CN108206902A - 一种光场相机 - Google Patents

一种光场相机 Download PDF

Info

Publication number
CN108206902A
CN108206902A CN201611169340.2A CN201611169340A CN108206902A CN 108206902 A CN108206902 A CN 108206902A CN 201611169340 A CN201611169340 A CN 201611169340A CN 108206902 A CN108206902 A CN 108206902A
Authority
CN
China
Prior art keywords
light
liquid crystal
polarised light
microlens array
field camera
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201611169340.2A
Other languages
English (en)
Other versions
CN108206902B (zh
Inventor
赵娟
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shenzhen Super Technology Co Ltd
Original Assignee
SuperD Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by SuperD Co Ltd filed Critical SuperD Co Ltd
Priority to CN201611169340.2A priority Critical patent/CN108206902B/zh
Publication of CN108206902A publication Critical patent/CN108206902A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN108206902B publication Critical patent/CN108206902B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04NPICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N23/00Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof
    • H04N23/50Constructional details
    • H04N23/55Optical parts specially adapted for electronic image sensors; Mounting thereof

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Multimedia (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Studio Devices (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)

Abstract

本发明涉及成像技术领域,公开了一种光场相机,包括沿光路方向顺次设置的主透镜、延迟片、液晶微透镜阵列、选偏器和图像传感器,液晶微透镜阵列位于主透镜的成像面上,图像传感器位于液晶微透镜阵列的焦平面上;液晶微透镜阵列会聚入射在其上的第一偏振光以在图像传感器位置形成四维光场影像;液晶微透镜阵列不改变入射在其上的第二偏振光的传播方向以在图像传感器位置形成二维影像;选偏器选择性地允许第一偏振光或第二偏振光通过以在图像传感器位置形成所述四维光场影像或二维影像。该光场相机利于实现相机小型化设计、并能保证良好成像质量。

