外，缓冲层BUL还可包括硅的氮氧化物(SiON)。缓冲层BUL可防止杂质散布和渗透到第一薄膜晶体管T1和第二薄膜晶体管T2中的每一个的半导体层SA中。因此，缓冲层BUL可防止第一薄膜晶体管T1和第二薄膜晶体管T2的电学特性劣化。
此外，缓冲层BUL可防止湿气和氧气从外部渗透至有机发光二极管OLED。此外，缓冲层BUL还可使衬底SUB的表面大致平坦化。
覆盖半导体层SA的栅极绝缘层GI可设置在衬底SUB和半导体层SA上。栅极绝缘层GI可将半导体层SA和栅电极GE绝缘。栅极绝缘层GI可包括硅的氧化物和硅的氮化物中的至少之一。
扫描线SL、栅电极GE和电容器Cst的第一电容器电极C1可设置在栅极绝缘层GI上。扫描线SL可在预定方向上延伸。
层间绝缘层ILD可设置在栅极绝缘层GI、扫描线SL、栅电极GE和第一电容器电极C1上。层间绝缘层ILD可覆盖栅电极GE。与栅极绝缘层GI相似，层间绝缘层ILD可包括硅的氧化物和硅的氮化物中的至少之一。此外，层间绝缘层ILD的一部分可被移除，例如，以暴露半导体层SA的源区和漏区。
数据线DL、电力供应线VL、电容器Cst的第二电容器电极C2、源电极SE和漏电极DE可设置在层间绝缘层ILD上。数据线DL可与扫描线SL绝缘并且与扫描线SL交叉。电力供应线VL可与数据线DL间隔开。
源电极SE和漏电极DE可通过层间绝缘层ILD与栅电极GE绝缘。此外，源电极SE和漏电极DE可分别地连接至源区和漏区。
电容器Cst可包括第一电容器电极C1和第二电容器电极C2。第一电容器电极C1可包括与扫描线SL和栅电极GE的材料大致相同的材料。第一电容器电极C1可设置在与扫描线SL和栅电极GE大致相同的层上。
第二电容器电极C2可包括与数据线DL、电力供应线VL、源电极SE和漏电极DE的材料大致相同的材料。第二电容器电极C2可设置在与数据线DL、电力供应线VL、源电极SE和漏电极DE大致相同的层上。
钝化层PSV可设置在衬底SUB上。第一薄膜晶体管T1、第二薄膜晶体管T2和电容器Cst可设置在钝化层PSV上。钝化层PSV可覆盖第一薄膜晶体管T1、第二薄膜晶体管T2和电容器Cst。此外，钝化层PSV可暴露第二薄膜晶体管T2的漏电极DE的一部分。
第二薄膜晶体管T2和第一薄膜晶体管T1可以是具有顶部栅极式结构的薄膜晶体管；然而，本发明的示例性实施方式不限于此。例如，第二薄膜晶体管T2和第一薄膜晶体管T1中的至少一个可以是具有底部栅极式结构的薄膜晶体管。可设置两个薄膜晶体管和一个电容器；然而，本发明的示例性实施方式不限于此。根据本发明的示例性实施方式，可设置不同的薄膜晶体管和电容器。
钝化层PSV可包括至少一个层。例如，钝化层PSV可包括无机钝化层和有机钝化层中的至少之一。例如，钝化层PSV可包括覆盖第一薄膜晶体管T1、第二薄膜晶体管T2和电容器Cst的有机钝化层。钝化层PSV还可包括设置在无机钝化层上的有机钝化层。
无机钝化层可包括硅的氧化物和硅的氮化物中的至少之一。有机钝化层可包括有机绝缘材料，例如以允许光穿过。例如，有机钝化层可包括以下至少之一：基于丙烯的树脂(丙烯酸酯树脂)、基于环氧的树脂、基于苯酚的树脂、基于聚酰胺的树脂、基于聚酰亚胺的树脂、不饱和基于聚酯的树脂、基于聚苯醚的树脂、基于聚苯硫醚的树脂、或苯并环丁烯(BCB)。
有机发光二极管OLED可连接至薄膜晶体管。有机发光二极管OLED可连接至第二薄膜晶体管T2的漏电极DE。有机发光二极管OLED可设置在钝化层PSV上。
