CN108205167A - 一种改善电子产品盖板颜色稳定性的方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种改善电子产品盖板颜色稳定性的方法,包括:S1.提供一基板;S2.在所述基板上形成介质膜层,所述介质膜层覆盖在所述基板朝向观测一侧的表面上,所述介质膜层包括至少一层高折射率光学膜层以及至少一层低折射率光学膜层,高折射率光学膜层和低折射率光学膜层交替层叠设置;S3.在所述介质膜层上形成颜色稳定层,颜色稳定层的材质是透明的,折射率为1.38‑1.7,所述颜色稳定层的厚度大于0.5μm。本发明通过在介质膜层上设置材料为透明材料,折射率为1.38‑1.7、且厚度大于0.5μm的颜色稳定层,对介质膜层的光谱影响较小,减弱或消除脏污、指纹和光学介质膜产生的干涉效应对介质膜层颜色产生的变化,改善盖板的颜色稳定性。
Description
技术领域
本发明涉及电子配件技术领域,特别是涉及了一种改善电子产品盖板颜色稳定性的方法。
背景技术
随着人们生活水平的提高,手机、平板电脑、摄像头、笔记本电脑等电子产品已经逐渐普及,成为人们必不可少的日常用品。近些年,消费者不仅对电子产品性能的要求越来越高,同时对其舒适度及外观的要求也在不断提高。因此,各厂家为了博得大众的眼球、获得消费者的青睐,不断的就电子产品的外观进行改进,作为电子产品的“面子”工程,盖板在其中扮演特殊的身份。
目前市场上消费类电子产品盖板出现同质化现象,为了突破同质化僵局,各大品牌厂商利用不同的工艺制作出炫彩效果的盖板,已经是手机终端厂商吸引消费者的一种重要手段。这种盖板的基本结构包括基板、以及镀制在基板上的由高折射率膜层和低折射率膜层交替层叠排列组成的介质膜层,这种盖板的亮度高,色彩鲜艳,深受大众欣赏。然而在基板朝向观察一侧表面上镀制介质膜层存在容易与指纹、脏污产生光学干涉效应,从而使介质膜层颜色发生变化、造成盖板颜色不稳定的问题。
发明内容
为了弥补已有技术的缺陷,本发明提供一种改善电子产品盖板颜色稳定性的方法。
本发明所要解决的技术问题通过以下技术方案予以实现:
一种改善电子产品盖板颜色稳定性的方法,包括如下步骤:
S1.提供一基板;
S2.在所述基板上形成介质膜层,所述介质膜层覆盖在所述基板朝向观测一侧的表面上,所述介质膜层包括至少一层高折射率光学膜层以及至少一层低折射率光学膜层,所述高折射率光学膜层和低折射率光学膜层交替层叠设置;
S3.在所述介质膜层上形成颜色稳定层,所述颜色稳定层的材质是透明的,折射率为1.38-1.7,所述颜色稳定层的厚度大于0.5μm。
进一步地,所述高折射率光学膜层的材料选自二氧化钛、五氧化二钽、五氧化二铌、硫化锌和二氧化锆中的一种或几种。
进一步地,所述低折射率光学膜层的材料选自一氧化硅、二氧化硅和氟化镁中的一种或几种。
进一步地,每一层高折射率光学膜层的厚度小于200nm。
进一步地,每一层低折射率光学膜层的厚度小于200nm。
进一步地,所述颜色稳定层的材质为硅酸盐。
进一步地,所述基板的材质是透明的,所述颜色稳定层的折射率与基板的折射率之间相差不超过0.5。
本发明具有如下有益效果:
本发明通过在介质膜层上设置材料为透明材料,折射率为1.38-1.7、且厚度大于0.5μm的颜色稳定层,对介质膜层的光谱影响较小,减弱或消除脏污、指纹和光学介质膜产生的干涉效应对介质膜层颜色产生的变化,改善盖板的颜色稳定性,同时能够对介质膜层起到一定的保护作用。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明进行详细的说明,实施例仅是本发明的优选实施方式,不是对本发明的限定。