Description

一种光场相机
技术领域
本发明涉及照相机技术领域,特别涉及一种光场相机。
背景技术
随着电子装置的日益普及,照相机在人们生活中的应用越来越多。传统相机只能采集三维物体在像平面上的二维(2D)投影,其虽然可以记录物体的空间分布、却无法记录光线的传播方向。针对这一不足,【Ren Ng,Marc Levoy,et al,Light Field Photographywith a Hand-held Plenoptic Camera,Stanford Tech Report CTSR 2005-02】斯坦福大学提出一种光场照相机,其可以记录包括物体二维空间位置和光线二维传播方向的四维(4D)光场信息,保留了对图像重塑的可能性,具有先拍照后对焦、可重建三维立体图等优势。但是,该光场相机的横向成像分辨率低于普通相机,这也成为制约其发展的一大难题。
于是,一些相机在光场相机的4D成像基础上加入普通相机的2D成像功能,综合普通相机和光场相机的优势,方便用户在2D\4D模式之间切换使用,以满足使用者多样化的需求。例如,美国专利公告US 8593564 B2提出了一种具有2D/4D模式切换功能的光场相机结构:在主透镜和图像传感器之间放置可以机械移动的微透镜阵列。当微透镜阵列移出光路时,相机为2D成像模式;当微透镜阵列移入光路时,相机为4D光场相机模式。
然而,这种技术均需要在相机中额外预留移动空间以满足微透镜阵列的机械位移需求,不利于相机的小型化设计。并且,由于微透镜阵列的焦距很短,微透镜阵列移出、移入光路所产生的机械复位误差会直接影响成像质量。
有鉴于此,有必要提供一种利于实现相机小型化设计、并能保证良好成像质量的光场相机。
发明内容
本发明的目的在于提供一种利于实现相机小型化设计、并能保证良好成像质量的光场相机。
为解决上述技术问题,本发明提供了一种光场相机,包括沿光路方向顺次设置的主透镜、延迟片、液晶微透镜阵列、选偏器和图像传感器;所述液晶微透镜阵列位于所述主透镜的成像面上,所述图像传感器位于所述液晶微透镜阵列的焦平面上;所述液晶微透镜阵列会聚入射在其上的第一偏振光以使所述第一偏振光在所述图像传感器位置处形成四维光场影像,所述液晶微透镜阵列不改变入射在其上的第二偏振光的传播方向以使所述第二偏振光在所述图像传感器位置处形成二维影像;所述选偏器选择性地允许所述第一偏振光或所述第二偏振光通过以在所述图像传感器位置处形成所述四维光场影像或所述二维影像;所述延迟片的厚度d满足关系式:
其中,n1为所述延迟片对所述第一偏振光的折射率,n2为延迟片对所述第二偏振光的折射率,f为所述液晶微透镜阵列的焦距。
本发明相对于现有技术而言,利用所述延迟片使来自被摄物体的所述第一偏振光和所述第二偏振光之间产生光程差,从而使所述第一偏振光和所述第二偏振光具有位置不同的像平面,利用被所述液晶微透镜阵列改变传播方向的所述第一偏振光在所述图像传感器位置处形成所述四维光场影像,利用未被所述液晶微透镜阵列改变传播方向的所述第二偏振光在所述图像传感器位置处形成所述二维影像,并利用所述选偏器选择性地允许所述第一偏振光和所述第二偏振光中之一者通过并在所述图像传感器位置处形成所述四维光场影像或所述二维影像,其无需机械移动微透镜阵列,即可实现2D/4D模式的切换,避免微透镜阵列的机械位移导致的相机空间占用以及机械复位误差导致的成像质量下降,利于实现相机的小型化设计、并能保证良好的成像质量。
另外,所述液晶微透镜阵列包括沿光路方向顺次设置的第一基板、第一电极、第一取向层、液晶层、第二取向层、第二电极以及第二基板,所述第一电极上设有阵列排布的第一圆孔。
另外,所述第二电极上设有阵列排布的第二圆孔,所述第一圆孔与所述第二圆孔一一对应。
另外,所述第一圆孔的孔径尺寸与所述第二圆孔的孔径尺寸相等。
另外,所述第二电极为面电极。
另外,所述第一取向层及第二取向层的取向方向均平行于所述第一偏振光的偏振方向。
另外,所述选偏器为可旋转的线偏振片,所述线偏振片旋转至第一位置时的偏振方向平行于所述第一偏振光的偏振方向,所述线偏振片旋转至第二位置时的偏振方向平行于所述第二偏振光的偏振方向。