有机发光二极管OLED可包括第一电极EL1、有机发射层OL和第二电极EL2。第一电极EL1可连接至第二薄膜晶体管T2的漏电极DE。有机发射层OL可设置在第一电极EL1上。第二电极EL2可设置在有机发射层OL上。
第一电极EL1和第二电极EL2之一可以是阳极，并且另一个可以是阴极。例如，第一电极EL1可以是阳极，并且第二电极EL2可以是阴极。此外，第一电极EL1和第二电极EL2中的至少一个可以是透射电极。例如，当有机发光二极管OLED是底部发射型有机发光二极管时，第一电极EL1可以是透射电极，并且第二电极EL2可以是反射电极。当有机发光二极管OLED是顶部发射型有机发光二极管时，第一电极EL1可以是反射电极，并且第二电极EL2可以是透射电极。当有机发光二极管OLED是双型有机发光二极管时，第一电极EL1和第二电极EL2两者都可以是透射电极。根据本发明的示例性实施方式，下面将更详细地描述第一电极EL1是阳极并且有机发光二极管OLED是顶部发射型的情况。
第一电极EL1可设置在钝化层PSV上。第一电极EL1可包括反射层和透明导电层。反射层可反射光。透明导电层可设置在反射层的上部或下部中。反射层和透明导电层中的至少一个可与第二薄膜晶体管T2的漏电极DE连接。
反射层可包括能反射光的材料。例如，反射层可包括以下至少之一：铝(Al)、银(Ag)、铬(Cr)、钼(Mo)、铂(Pt)、镍(Ni)或它们的合金。
透明导电层可包括透明导电氧化物。例如，透明导电层可包括铟锡的氧化物(ITO)、铟锌的氧化物(IZO)、铝锌的氧化物(AZO)、掺杂镓的锌的氧化物(GZO)、锌锡的氧化物(ZTO)、镓锡的氧化物(GTO)或掺杂氟的锡的氧化物(FTO)之中的至少一种透明导电氧化物。
像素限定层PDL可设置在第一电极E1和钝化层PSV上。像素限定层PDL可暴露第一电极EL1的一部分。例如，像素限定层PDL可具有覆盖第一电极EL1和钝化层PSV的边缘的形状。
像素限定层PDL可包括有机绝缘材料。例如，像素限定层PDL可包括以下至少之一：聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚丙烯腈(PAN)、聚酰胺(PA)、聚酰亚胺(PI)、聚芳醚(PAE)、杂环聚合物、聚对二甲苯、环氧树脂、基于苯并环丁烯(BCB)的树脂、基于硅氧烷的树脂、基于硅烷的树脂。
有机发射层OL可具有包括至少一个发射层的多层薄膜结构。例如，有机发射层OL可包括空穴注入层、空穴传输层、发射层、电子传输层和电子注入层。空穴注入层可注入空穴。空穴传输层可具有相对高的空穴传输特征，抑制发射层中没有被组合的电子的运动，并且增强空穴和电极之间的重组。发射层可通过例如所注入的电子和空穴的重组而发光。电子传输层可将电子传输至发射层。空穴注入层、空穴传输层、电子传输层和电子注入层可延伸至相邻的像素区域。在发射层中生成的光的颜色可以是红色、绿色、蓝色和白色中的任意一种；然而，本发明的示例性实施方式不限于此。例如，在有机发射层OL的发射层中生成的光的颜色可以是洋红色、青色和黄色中的任意一种。
第二电极EL2可设置在有机发射层OL上。第二电极EL2可以是半透射反射层。例如，第二电极EL2可以是具有可容许光穿过的厚度的相对薄的金属层。第二电极EL2可允许在有机发射层OL中生成的光的一部分穿过，并且反射在有机发射层OL中生成的光的剩余部分。例如，通过相长干涉，从第二电极EL2反射的光可被第一电极EL1的反射层反射并且穿过第二电极EL2。