一种改善电子产品盖板颜色稳定性的方法,包括如下步骤:
S1.提供一基板;
所述基板可以是玻璃基板、塑胶基板或者金属基板,可以理解的是,也可以是其它种类的基板,均在本发明保护范围内。优选的,基板采用高硬度基板,可提高盖板硬度。
所述基板的表面可以是光滑面,也可以是粗糙面,作为粗糙面,可以举例为磨砂面。
S2.在所述基板上形成介质膜层,所述介质膜层覆盖在所述基板朝向观测一侧的表面上,所述介质膜层包括至少一层高折射率光学膜层以及至少一层低折射率光学膜层,所述高折射率光学膜层和低折射率光学膜层交替层叠设置;
所述高折射率光学膜层的折射率在 1.8 以上,作为举例,所述高折射率光学膜层的材料可以选自二氧化钛、五氧化二钽、五氧化二铌、硫化锌和二氧化锆中的一种或几种。当然,本领域的技术人员应当明白,所述高折射率光学膜层的材料并不局限于此,还可以选用其它折射率大于1.8的无机物。
所述低折射率光学膜层的折射率在1.7 以下,作为举例,所述低折射率光学膜层的材料选自一氧化硅、二氧化硅和氟化镁中的一种或几种。当然,本领域的技术人员应当明白,所述低折射率光学膜层的材料并不局限于此,还可以选用其它折射率小于1.7的无机物。
优选所述高折射率光学膜层的材料为二氧化钛,同时所述低折射率光学膜层的材料为二氧化硅;更优选地,所述高折射率光学膜层的材料为五氧化二铌,同时所述低折射率光学膜层的材料为二氧化硅
所述高折射率光学膜层和低折射率光学膜层的层数可以是大于等于一层的任意层数,具体的层数与需达到的视觉效果相关,可根据实际需求,合理设计高折射率光学膜层和低折射率光学膜层的数量,同时要满足二者交替堆叠。
每一层高折射率光学膜层的厚度小于200nm,优选地,每一层高折射率光学膜层的厚度为50-70nm。
每一层低折射率光学膜层的厚度小于200nm,优选地,每一层低折射率光学膜层的厚度为90-110nm。
本领域技术人员可以根据高折射率光学膜层的折射率和低折射率光学膜层的折射率设计高折射率光学膜层和低折射率光学膜层的厚度,增强特定波长的光的反射率,以给使用者带来视觉上特定波长的光的颜色的感观。
所述介质膜层可以采用蒸镀、溅射等方法形成,这些方法已为本领域技术人员所公知,在此不再赘述。
S3.在所述介质膜层上形成颜色稳定层,所述颜色稳定层的材质是透明的,折射率为1.38-1.7,所述颜色稳定层的厚度大于0.5μm。作为举例,所述颜色稳定层的材质为硅酸盐,但不局限于此。
优选地,所述基板的材质是透明的,所述颜色稳定层的折射率与基板的折射率相近,优选地,所述颜色稳定层的折射率与基板的折射率之间相差不超过0.5,更优选地,相差不超过0.2。
所述颜色稳定层可以是蒸镀或溅射形成,还可以是滚涂、喷涂、旋涂形成,也可以是丝印、移印、转印形成,这些方法已为本领域技术人员所公知,在此不再赘述。
本发明通过在介质膜层上设置材料为透明材料,折射率为1.38-1.7、且厚度大于0.5μm的颜色稳定层,对介质膜层的光谱影响较小,减弱或消除脏污、指纹和光学介质膜产生的干涉效应对介质膜层颜色产生的变化,改善盖板的颜色稳定性,
本发明的盖板可以是手机、PDA、MP3、MP4、小灵通、掌上电脑、笔记本电脑、数码相机、摄像机、家用电器、遥控器等电子产品的盖板。
实施例1
一种改善电子产品盖板颜色稳定性的方法,包括如下步骤:
S1.提供一透明的玻璃基板,所述玻璃基板的表面是光滑面;
S2. 通过磁控溅射,在所述玻璃基板上形成高折射率光学膜层,在所述高折射率光学膜层上形成低折射率光学膜层,然后再在低折射率光学膜层形成高折射率光学膜层,如此交替往复,所述高折射率光学膜层和低折射率光学膜层交替层叠排列形成介质膜层;其中所述高折射率光学膜层的材料为二氧化钛,所述高折射率光学膜层的材料为二氧化硅;每层高折射率光学膜层的厚度为60nm,每层低折射率光学膜层的厚度为100nm;
S3.在所述介质膜层上形成颜色稳定层,所述颜色稳定层的材质是透明的,折射率为1.38-1.7,且述颜色稳定层的折射率与基板的折射率相同,所述颜色稳定层的厚度大于0.5μm;所述颜色稳定层的材质为硅酸盐。
实施例2
一种改善电子产品盖板颜色稳定性的方法,包括如下步骤:
S1.提供一非透明的塑料基板,所述塑料基板的表面是粗糙面;
S2.通过真空蒸镀,在所述塑料基板上形成高折射率光学膜层,在所述高折射率光学膜层上形成低折射率光学膜层,然后再在低折射率光学膜层形成高折射率光学膜层,如此交替往复,所述高折射率光学膜层和低折射率光学膜层交替层叠排列形成介质膜层;其中所述高折射率光学膜层的材料为五氧化二铌,所述高折射率光学膜层的材料为二氧化硅;每层高折射率光学膜层的厚度为50nm,每层低折射率光学膜层的厚度为110nm;
S3.在所述介质膜层上形成颜色稳定层,所述颜色稳定层的材质是透明的,折射率为1.38-1.7,且述颜色稳定层的折射率与基板的折射率之间相差不超过0.2,所述颜色稳定层的厚度大于0.5μm;所述颜色稳定层的材质为硅酸盐。
以上所述实施例仅表达了本发明的实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制,但凡采用等同替换或等效变换的形式所获得的技术方案,均应落在本发明的保护范围之内。
Claims (7)
1.一种改善电子产品盖板颜色稳定性的方法,其特征在于,其包括如下步骤:
S1.提供一基板;
S2.在所述基板上形成介质膜层,所述介质膜层覆盖在所述基板朝向观测一侧的表面上,所述介质膜层包括至少一层高折射率光学膜层以及至少一层低折射率光学膜层,所述高折射率光学膜层和低折射率光学膜层交替层叠设置;
S3.在所述介质膜层上形成颜色稳定层,所述颜色稳定层的材质是透明的,折射率为1.38-1.7,所述颜色稳定层的厚度大于0.5μm。
2.如权利要求1所述改善电子产品盖板颜色稳定性的方法,其特征在于,所述高折射率光学膜层的材料选自二氧化钛、五氧化二钽、五氧化二铌、硫化锌和二氧化锆中的一种或几种。
3.如权利要求1所述改善电子产品盖板颜色稳定性的方法,其特征在于,所述低折射率光学膜层的材料选自一氧化硅、二氧化硅和氟化镁中的一种或几种。
4.如权利要求1所述改善电子产品盖板颜色稳定性的方法,其特征在于,每一层高折射率光学膜层的厚度小于200nm。
5.如权利要求1所述改善电子产品盖板颜色稳定性的方法,其特征在于,每一层低折射率光学膜层的厚度小于200nm。
6.如权利要求1所述改善电子产品盖板颜色稳定性的方法,其特征在于,所述颜色稳定层的材质为硅酸盐。
7.如权利要求1所述改善电子产品盖板颜色稳定性的方法,其特征在于,所述基板的材质是透明的,所述颜色稳定层的折射率与基板的折射率之间相差不超过0.5。
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