另外,所述光场相机还包括旋转装置,所述线偏振片设置于所述旋转装置上,所述旋转装置驱动所述线偏振片旋转以选择性地将所述线偏振片旋转至所述第一位置或所述第二位置。
另外,所述光场相机采用电控方式控制所述旋转装置的旋转。
另外,所述主透镜和所述微透镜阵列具有相同的F数。
附图说明
图1是本发明的光场相机结构示意图。
图2是本发明的液晶微透镜结构示意图。
图3是本发明第一实施方式中的第一电极与第二电极结构示意图。
图4是本发明第二实施方式中的第一电极与第二电极结构示意图。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图对本发明的各实施方式进行详细的阐述。然而,本领域的普通技术人员可以理解,在本发明各实施方式中,为了使读者更好地理解本申请而提出了许多技术细节。但是,即使没有这些技术细节和基于以下各实施方式的种种变化和修改,也可以实现本申请所要求保护的技术方案。
参见图1-3,本发明的第一实施方式涉及一种光场相机,包括沿光路方向顺次设置的主透镜1、延迟片2、液晶微透镜阵列3、选偏器4和图像传感器5。
如图1所示,主透镜1设置在待摄物体(图未示)一侧,用于接收并会聚来自待摄物体的第一偏振方向(图中短线所示)的光线(以下称“第一偏振光11”)和第二偏振方向(图中圆点所示)的光线(以下称“第二偏振光12”)。在此,主透镜1可为包含多个光学镜片的镜片组,其会聚偏振方向相互垂直的第一偏振光11和第二偏振光12,以用于光学成像。
延迟片2设置在主透镜1的成像侧,能使偏振方向互相垂直的第一偏振光11和第二偏振光12产生附加光程差,以补偿第一偏振光11的像平面和第二偏振光12的像平面之间的距离差。
液晶微透镜阵列3设置在延迟片2的成像侧、并位于主透镜1的成像面上。液晶微透镜阵列3具有双折射性质,可以会聚第一偏振方向的光线,但是不改变第二偏振方向光线的传播方向。具体的,液晶微透镜阵列3会聚入射在其上的第一偏振光11以使第一偏振光11在图像传感器5位置处形成四维光场影像,液晶微透镜阵列3不改变入射在其上的第二偏振光12的传播方向以使第二偏振光12在图像传感器5位置处形成二维影像。
选偏器4设置在液晶微透镜3和图像传感器5之间,选择性地允许第一偏振光11或第二偏振光12通过,以在图像传感器5位置形成四维光场影像或二维影像。
图像传感器5位于液晶微透镜阵列3的焦平面上,用于接收通过选偏器4而投射在其上的第一偏振光11或者第二偏振光12,以形成对应第一偏振光11和第二偏振光12的4D或2D影像。
本实施方式相对于现有技术而言,利用延迟片2使来自被摄物体的第一偏振光11和第二偏振光12之间产生光程差,从而使第一偏振光11和第二偏振光12具有位置不同的像平面,利用被液晶微透镜阵列3改变传播方向的第一偏振光11在图像传感器5位置处形成四维光场影像,利用未被液晶微透镜阵列3改变传播方向的第二偏振光12在图像传感器5位置处形成二维影像,并利用选偏器4选择性地允许第一偏振光11或第二偏振光12通过,并在图像传感器5位置形成四维光场影像或二维影像,这样的设计无需机械移动微透镜阵列,即可实现2D/4D模式的切换,避免了微透镜阵列的机械位移导致的相机空间占用以及机械复位误差导致的成像质量下降,利于实现相机的小型化设计、并能保证良好的成像质量。
需要说明的是,由于延迟片2的不同厚度选择会直接影响第一偏振光11和第二偏振光12的光程差大小,进而决定两不同偏振方向光线的像平面距离差异。因此,本实施方式在利用延迟片2补偿像平面差异时,需要对延迟片2的厚度进行特定设计,具体如下。
参见图1,定义:主透镜1的焦距为F,微透镜阵列3的焦距为f,相机的物距为u,主透镜1和微透镜阵列3之间的距离为v,微透镜阵列3和图像传感器5之间的距离为f,延迟片2的厚度为d,延迟片2对第一偏振方向光线和对第二偏振方向光线的折射率分别为n1和n2(n1<n2)。在4D模式下,主透镜1会聚的光经过延迟片2成像在液晶微透镜阵列3的表面上,此时系统像距为v-(n1-1)d;在2D模式下,主透镜1会聚的光经过延迟片2成像在图像传感器5的位置处,此时系统的像距为v-(n2-1)d+f。
根据透镜成像公式可知:
联立公式(1)和公式(2),可得延迟片2的厚度d为:
由此可见,将延迟片2的厚度d设计为满足公式(3),便可使得第一偏振光11和第二偏振光12的像平面距离差恰好为液晶微透镜阵列3与图像传感器5之间的距离(也即微透镜阵列3焦距f),从而确保第一偏振光11、第二偏振光12分别在液晶微透镜阵列3位置处、图像传感器5位置处成像。
如图2与图3所示,本实施方式中,液晶微透镜阵列3可包括沿光路方向顺次设置的:第一基板31、第一电极32、第一取向层33、液晶层34、第二取向层35、第二电极36以及第二基板37。第一电极32上设有阵列排布的第一圆孔321。
这使得第一电极32和第二电极36之间加电后,“对应电极圆孔中央的液晶层区域”内电场线分布较为稀疏,而“对应电极圆孔边缘的液晶层区域”内电场线分布较为密集且呈非均匀分布状态,此时,“对应电极圆孔边缘的液晶层区域”内的液晶分子在电场和分子之间弹性力作用下发生转动,表现出与“对应电极圆孔中央的液晶层区域”内液晶分子不同的折射率,从而每个电极圆孔对应的液晶层区域起到光学透镜的作用,会聚偏振方向平行于取向层方向的光线,但不改变垂直于取向层方向的光线方向。本发明中采用液晶材质的微透镜,具有体积小、厚度薄、易于集成、成像质量好等优点。
需要说明的是,第二电极36上也可设有阵列排布的第二圆孔361,第一圆孔321与第二圆孔361一一对应。如此也可使第一电极32和第二电极36之间加电后,在对应电极圆孔处的液晶层区域表现出不同的折射率而达到传统固态光学透镜的光线会聚效果。
本实施例中,第一圆孔321的孔径尺寸与第二圆孔361的孔径尺寸相等。可以理解的是,第一电极32上的圆孔的尺寸与第二电极36上的圆孔尺寸可以相同,也可以不同,只要确保电极加电后,在“对应电极圆孔中央的液晶层区域”和“对应电极圆孔边缘的液晶层区域”表现出不同的折射率而达到传统固态光学透镜的光线会聚效果即可。
本发明实施方式中,第一取向层33及第二取向层35的取向方向均平行于第一偏振光11的偏振方向。如此设计,可以使得第一偏振光11被液晶微透镜阵列3会聚且不改变其偏振方向,并使得第二偏振光12穿过液晶微透镜阵列3时不改变传播方向及偏振方向,以利后续选偏器4筛选第一偏振光11、第二偏振光12并择一允许通过以形成4D或2D影像。
本发明实施方式中,选偏器4为可旋转的线偏振片,线偏振片旋转至第一位置时的偏振方向平行于第一偏振光11的偏振方向,线偏振片旋转至第二位置时的偏振方向平行于第二偏振光12的偏振方向。从而,通过将线偏振片分别旋转至第一位置和第二位置,便可实现对第一偏振光11和第二偏振光12的筛选,使二者之一透过选偏器4投射至图像传感器5位置处成像,从而实现2D/4D影像模式的切换。
此外,光场相机还可包括旋转装置(图未示),线偏振片设置于旋转装置上,旋转装置驱动线偏振片旋转以选择性地将线偏振片旋转至第一位置或第二位置。
可以理解的,光场相机可采用电控方式控制旋转装置的旋转。电控方式是被广泛应用的控制方式,本实施方式中采用电控的方式控制旋转装置进行旋转,易实行且操作简单,使2D/4D影像的切换更好的实现。
需要说明的是,主透镜1和液晶微透镜阵列3具有相同的F数,其中F数=液晶微透镜阵列焦距/液晶微透镜阵列直径。本实施方式中,主透镜1和微透镜阵列3具有相同的F数可以达到最佳的光能利用率和成像效果。
本发明第二实施方式涉及又一种光场相机,其与第一实施方式中的光场相机结构大体相同,是在第一实施方式的基础上改变而来。如图4所示,本发明第二实施方式提供的光场相机,其液晶微透镜阵列3同样包括沿光路方向顺次设置的:第一基板31、第一电极32、第一取向层33、液晶层34、第二取向层35、第二电极36以及第二基板37。
与第一实施方式不同的是,第二实施方式提供的第一电极32和第二电极36中的一者为面电极、而另一者上则开设有多个呈阵列排布的圆孔。如此设置,同样能够使得第一电极32和第二电极36之间加上电压后,“对应电极圆孔中央的液晶层区域”内电场线分布较为稀疏,而“对应电极圆孔边缘的液晶层区域”内电场线分布较为密集且呈非均匀分布状态。达成与第一实施方式相同的光学透镜作用,为避免重复,这里不再赘述。
本领域的普通技术人员可以理解,上述各实施方式是实现本发明的具体实施方式,而在实际应用中,可以在形式上和细节上对其作各种改变,而不偏离本发明的精神和范围。