第二电极EL2可在与有机发射层OL对应的区域中设置有半透射反射层。第二电极EL2可在其它区域中设置有反射层。例如，设置在有机发射层OL上的第二电极EL2的一部分可设置有半透射反射层。设置在像素限定层PDL上的第二电极EL2可设置有反射层。像素限定层PDL上的反射层反射从相邻的有机发射层OL发射的光。因此，可防止从相邻的有机发射层OL发射的光混合并且朝向用户行进。在与有机发射层OL对应的区域和其它区域中，第二电极EL2可具有不同的厚度。第二电极EL2可具有不同的厚度，由此具有不同的反射剖面。设置在像素限定层PDL上的第二电极EL2可比设置在有机发射层OL上的第二电极EL2更厚。因此，第二电极EL2可防止从相邻的有机发射层OL发射的光混合并且朝向用户行进。
第二电极EL2可包括与第一电极EL1的透明导电层的功函数相比具有相对低的功函数的材料。例如，第二电极EL2可包括以下至少之一：钼(Mo)、钨(W)、银(Ag)、镁(Mg)、铝(Al)、铂(Pt)、钯(Pd)、金(Au)、镍(Ni)、钕(Nd)、铱(Ir)、铬(Cr)、镍(Ni)、钙(Ca)或它们的合金。
封装层CPL可设置在第二电极EL2上。封装层CPL可将有机发光二极管OLED与外部环境隔离开。例如，封装层CPL可防止外部湿气和氧气渗透到有机发光二极管OLED中。
封装层CPL可以是薄膜封装层。薄膜封装层可包括多个无机层和多个有机发射层。多个无机层和多个有机发射层可设置在防反射层ARL上。例如，封装层CPL可具有在其中无机层和有机发射层交替层压的结构。此外，封装层CPL的最顶层可以是无机层。
无机层可包括以下至少之一：硅的氧化物(SiOx)、硅的氮化物(SiNx)、硅的氮氧化物(SiON)、铝的氧化物(Al2O3)、钛的氧化物(TiO2)、诰的氧化物(ZrOx)或锡的氧化物(SnO)。
防反射层ARL可设置在封装层CPL上。防反射层ARL可防止来自外部的光被反射。因此，防反射层ARL可防止来自外部的光被用户识别。
防反射层ARL的结构可防止来自外部的光被反射，并且因此，所述结构是不受限的。防反射层ARL可包括颜色过滤器CF和黑矩阵BM。颜色过滤器CF和黑矩阵BM可设置在每个像素PXL中。
覆盖颜色过滤器CF和黑矩阵BM的覆盖层CVL设置在颜色过滤器CF和黑矩阵BM上。
在每个像素PXL内的有机发光二极管OLED可发射红光、绿光和蓝光中的任意一种，使得颜色过滤器CF可设置在具有与每个像素PXL对应的颜色的有机发光二极管OLED上。例如，红色过滤器CF_R可设置在发射红光的有机发光二极管OLED上，绿色过滤器CF_G可设置在发射绿光的有机发光二极管OLED上，以及蓝色过滤器CF_B可设置在发射蓝光的有机发光二极管OLED上。
黑矩阵BM可设置在相邻的颜色过滤器CF之间。
颜色过滤器CF和黑矩阵BM可配置为充当吸收特定波长的光或仅允许特定波长的光通过以防止来自外部的光被反射的防反射层ARL。此外，颜色过滤器CF和黑矩阵BM可允许特定波长的光穿过例如以提高发射的光的颜色纯度。
每个像素PXL发射红光、绿光和蓝光的任意一种；然而，本发明的示例性实施方式不限于此。每个像素PXL可发射其它颜色的光。颜色过滤器CF还可以响应于从有机发光二极管OLED发射的光而变化。例如，当有机发光二极管OLED发射洋红色的光时，洋红色过滤器可设置在有机发光二极管OLED上。当有机发光二极管OLED发射白光时，红色过滤器CF_R、绿色过滤器CF_G和蓝色过滤器CF_B可设置为颜色过滤器CF。
显示设备可通过使用防反射层ARL，在大致相同的时间防止外部光被反射并且防止来自外部的紫外线朝向有机发光二极管OLED行进。在根据对比示例的显示设备中，偏光板可设置在显示设备和窗口衬底之间，用于防止外部光被反射并且阻止紫外线。根据本发明的示例性实施方式，虽然没有设置单独的偏光板，但是显示设备可防止由于外部光而引起图像质量劣化和设备缺陷。另外，偏光板具有预定厚度。因此，当偏光板设置在显示设备中时，显示设备的整体厚度可能增大。根据本发明的示例性实施方式，可省略偏光板。因此，可提供相对薄的显示设备。
窗口衬底WD的紫外线阻挡层UVC可设置在第一玻璃衬底GL1和第二玻璃衬底GL2之间。因此，窗口衬底WD可具有抗冲击特性。因此，可减轻通过点冲击和面冲击引起的弯曲变形以及通过面冲击引起的压应变和/或拉应变。
通过点冲击引起的弯曲变形可利用特定的笔通过落笔冲击试验确认。根据本发明的示例性实施方式，对抗点冲击的抗冲击性可通过以下方法确定：检测窗口衬底WD是否通过将大约5.8g的特定的笔(Societe Bic公司的Fine BiC笔)在所述特定的笔盖有帽的状态下沿着一个高度以竖直状态自由下落到窗口衬底WD的表面上而被损坏。根据本发明的示例性实施方式的窗口衬底WD可具有至少大约7cm的抗冲击性。因此，当大约5.8g的笔在大约7cm或更小的高度处朝向窗口衬底WD下落时，所述窗口衬底WD可能不会破裂。
图5A是示出根据对比示例的窗口衬底和根据本发明的示例性实施方式的窗口衬底的抗冲击特性的图。
在图5A中，对比示例1和对比示例2表示根据对比示例的窗口衬底的抗冲击特性。示例1和示例2表示根据本发明的示例性实施方式的窗口衬底WD的抗冲击特性。在图4中，每个窗口衬底WD通过使用粘合物被结合到基底膜上，并且除了每个窗口衬底WD之外其它条件保持相同。使用具有大约50μm厚度的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜作为基底膜。
在图5A中，在对比示例1中，使用具有大约80μm厚度的单层窗口衬底。在对比示例2中，使用具有大约100μm厚度的单层窗口衬底。在示例1中，使用在其中具有大约20μm厚度的紫外线阻挡层UVC形成在各自具有大约50μm厚度的第一玻璃衬底GL1和第二玻璃衬底GL2之间的窗口衬底WD。在示例2中，使用在其中具有大约20μm厚度的紫外线阻挡层UVC形成在各自具有大约40μm厚度的第一玻璃衬底GL1和第二玻璃衬底GL2之间的窗口衬底WD。
参照图5A，在示例1和示例2中，窗口衬底WD在大约7cm或更大的高度处被损坏。在对比示例1和对比示例2中，窗口衬底在大约7cm或更小的高度处被损坏。根据本发明的示例性实施方式的窗口衬底WD的抗冲击特性可提高。
当窗口衬底WD变形时，在根据本发明的示例性实施方式的显示设备中使用的窗口衬底WD可具有相对低的斥力(例如，弯曲刚度)。窗口衬底WD在被应用于显示设备等时可折叠多次，并且当用户折叠窗口衬底WD时的斥力可具有例如其中用户不会感觉到不便的程度。根据本发明的示例性实施方式的窗口衬底WD可具有大约20N或更小的或者大约10N或更小的斥力。
斥力可通过两点弯曲试验法来测量。弯曲强度可通过两点弯曲试验来确认。两点弯曲试验可通过准备下弯折件(zig)和上弯折件的方法来执行。下弯折件和上弯折件可大致彼此平行。具有预定尺寸(例如，大约7.2英尺)的样本可设置在处于弯曲状态的下弯折件和上弯折件之间。可指定施加到上弯折件的力。在这种情况下，样本可弯曲使得它的两端面对彼此。两端中的一端可与上弯折件接触。样本的另一端可与下弯折件接触。
图5B是示出根据对比示例的窗口衬底和根据本发明的示例性实施方式的窗口衬底的斥力的图。
在图5B中，对比示例1和对比示例2以及示例1和示例2的条件与图4的条件大致相同。
参照图5B，示例1和示例2中的斥力具有大约4N或更小的值。对比示例1中的斥力具有大约11N的值。对比示例2中的斥力具有大约22N的值。因此，在本发明的示例性实施方式中，窗口衬底WD在用户使用窗口衬底WD的程度上可具有斥力。
在根据本发明的示例性实施方式的显示设备中，窗口衬底WD可展示出增强的紫外线阻挡效果。在大约400nm或更小的波长带中，示例1呈现出大约0.02％的透射率。在大约400nm或更小的波长带中，示例2呈现出大约0.01％的透射率。根据本发明的示例性实施方式，当窗口衬底WD省略了单独的偏光板时，紫外线阻挡效果可增强。
如果防反射层ARL防止来自外部的光被反射，则防反射层ARL的结构不受具体限制。因此，防反射层ARL可实现为其它形式。
图6是根据本发明的示例性实施方式的沿图3A的线II-II'截取的剖视图。
防反射层ARL可设置在第二电极EL2和封装层CPL之间。
防反射层ARL可包括一个或多个相位匹配层PML和光吸收层ABL。所述一个或多个相位匹配层PML可设置在第二电极EL2上。光吸收层ABL可设置在相位匹配层PML上。
相位匹配层PML可设置有其中从第二电极EL2反射的光和从第一电极EL1的反射层反射的光可导致相消干涉的厚度。例如，从第二电极EL2反射的光和从第一电极EL1的反射层反射的光可通过相位匹配层PML具有满足相消干涉条件的不同相位。因此，每个像素PXL的相位匹配层PML可根据相应的颜色而具有不同的厚度。
相位匹配层PML可以是光学透明的。术语“光学透明”可表示大约50％或更多，例如大约80％或更多的可见光可穿过的状态。
在可见光区域中，相位匹配层PML可包括折射率是1或更多并且消光系数是5或更小的材料。例如，相位匹配层PML可包括以下至少之一：铝的氧化物(AlOx)、硅的氧化物(SiOx)、钙的氟化物(CaF)、镁的氟化物(MgF2)、锂的氟化物(LiF)、硅的氮化物(SiNx)、硅的碳氮化物(SiCN)、硅的氮氧化物(SiON)、钽的氧化物(TaxOy)或钛的氧化物(TiOx)。
此外，相位匹配层PML可包括透明导电氧化物。例如，相位匹配层PML可包括铟锡的氧化物(ITO)或铟锌的氧化物(IZO)中的至少之一。
相位匹配层PML可包括导电有机材料。例如，相位匹配层PML可包括以下至少之一：聚吡咯、聚噻吩、聚乙炔、聚(3,4-乙烯二氧噻吩)聚磺苯乙烯(PEDOT：PSS)或聚苯胺。当相位匹配层PML包括透明导电氧化物或导电有机材料时，可防止在第二电极EL2中发生电压降(IR-Drop)现象。
光吸收层ABL可以是半透射反射层。从光吸收层ABL反射的光可与从第二电极EL2或反射层反射的光产生相消干涉。
光吸收层ABL可包括在可见光区域中折射率和消光系数的乘积是0.5或更大，例如2至4的材料。例如，光吸收层ABL可包括以下至少之一：铬(Cr)、钛(Ti)、钼(Mo)、钴(Co)、镍(Ni)、钨(W)、铝(Al)、银(Ag)、金(Au)、铜(Cu)、铁(Fe)、镁(Mg)、铂(Pt)、锰(Mn)或它们的合金。此外，光吸收层ABL还可包括以下至少之一：铬的氮化物(CrNx)、钛的氮化物(TiNx)、钛铝的氮化物(TiAlNx)、钼的氧化物(MoOx)或铜的氧化物(CuOx)。
除窗口衬底WD和显示面板DP之外，根据本发明的示例性实施方式的显示设备还可包括附加元件。
图7至图9是示出根据本发明的示例性实施方式的显示设备的剖视图。
参照图7，根据本发明的示例性实施方式的显示设备可包括显示面板DP、缓冲材料BF和窗口WD。缓冲材料BF可设置在显示面板DP的后表面上。窗口WD可设置在显示面板DP的前表面上。粘合物PSA可设置在显示面板DP和缓冲材料BF之间。粘合物PSA还可设置在显示面板DP和窗口衬底WD之间。然而，可省略粘合物PSA。
显示面板DP可具有包括前表面和后表面的板形状。显示面板DP可例如通过前表面显示图像。
缓冲材料BF可设置于显示面板DP的后表面。缓冲材料BF可保护显示面板DP免受冲击。缓冲材料BF可具有单层；然而，本发明的示例性实施方式不限于此。例如，缓冲材料BF可包括缓冲材料BF的多个部分，或者多个整体缓冲材料BF被层压。
缓冲材料BF可设置在显示面板DP的一个表面上。缓冲材料BF可设置在显示面板DP的后表面上。缓冲材料BF可设置为与显示面板DP的形状对应的板形状。缓冲材料BF可覆盖显示面板DP的后表面的至少一部分。例如，当显示面板DP设置为矩形形状时，缓冲材料BF可设置为与显示面板DP的矩形形状对应的矩形形状。另外，当显示面板DP设置为圆形形状时，缓冲材料BF也可设置为与显示面板DP的圆形形状对应的圆形形状。
缓冲材料BF可减轻来自外部的冲击。因此，可防止显示面板DP通过来自外部的冲击而被损坏或错误地操作。来自外部的冲击可表示来自外部的可表现为压力和应力的力，并且是指对显示面板DP造成缺陷的力。
缓冲材料BF可具有例如足以吸收来自外部的冲击并且将来自外部的冲击分散至外围区域的弹性力。例如，缓冲材料BF可具有弹性力，通过所述弹性力缓冲材料BF经由来自外部的冲击而变形，并且当来自外部的压力移除时可恢复至原始状态。
缓冲材料BF可包括热塑性的聚苯乙烯、聚烯烃、聚氨酯、聚酰胺、合成橡胶、聚二甲硅氧烷、聚丁二烯、聚异丁烯、聚(苯乙烯-丁二烯-苯乙烯)、聚氨酯、聚氯丁烯、聚乙烯、硅树脂或它们的组合；然而，本发明的示例性实施方式不限于此。
窗口衬底WD可设置在偏光板POL上，例如以保护显示面板DP并且阻挡紫外线。
参照图8，支撑构件SP可进一步地设置在显示面板DP和缓冲材料BF之间。
支撑构件SP可以是金属膜。支撑构件SP可防止显示设备通过点冲击而弯曲。当相对结实的金属膜设置于显示面板DP的后表面时，所述金属膜可连同缓冲材料BF一起缓冲从外部施加的点冲击。具体地，尽管厚度小，但是金属膜具有优良的点冲击缓冲效果，使得显示设备的整体厚度不增加。可使用金属膜使得可使用相对薄的缓冲材料BF。因此，支撑构件SP可包括金属膜，由此制造相对薄的显示设备。
金属膜可包括以下至少之一：Zr、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In或它们的合金。当金属膜包括上述元件时，除缓冲功能之外，金属膜还可提供EMI屏蔽/散热功能。金属膜的厚度可以是大约10μm至大约50μm。当金属膜的厚度小于大约10μm时，通过金属膜所得的冲击缓冲效果可能相对不高。此外，当金属膜的厚度大于大约50μm时，显示设备的厚度可能增大。
金属膜可设置于整个显示面板DP；然而，本发明的示例性实施方式不限于此。当显示设备中存在可折叠区域FA时，金属膜可形成在除了可折叠区域FA之外的区域中。金属膜可具有相对低的弹性。因此，当显示设备折叠和展开时，金属膜可能不会恢复到原始状态。
参照图9，根据本发明的示例性实施方式的显示设备可包括显示面板DP、窗口WD、缓冲材料BF、保护膜PRT、光学屏蔽层SDL、散热层AHL和电磁波阻挡层ESDL。窗口WD可设置在显示面板DP的前表面上。缓冲材料BF可设置在显示面板DP的后表面上。保护膜PRT可设置在显示面板DP和缓冲材料BF之间。光学屏蔽层SDL可设置在保护膜PRT和缓冲材料BF之间。散热层AHL可设置在缓冲材料BF的外表面上。电磁波阻挡层ESDL可设置在散热层AHL的外表面上。因此，显示设备可包括按顺序层压的电磁波阻挡层ESDL、散热层AHL、缓冲材料BF、光学屏蔽层SDL、保护膜PRT、显示面板DP和窗口WD。
保护膜PRT可附接至显示面板DP的后表面，例如以保护显示面板DP。保护膜PRT可例如利用设置于其间的粘合物PSA结合至显示面板DP。
保护膜PRT可包括有机聚合物。有机聚合物可包括以下至少之一：例如，聚乙烯、聚丙烯、乙烯-丙烯共聚物、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物、基于烯烃的聚合物、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚碳酸脂、聚氯乙烯、基于醋酸乙烯的聚合物、聚苯硫醚、聚酰胺(聚酰胺纤维)、聚酰胺、聚酰亚胺、聚醚醚酮或聚醚。
光学屏蔽层SDL可防止来自显示面板DP的后表面的光在显示面板DP的前表面的方向上经过。光学屏蔽层SDL可设置为光阻挡膜的形式。光学屏蔽层SDL可具有黑色。
散热层AHL可防止在显示设备内生成的热量被提供至显示面板DP。与印刷电路板相同，显示面板DP可邻近地设置于驱动器。因此，从驱动器生成的热量可传输至显示面板DP。热量可促使像素PXL的劣化，由此导致像素PXL的缺陷。散热层AHL可用来绝缘和散除从驱动器生成的热量。
散热层AHL可包括基衬底和在基衬底中的金属。金属可以是从由铝(Al)、铜(Cu)、钼(Mo)、银(Ag)、钨(W)或钼(Mo)组成的群组中选择的任意一个或多个。基衬底可包括有机聚合物，诸如，聚碳酸脂(PC)或聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)。此外，散热层AHL可包括具有相对高的导热性的材料。材料还可相对容易地排出热量。散热层AHL可包括从由石墨、石墨烯、碳纳米管(CNT)或填充金属组成的群组中选择的任意一个或多个。
电磁波阻挡层ESDL可屏蔽在驱动器中产生的电磁干扰(EMI)。
电磁波阻挡层ESDL可包括导电片。导电片可包括以下至少之一：金(Au)、银(Ag)、铜(Cu)、铝(Al)、钛(Ti)、氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、碳纳米管(CNT)或石墨。
电磁波阻挡层ESDL可以是铜片。
根据本发明的示例性实施方式，粘合物PSA可设置在所述元件之间。然而，粘合物PSA所设置的位置不限于此。
如上所述，根据本发明的示例性实施方式的显示设备可阻挡紫外线并且可在没有偏光板的情况下防止外部光被反射。因此，可省略偏光板。因此，可制造相对薄的显示设备。
根据本发明的示例性实施方式的显示设备可包括在各种电子设备中。例如，显示设备可包括在电视、笔记本电脑、移动电话、智能电话、智能平板(PD)、便携式多媒体播放器(PDP)、个人数字助理(PDA)、导航设备、各种可穿戴设备(诸如，智能手表)等中。
虽然已经参照本发明的示例性实施方式描述了本公开，但是本领域技术人员可理解，在不脱离所附权利要求中描述的本公开的精神和范围的情况下，可不同地修改和改变本公开。

Claims (20)

1.一种显示设备，包括：
显示面板，配置为通过所述显示面板的前表面显示图像；
窗口衬底，设置在所述显示面板的所述前表面上，并且包括至少两片基衬底；以及
紫外线阻挡层，设置在所述至少两片基衬底之间。
2.如权利要求1所述的显示设备，其中，所述紫外线阻挡层在小于350nm的波长带中具有10％或更小的透射率。
3.如权利要求1所述的显示设备，其中，所述紫外线阻挡层在小于400nm的波长带中具有1％或更小的透射率。
4.如权利要求1所述的显示设备，其中，所述至少两片基衬底包括具有第一厚度的第一玻璃衬底和具有第二厚度的第二玻璃衬底，并且所述第一厚度和所述第二厚度中的每一个是20μm至100μm。
5.如权利要求4所述的显示设备，其中，当所述窗口衬底弯曲时所述第一玻璃衬底设置在所述显示设备的外侧处并且所述第二玻璃衬底设置在所述显示设备的内侧处，以及其中，所述第一厚度小于所述第二厚度。
6.如权利要求4所述的显示设备，其中，所述紫外线阻挡层的厚度是10μm至100μm。
7.如权利要求1所述的显示设备，其中，所述紫外线阻挡层包括光学透明粘合物。
8.如权利要求1所述的显示设备，其中，所述基衬底的数量是至少三个。
9.如权利要求1所述的显示设备，其中，所述显示面板包括：
阵列衬底；
有机发光二极管，设置在所述阵列衬底上；以及
防反射层，设置在所述有机发光二极管上。
10.如权利要求9所述的显示设备，其中，所述防反射层包括颜色过滤器和黑矩阵。
11.如权利要求9所述的显示设备，其中，所述有机发光二极管包括：
第一电极，设置在所述阵列衬底上；
有机发射层，设置在所述第一电极上；以及
第二电极，设置在所述有机发射层上。
12.如权利要求11所述的显示设备，其中，所述第二电极在与所述有机发射层对应的区域中包括半透射反射层，并且在其它区域中包括反射层。
13.如权利要求12所述的显示设备，其中，所述第二电极在与所述有机发射层对应的所述区域和所述其它区域中具有不同的厚度。
14.如权利要求1所述的显示设备，其中，所述至少两片基衬底中的至少一个被化学钢化。
15.如权利要求1所述的显示设备，其中，所述窗口衬底具有抗冲击特性，使得当5.8g的笔在第一高度处竖直地落到所述窗口衬底的一个表面上时所述窗口衬底不被损坏，而且，所述第一高度是7cm或更大。
16.如权利要求1所述的显示设备，其中，所述窗口衬底的至少一部分和所述显示面板是柔性的。
17.如权利要求1所述的显示设备，还包括：
缓冲层，设置在所述显示面板的后表面上，并且所述缓冲层配置为吸收施加到所述窗口衬底和所述显示面板的冲击。
18.如权利要求17所述的显示设备，还包括：
支撑构件，设置在所述显示面板和所述缓冲层之间。
19.如权利要求18所述的显示设备，其中，所述支撑构件包括金属。
20.如权利要求1所述的显示设备，还包括：
粘合层，设置在所述窗口衬底和所述显示面板之间。
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