Claims (10)

1.一种光场相机,其特征在于,包括沿光路方向顺次设置的:主透镜、延迟片、液晶微透镜阵列、选偏器和图像传感器;
所述液晶微透镜阵列位于所述主透镜的成像面上,所述图像传感器位于所述液晶微透镜阵列的焦平面上;
所述液晶微透镜阵列会聚入射在其上的第一偏振光以使所述第一偏振光在所述图像传感器位置处形成四维光场影像,所述液晶微透镜阵列不改变入射在其上的第二偏振光的传播方向以使所述第二偏振光在所述图像传感器位置处形成二维影像;
所述选偏器选择性地允许所述第一偏振光或所述第二偏振光通过以在所述图像传感器位置处形成所述四维光场影像或所述二维影像;
所述延迟片的厚度d满足关系式:
其中,n1为所述延迟片对所述第一偏振光的折射率,n2为所述延迟片对所述第二偏振光的折射率,f为所述液晶微透镜阵列的焦距。
2.根据权利要求1所述的光场相机,其特征在于,所述液晶微透镜阵列包括沿光路方向顺次设置的:第一基板、第一电极、第一取向层、液晶层、第二取向层、第二电极以及第二基板,所述第一电极上设有阵列排布的第一圆孔。
3.根据权利要求2所述的光场相机,其特征在于,所述第二电极上设有阵列排布的第二圆孔,所述第一圆孔与所述第二圆孔一一对应。
4.根据权利要求3所述的光场相机,其特征在于,所述第一圆孔的孔径尺寸与所述第二圆孔的孔径尺寸相等。
5.根据权利要求2所述的光场相机,其特征在于,所述第二电极为面电极。
6.根据权利要求3或5所述的光场相机,其特征在于,所述第一取向层及第二取向层的取向方向均平行于所述第一偏振光的偏振方向。
7.根据权利要求1所述的光场相机,其特征在于,所述选偏器为可旋转的线偏振片,所述线偏振片旋转至第一位置时的偏振方向平行于所述第一偏振光的偏振方向,所述线偏振片旋转至第二位置时的偏振方向平行于所述第二偏振光的偏振方向。
8.根据权利要求7所述的光场相机,其特征在于,所述光场相机还包括旋转装置,所述线偏振片设置于所述旋转装置上,所述旋转装置驱动所述线偏振片旋转以选择性地将所述线偏振片旋转至所述第一位置或所述第二位置。
9.根据权利要求8所述的光场相机,其特征在于,所述光场相机采用电控方式控制所述旋转装置的旋转。
10.根据权利要求1所述的光场相机,其特征在于,所述主透镜和所述液晶微透镜阵列具有相同的F数。
CN201611169340.2A 2016-12-16 2016-12-16 一种光场相机 Active CN108206902B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201611169340.2A CN108206902B (zh) 2016-12-16 2016-12-16 一种光场相机

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201611169340.2A CN108206902B (zh) 2016-12-16 2016-12-16 一种光场相机

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN108206902A true CN108206902A (zh) 2018-06-26
CN108206902B CN108206902B (zh) 2020-09-22

Family

ID=62601595

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201611169340.2A Active CN108206902B (zh) 2016-12-16 2016-12-16 一种光场相机

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN108206902B (zh)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110275310A (zh) * 2019-07-15 2019-09-24 合肥工业大学 一种正投影式三维显示装置及三维显示系统
CN111308741A (zh) * 2018-12-12 2020-06-19 电子科技大学 基于液晶透镜的小凹成像装置及成像方法
CN112129704A (zh) * 2020-11-25 2020-12-25 中国工程物理研究院流体物理研究所 一种基于液晶微阵列器件的分焦平面型偏振成像装置
CN113538300A (zh) * 2021-06-22 2021-10-22 武汉工程大学 基于液晶d型光学元件的高清光场成像方法

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101287144A (zh) * 2008-05-30 2008-10-15 北京超多维科技有限公司 一种低散射2d-3d切换式立体显示装置
US20090295829A1 (en) * 2008-01-23 2009-12-03 Georgiev Todor G Methods and Apparatus for Full-Resolution Light-Field Capture and Rendering
US20110069324A1 (en) * 2009-09-22 2011-03-24 Samsung Electronics Co., Ltd. Modulator, Apparatus for Obtaining Light Field Data Using Modulator, and Apparatus and Method for Processing Light Field Data Using Modulator
CN103063303A (zh) * 2012-12-21 2013-04-24 南京理工大学 同步偏振调制干涉成像光谱偏振探测装置及方法
CN103472592A (zh) * 2013-09-18 2013-12-25 北京航空航天大学 一种快照式高通量的偏振成像方法和偏振成像仪
CN103698015A (zh) * 2014-01-06 2014-04-02 清华大学深圳研究生院 偏振检测仪及检测方法
WO2014169148A1 (en) * 2013-04-10 2014-10-16 Eyenetra, Inc. Methods and apparatus for refractive condition assessment
CN104539832A (zh) * 2014-12-31 2015-04-22 上海理工大学 混合式光场成像系统
CN104704821A (zh) * 2012-08-04 2015-06-10 保罗.拉普斯顿 扫描双向光场相机和显示器
CN105993166A (zh) * 2013-10-20 2016-10-05 Mtt创新公司 光场投影装置及方法

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20090295829A1 (en) * 2008-01-23 2009-12-03 Georgiev Todor G Methods and Apparatus for Full-Resolution Light-Field Capture and Rendering
CN101287144A (zh) * 2008-05-30 2008-10-15 北京超多维科技有限公司 一种低散射2d-3d切换式立体显示装置
US20110069324A1 (en) * 2009-09-22 2011-03-24 Samsung Electronics Co., Ltd. Modulator, Apparatus for Obtaining Light Field Data Using Modulator, and Apparatus and Method for Processing Light Field Data Using Modulator
CN104704821A (zh) * 2012-08-04 2015-06-10 保罗.拉普斯顿 扫描双向光场相机和显示器
CN103063303A (zh) * 2012-12-21 2013-04-24 南京理工大学 同步偏振调制干涉成像光谱偏振探测装置及方法
WO2014169148A1 (en) * 2013-04-10 2014-10-16 Eyenetra, Inc. Methods and apparatus for refractive condition assessment
CN103472592A (zh) * 2013-09-18 2013-12-25 北京航空航天大学 一种快照式高通量的偏振成像方法和偏振成像仪
CN105993166A (zh) * 2013-10-20 2016-10-05 Mtt创新公司 光场投影装置及方法
CN103698015A (zh) * 2014-01-06 2014-04-02 清华大学深圳研究生院 偏振检测仪及检测方法
CN104539832A (zh) * 2014-12-31 2015-04-22 上海理工大学 混合式光场成像系统

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
张春萍,王庆: "《光场相机成像模型及参数标定方法综述》", 《中国激光》 *

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111308741A (zh) * 2018-12-12 2020-06-19 电子科技大学 基于液晶透镜的小凹成像装置及成像方法
CN110275310A (zh) * 2019-07-15 2019-09-24 合肥工业大学 一种正投影式三维显示装置及三维显示系统
CN112129704A (zh) * 2020-11-25 2020-12-25 中国工程物理研究院流体物理研究所 一种基于液晶微阵列器件的分焦平面型偏振成像装置
CN113538300A (zh) * 2021-06-22 2021-10-22 武汉工程大学 基于液晶d型光学元件的高清光场成像方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN108206902B (zh) 2020-09-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN106462050B (zh) 用于半球形和球形成像的宽视场阵列相机
EP2227896B1 (en) Fast computational camera based on two arrays of lenses
CN108206902A (zh) 一种光场相机
CN108351492B (zh) 包括光学基板的多孔径成像设备
KR102076993B1 (ko) 공간-시간 광 필드 카메라
US20040021802A1 (en) Color 3D image display
CN104704809A (zh) 使用折叠光学器件的多相机系统
US20060192869A1 (en) Multi-dimensional input, transfer, optional memory, and output method
CN102640035B (zh) 裸眼3d立体图像还原显示方法
CN201749269U (zh) 一种具有双层液晶透镜的光学装置
TWM398632U (en) Autostereoscopic display
CN103348668B (zh) 光场摄像装置以及摄像元件
US9791707B2 (en) Auto-stereoscopic display apparatus and non-transitory computer readable storage device
CN108174068A (zh) 光场成像模组
Agrawal et al. Reinterpretable Imager: Towards Variable Post‐Capture Space, Angle and Time Resolution in Photography
CN114637060A (zh) 超光学器件以及包括其的电子装置
JP2024028856A (ja) 多チャネル撮像デバイスおよび多開口撮像デバイスを有するデバイス
CN201740951U (zh) 一种可切换显像模式的显示设备
JP2008065022A (ja) 画像投影用スクリーン及び投影型三次元画像通信端末装置
US20140177051A1 (en) Holographic Display System
CN108206901A (zh) 一种光场相机
WO2022143747A1 (zh) 电子设备及其摄像模组
WO2020181939A1 (zh) 显示装置及其显示方法
WO2016095425A1 (zh) 显示装置以及显示装置的制备方法
WO2020181869A1 (zh) 成像装置和电子设备

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
TA01 Transfer of patent application right

Effective date of registration: 20180717

Address after: 518000 Room 201, building A, No. 1, Qian Wan Road, Qianhai Shenzhen Hong Kong cooperation zone, Shenzhen, Guangdong (Shenzhen Qianhai business secretary Co., Ltd.)

Applicant after: Shenzhen super Technology Co., Ltd.

Address before: 518000 Guangdong 1603 Shenzhen science and technology south eight road 12

Applicant before: Shenzhen SuperD Photoelectronic Co., Ltd.

TA01 Transfer of patent application right
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant