CN108139679B - 曝光装置、平面显示器的制造方法、组件制造方法、及曝光方法 - Google Patents

Abstract

将基板(P)的多个区划区域(S1～S4)分别扫描曝光的曝光装置，其具有：非接触保持具(32)，能以非接触方式支承在彼此交叉的第1及第2方向的至少一方向排列配置的前述多个区划区域(S1～S4)；基板载具(40)，保持被非接触保持具(32)以非接触方式支承的基板(P)；对准传感器(96)，进行检测设在前述多个区划区域(S1～S4)的多个对准标记(Mk)的检测动作；以及Y线性致动器(62)，以被前述基板载具(40)保持且进行了前述检测动作的基板(P)的一部分从非接触保持具(32)脱离的方式，使基板载具(40)相对非接触保持具(32)移动。

Description

曝光装置、平面显示器的制造方法、组件制造方法、及曝光 方法

技术领域

本发明涉及曝光装置、平面显示器的制造方法、及组件制造方法、以及曝光方法，更详言之，涉及透过光学系统一边以照明光扫描物体一边进行曝光的曝光装置及曝光方法、使用前述曝光装置的平面显示器的制造方法或组件制造方法。

背景技术

以往，在制造液晶显示组件、半导体组件(集成电路等)等电子组件(微型组件)的微影制程中，使用步进扫描方式的曝光装置(所谓扫描步进机(亦称为扫描机))等，其一边使光罩(photomask)或标线片(以下总称为“光罩”)与玻璃板或晶圆(以下总称为“基板”)沿着既定扫描方向同步移动，一边使用能量光束将形成在光罩的图案转印至基板上。

作为此种曝光装置，已知有为了进行曝光动作时的基板定位而在该曝光动作开始前使用对准检测系统进行形成在基板上的标记的位置测量(所谓对准测量)者(参照例如专利文献1)。

此种曝光装置，为了提升曝光精度，较佳为能以高精度检测设于基板的对准标记。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：美国专利申请公开第2010/0266961号说明书

发明内容

根据本发明的第1方案，提供一种曝光装置，其透过光学系统将照明光照射于具有多个标记的物体，将前述物体相对前述照明光驱动以分别扫描曝光前述物体的多个区划区域，其具备：第1支承部，能以非接触方式支承在彼此交叉的第1及第2方向的至少一方向排列配置的前述多个区划区域；保持部，保持被前述第1支承部以非接触方式支承的前述物体；检测部，其进行检测设在前述多个区划区域的前述多个标记的检测动作；以及第1驱动部，以被前述保持部保持、已进行前述检测动作的前述物体的一部分从前述第1支承部脱离的方式，将前述保持部相对前述第1支承部驱动。

根据本发明的第2方案，提供一种平面显示器的制造方法，其包含：使用第1方案的曝光装置使前述物体曝光的动作；以及使曝光后的前述物体显影的动作。

根据本发明的第3方案，提供一种组件制造方法，其包含：使用第1方案的曝光装置使前述物体曝光的动作；以及使曝光后的前述物体显影的动作。

根据本发明的第4方案，提供一种曝光方法，其透过光学系统将照明光照射于具有多个标记的物体，将前述物体相对前述照明光驱动以分别扫描曝光前述物体的多个区划区域，其包含：藉由第1支承部以非接触方式支承在彼此交叉的第1及第2方向的至少一方向排列配置的前述多个区划区域的动作；以保持部保持被前述第1支承部以非接触方式支承的前述物体的动作；以检测部进行检测设在前述多个区划区域的前述多个标记的检测动作的动作；以及以被前述保持部保持、已进行前述检测动作的前述物体的一部分从前述第1支承部脱离的方式，使用第1驱动部将前述保持部相对前述第1支承部驱动的动作。

附图说明

图1是概略显示第1实施方式的液晶曝光装置构成的图。

图2是显示图1的A－A线剖面图。

图3是显示图1的液晶曝光装置所具备的基板载台装置的详细的图。

图4是基板载台装置的要部放大图。

图5是图1的液晶曝光装置所具备的基板位置测量系统的概念图。

图6(a)及图6(b)是显示图1的液晶曝光装置所具备的预对准传感器的图(分别为俯视图及前视图)。

图7是显示以液晶曝光装置的控制系统为中心构成的主控制装置的输出入关系的方块图。

图8(a)及图8(b)是用以说明在曝光动作时的基板载台装置的动作(其1)的图(分别为俯视图及前视图)。

图9(a)及图9(b)是用以说明在曝光动作时的基板载台装置的动作(其2)的图(分别为俯视图及前视图)。

图10(a)及图10(b)是用以说明在曝光动作时的基板载台装置的动作(其3)的图(分别为俯视图及前视图)。

图11(a)及图11(b)是用以说明在曝光动作时的基板载台装置的动作(其4)的图(分别为俯视图及前视图)。

图12(a)及图12(b)是用以说明在曝光动作时的基板载台装置的动作(其5)的图(分别为俯视图及前视图)。

图13(a)及图13(b)是用以说明在曝光动作时的基板载台装置的动作(其6)的图(分别为俯视图及前视图)。

图14(a)及图14(b)是用以说明在曝光动作时的基板载台装置的动作(其7)的图(分别为俯视图及前视图)。

图15(a)及图15(b)是用以说明在曝光动作时的基板载台装置的动作(其8)的图(分别为俯视图及前视图)。

图16(a)及图16(b)是显示第2实施方式的基板载台装置的图(分别为剖面图、俯视图)。

具体实施方式

《第1实施方式》

以下，使用图1～图15(b)说明第1实施方式。

图1概略显示第1实施方式的液晶曝光装置10的构成。液晶曝光装置10是以用于例如液晶显示设备(平面显示器)等的矩形(角型)的玻璃基板P(以下单称为基板P)作为曝光对象物的步进扫描方式的投影曝光装置、即所谓扫描机。

液晶曝光装置10，具有照明系统12、保持形成有电路图案等图案的光罩M的光罩载台14、投影光学系统16、装置本体18、保持于表面(图1中为朝向+Z侧的面)涂布有抗蚀剂(感应剂)的基板P的基板载台装置20、以及此等的控制系统等。以下，将曝光时光罩M与基板P相对投影光学系统16分别被扫描的方向作为X轴方向，将在水平面内与X轴正交的方向作为Y轴方向，将与X轴及Y轴正交的方向作为Z轴方向来进行说明。另外，将绕X轴、Y轴、以及Z轴的旋转方向分别作为θx、θy、以及θz方向来进行说明。

照明系统12与例如美国专利第5,729,331号说明书等所揭示的照明系统同样地构成。亦即，照明系统12将从未图示的光源(例如水银灯)射出的光分别透过未图示的反射镜、分光镜、光阀、波长选择滤光器、各种透镜等，作为曝光用照明光(照明光)IL照射于光罩M。作为照明光IL，可使用i线(波长365nm)、g线(波长436nm)、h线(波长405nm)等的光(或者上述i线、g线、h线的合成光)。

光罩载台14保持光透过型的光罩M。主控制装置50(参照图7)，透过包含例如线性马达的光罩载台驱动系统52(参照图7)将光罩载台14(亦即光罩M)相对照明系统12(照明光IL)往X轴方向(SCAN方向)以既定长行程驱动，且微幅驱动于Y轴方向及θz方向。光罩载台14在水平面内的位置信息，藉由包含例如雷射干涉仪的光罩载台位置测量系统54(参照图7)来求出。

投影光学系统(投影系统)16，配置于光罩载台14的下方。投影光学系统16与例如美国专利第6,552,775号说明书等所揭示的投影光学系统相同构成的所谓多透镜投影光学系统，具备例如形成正立正像的两侧远心的多个光学系统。从投影光学系统16投射至基板P的照明光IL的光轴AX与Z轴大致平行。

液晶曝光装置10，在藉由被来自照明系统12的照明光IL照明位于既定照明区域内的光罩M后，藉由通过光罩M的照明光，透过投影光学系统16将其照明区域内的光罩M的电路图案的投影像(部分图案的像)形成于基板P上的曝光区域。接着，相对照明区域(照明光IL)使光罩M相对移动于扫描方向，且相对曝光区域(照明光IL)使基板P相对移动于扫描方向，藉此进行基板P上的一个照射区域的扫描曝光，而于该照射区域转印形成在光罩M的图案。此处，光罩M上的照明区域与基板P上的曝光区域(照明光的照射区域)，藉由投影光学系统16而成为彼此在光学上共轭的关系。

装置本体18，是支承上述光罩载台14及投影光学系统16的部分，透过多个防振装置18d而设置于洁净室的地F上。装置本体18，是与例如美国专利申请公开第2008/0030702号说明书所揭示的装置本体相同的构成，具有支承上述投影光学系统16的上架台部18a(亦称为光学平台等)、一对下架台部18b(图1中由于重迭于纸面深度方向故一方未图示。参照图2)、以及一对中架台部18c。

基板载台装置20，是用以将基板P相对于投影光学系统16(照明光IL)高精度地定位的部分，将基板P沿着水平面(X轴方向及Y轴方向)以既定长行程驱动，且微幅驱动于6自由度方向。基板载台装置20，具备底框22、粗动载台24、重量消除装置26、X导杆28、基板平台30、非接触保持具32、一对辅助平台34、基板载具40等。

底框22具备一对X柱22a。X柱22a由延伸于X轴方向的YZ剖面矩形的构件构成。一对X柱22a，在Y轴方向以既定间隔配置，在分别透过脚部22b而与装置本体18物理地分离(在振动上绝缘)的状态下设置于地F上。一对X柱22a及脚部22b，分别藉由连接构件22c而一体地连接。

粗动载台24，是用以将基板P往X轴方向以长行程驱动的部分，与上述一对X柱22a对应地具备一对X托架24a。X托架24a形成为YZ剖面倒L字状，透过多个机械式线性导引装置24c而载置于对应的X柱22a上。

一对X托架24a，透过用以驱动基板平台30的基板平台驱动系统56(参照图7)一部分亦即X线性致动器并藉由主控制装置50(参照图7)，沿着对应的X柱22a往X轴方向被以既定长行程(基板P在X轴方向的长度的1～1.5倍程度)同步驱动。用以驱动X托架24a的X线性致动器的种类能适当变更，图2中，虽使用包含例如X托架24a所具有的可动件与对应的X柱22a所具有的固定件的线性马达24d，但并不限于此，亦能使用例如进给螺杆(滚珠螺杆)装置等。

另外，如图2所示，粗动载台24具有一对Y固定件62a。Y固定件62a由延伸于Y轴方向的构件所构成(参照图1)。一方的Y固定件62a在粗动载台24的+X侧端部近旁，另一方的Y固定件62a则在粗动载台24的－X侧端部近旁，分别架设于一对X托架24a上(参照图1)。Y固定件62a的功能留待后述。

重量消除装置26，插入于粗动载台24所具有的一对X托架24a间，从下方支承包含基板平台30及非接触保持具32的系统的自重。关于重量消除装置26的详细情况，由于揭示于例如美国专利申请公开第2010/0018950号说明书，因此省略说明。重量消除装置26，透过从该重量消除装置26呈放射状延伸的多个连接装置26a(亦称为挠曲装置)，对粗动载台24以机械方式连接，藉由被粗动载台24牵引，而与粗动载台24一体地移动于X轴方向。此外，重量消除装置26，虽透过从该重量消除装置26呈放射状延伸的连接装置26a连接于粗动载台24，但由于仅移动于X轴方向，因此亦可为藉由延伸于X方向的连接装置26a而连接于粗动载台24的构成。

X导杆28是作为重量消除装置26移动时的平台发挥功能的部分。X导杆28由延伸于X轴方向的构件所构成，如图1所示，插入底框22所具有的一对X柱22a间，固定于装置本体18所具有的一对下架台部18b上。在Y轴方向，X导杆28的中心与藉由照明光IL而生成于基板P上的曝光区域的中心大致一致。X导杆28的上面设定为与XY平面(水平面)平行。上述重量消除装置26，透过例如空气轴承26b以非接触状态载置于X导杆28上。粗动载台24在底框22上移动于X轴方向时，重量消除装置26在X导杆28上移动于X轴方向。

基板平台30，由在俯视时以X轴方向为长边方向的矩形板状(或箱形)的构件所构成，如图2所示，以中央部透过球面轴承装置26c相对XY平面摆动自如的状态被重量消除装置26从下方以非接触方式支承。另外，如图1所示，于基板平台30连接有一对辅助平台34(图2中未图示)。关于一对辅助平台34的功能，留待后述。

返回图2，基板平台30是基板平台驱动系统56(参照图6)的一部分，藉由包含粗动载台24所具有的固定件与基板平台30本身所具有的可动件的多个线性马达30a(例如音圈马达)，而相对粗动载台24，被往相对水平面(XY平面)交叉的方向、亦即Z轴方向、θx方向、及θy方向(以下称为Z倾斜方向)适当微幅驱动。

基板平台30，透过从基板平台30呈放射状延伸的多个连接装置30b(挠曲装置)对粗动载台24以机械方式连接。连接装置30b包含例如球接合件，以避免阻碍基板平台30相对粗动载台24的往Z倾斜方向的微幅行程的相对移动。另外，在粗动载台24往X轴方向以长行程移动的情形时，透过上述多个连接装置30b而被粗动载台24牵引，藉此粗动载台24与基板平台30一体地移动于X轴方向。此外，基板平台30由于不往Y轴方向移动，因此亦可非透过对粗动载台24呈放射状延伸的连接装置30b，而透过在X轴方向平行的多个连接装置30b连接于粗动载台24。

非接触保持具32，由在俯视时以X轴方向为长边方向的矩形板状(或箱形)构件所构成，以其上面从下方支承基板P。非接触保持具32，具有使基板P不产生挠曲、皱纹等(予以平面矫正)的功能。非接触保持具32固定于基板平台30的上面，与上述基板平台30一体地往X轴方向以长行程移动，且微幅移动于Z倾斜方向。

非接触保持具32的上面(基板支承面)中的四边各自的长度设定为与基板P四边各自的长度大致相同(实际略短)。是以，非接触保持具32，能从下方支承基板P的大致整体，具体而言，能从下方支承基板P上的曝光对象区域(基板P的除了形成于端部近旁的空白区域以外的区域)。

设置于基板载台装置20外部的未图标的加压气体供给装置与真空吸引装置，透过例如管(tube)等的配管构件连接于非接触保持具32。另外，于非接触保持具32的上面(基板载置面)形成有多个与上述配管构件连通的微幅孔部。非接触保持具32，藉由将从上述加压气体供给装置供给的加压气体(例如压缩空气)透过上述孔部(的一部分)对基板P下面喷出而使基板P浮起。另外，非接触保持具32，与上述加压气体的喷出并用，藉由从上述真空吸引装置供给的真空吸引力，来吸引基板P的下面与基板支承面间的空气。藉此，于基板P作用荷重(预装载)，而沿着非接触保持具32的上面被平面矫正。不过，由于在基板P与非接触保持具32间形成间隙，因此不会阻碍基板P与非接触保持具32在与水平面平行的方向的相对移动。

基板载具40是保持基板P的部分，使该基板P相对照明光IL(参照图1)移动于水平面内的3自由度方向(X轴方向、Y轴方向、及θz方向)。基板载具40，形成为在俯视时为矩形的框状(画框状)，在保持有基板P端部(外周缘部)近旁的区域(空白区域)的状态下，相对非接触保持具32沿着XY平面移动。以下，使用图3说明基板载具40的详细情况。

基板载具40如图3所示，具备一对X框架42x与一对Y框架42y。一对X框架42x，分别由延伸于X轴方向的平板状构件所构成，于Y轴方向以既定(较基板P及非接触保持具32在Y轴方向的尺寸宽)间隔配置。另外，一对Y框架42y，分别由延伸于Y轴方向的平板状构件所构成，于X轴方向以既定(较基板P及非接触保持具32在X轴方向的尺寸宽)间隔配置。

+X侧的Y框架42y，透过间隔件42a连接于一对X框架42x各自的+X侧端部近旁。同样地，－X侧的Y框架42y，透过间隔件42a连接于一对X框架42x各自的－X侧端部近旁中的下面。藉此，一对Y框架42y上面的高度位置(Z轴方向的位置)，设定为较一对X框架42x下面的高度位置低(－Z侧)。

另外，于一对X框架42x各自的下面，在X轴方向分离安装有一对吸附垫44。是以，基板载具40，合计具有例如四个吸附垫44。吸附垫44，从一对X框架42x彼此相向的面往彼此对向的方向(基板载具40的内侧)突出配置。例如四个吸附垫44，其水平面内的位置(对X框架42x的安装位置)被设定成以基板P插入一对X框架42x间的状态从下方支承该基板P的四角部近旁(空白区域)。于例如四个吸附垫44分别连接有未图标的真空吸引装置。吸附垫44，藉由从上述真空吸引装置供给的真空吸引力而吸附保持基板P的下面。此外，吸附垫44的数目并不限定于此，能适当变更。

此处，如图2所示，在组合有非接触保持具32与基板载具40的状态下，基板P，藉由基板载具40所具有的吸附垫44而从下方被支承(吸附保持)四角部近旁，且包含中央部的大致全面被非接触保持具32从下方以非接触方式支承。在此状态下，基板P的+X侧及－X侧的端部，从非接触保持具32的+X侧及－X侧的端部分别突出，例如四个吸附垫44(图2中一部分未图示)，吸附保持该基板P的从非接触保持具32突出的部分。亦即，吸附垫44，其对X框架42x的安装位置被设定成在X轴方向位于非接触保持具32外侧。

其次说明用以驱动基板载具40的基板载具驱动系统60(参照图7)。本实施方式中，主控制装置50(参照图7)透过该基板载具驱动系统60，将基板载具40相对于非接触保持具32往Y轴方向以长行程驱动，且微幅驱动于水平面内的3自由度方向。另外，主控制装置50，透过上述的基板平台驱动系统56(参照图7)与基板载具驱动系统60，将非接触保持具32与基板载具40往X轴方向同步地(一体地)驱动。

基板载具驱动系统60如图2所示具备一对Y线性致动器62，该Y线性致动器62包含上述的粗动载台24所具有的Y固定件62a及与该Y固定件62a协同地产生Y轴方向的推力的Y可动件62b。于一对Y线性致动器62各自的Y可动件62b，如图4所示安装有Y固定件64a与X固定件66a。

Y固定件64a，构成与安装于基板载具40(Y框架42y的下面)的Y可动件64b协同地对基板载具40赋予Y轴方向的推力的Y音圈马达64。另外，X固定件66a，构成与安装于基板载具40(Y框架42y的下面)的X可动件66b协同地对基板载具40赋予X轴方向的推力的X音圈马达66。如此，基板载台装置20，于基板载具40的+X侧及－X侧分别具有各一个Y音圈马达64与X音圈马达66。

此处，在基板载具40的+X侧与－X侧，Y音圈马达64及X音圈马达66，分别以基板P的重心位置为中心配置成点对称。是以，在使用基板载具40的+X侧的X音圈马达66与基板载具40的－X侧的X音圈马达66对基板载具40作用往X轴方向的推力时，可得到与对基板P的重心位置作用往与X轴方向平行的推力者相同的效果，亦即能抑制对基板载具40(基板P)作用θz方向的力矩。此外，关于一对Y音圈马达64，由于隔着在X轴方向的基板P的重心(线)配置，因此不会对基板载具40作用θz方向的力矩。

基板载具40，透过上述一对Y音圈马达64及一对X音圈马达66，藉由主控制装置50(参照图7)而相对粗动载台24(亦即非接触保持具32)被往水平面内的3自由度方向微幅驱动。另外，主控制装置50，在粗动载台24(亦即非接触保持具32)往X轴方向以长行程移动时，使用上述一对X音圈马达66对基板载具40赋予X轴方向的推力，以使非接触保持具32与基板载具40一体地往X轴方向以长行程移动。

另外，主控制装置50(参照图7)，使用上述一对Y线性致动器62及一对Y音圈马达64，使基板载具40相对于非接触保持具32往Y轴方向以长行程相对移动。具体说明之，主控制装置50，一边使一对Y线性致动器62的Y可动件62b移动于Y轴方向，一边使用包含安装于该Y可动件62b的Y固定件64a的Y音圈马达64使Y轴方向的推力作用于基板载具40。藉此，基板载具40，与非接触保持具32独立(分离)地往Y轴方向以长行程移动。

如上述，本实施方式的基板载台装置20中，保持基板P的基板载具40，在X轴(扫描)方向与非接触保持具32一体地以长行程移动，在Y轴方向，则与非接触保持具32独立地以长行程移动。此外，从图2可知，虽吸附垫44的Z位置与非接触保持具32的Z位置一部分重复，但基板载具40相对非接触保持具32以长行程移动的方向仅为Y轴方向，因此不会有吸附垫44与非接触保持具32接触之虞。

另外，在基板平台30(亦即非接触保持具32)被驱动于Z倾斜方向的情形时，被非接触保持具32平面矫正后的基板P，由于与非接触保持具32一起在Z倾斜方向变化姿势，因此吸附保持基板P的基板载具40，会与该基板P一起在Z倾斜方向变化姿势。此外，亦可藉由吸附垫44的弹性变形使基板载具40的姿势不变化。

返回图1，一对辅助平台34，是在基板载具40与非接触保持具32分离而往Y轴方向相对移动时与非接触保持具32协同动作而支承该基板载具40所保持的基板P的下面的装置。如上所述，基板载具40，由于在保持有基板P的状态下相对非接触保持具32移动，因此在从例如图1所示的状态基板载具40往+Y方向移动后，基板P的+Y侧的端部近旁则变得不被非接触保持具32支承。因此，基板载台装置20，为了抑制上述基板P中不被非接触保持具32支承的部分的自重所导致的弯曲，使用一对辅助平台34中的一方从下方支承该基板P。一对辅助平台34，除了配置成纸面左右对称这点以外，其余实质上为相同构造。

辅助平台34如图3所示具有多个空气浮起单元36。此外，本实施方式中，空气浮起单元36虽形成为延伸于Y轴方向的棒状，多个空气浮起单元36是在X轴方向隔着既定间隔配置的构成，但只要能抑制因基板P自重所导致的弯曲，则其形状、数目、配置等不特别限定。多个空气浮起单元36如图4所示，被从基板平台30侧面突出的臂状支承构件36a从下方支承。于多个空气浮起单元36与非接触保持具32之间形成有微幅间隙。

空气浮起单元36上面的高度位置设定为与非接触保持具32上面的高度位置大致相同(或略低)。空气浮起单元36，藉由从其上面对基板P下面喷出气体(例如空气)而以非接触方式支承该基板P。此外，上述的非接触保持具32，虽使预装载作用于基板P来进行基板P的平面矫正，但空气浮起单元36，由于只要能抑制基板P的弯曲即可，因此亦可单仅对基板P下面供给气体，而不特别管理在空气浮起单元36上的基板P的高度位置。

其次，说明用以测量基板P在6自由度方向的位置信息的水平面内位置测量系统70。基板位置测量系统包含：用以求出基板平台30在与水平面交叉的方向的位置信息(Z轴方向的位置信息、θx及θy方向的旋转量信息。以下称为“Z倾斜位置信息”)的Z倾斜位置测量系统58(参照图7)、以及用以求出基板载具40在XY平面内的位置信息(X轴方向、及Y轴方向的位置信息、以及θz方向的旋转量信息)的水平面内位置测量系统70(参照图7)。

Z倾斜位置测量系统58(参照图7)，如图2所示包含固定在基板平台30下面且固定于球面轴承装置26c周围的多个(至少三个)雷射位移仪58a。雷射位移仪58a，藉由对固定于重量消除装置26的壳体的靶58b照射测量并接收其反射光，而将在该测量光的照射点的基板平台30在Z轴方向的位移量信息供给至主控制装置50(参照图7)。例如，至少三个雷射位移仪58a配置于不在同一直在线的三处(例如对应正三角形顶点的位置)，主控制装置50，根据该至少三个雷射位移仪58a的输出，求出基板平台30(亦即基板P)的Z倾斜位置信息。重量消除装置26，由于沿着X导杆28的上面(水平面)移动，因此主控制装置50，不论基板平台30的X位置为何均能测量基板平台30相对水平面的姿势变化。

水平面内位置测量系统70(参照图7)如图1所示具有一对读头单元72。一方的读头单元72配置于投影光学系统16的－Y侧，另一方的读头单元72配置于投影光学系统16的+Y侧。

一对读头单元72的各个，使用基板载具40所具有的反射型绕射格子来求出基板P在水平面内的位置信息。与一对读头单元72对应地，于基板载具40的一对X框架42x各自的上面，如图3所示贴附有多个(图3中为例如六片)标尺板46。标尺板46由延伸于X轴方向的俯视带状的构件构成。标尺板46的X轴方向长度较X框架42x的X轴方向长度短，多个标尺板46在X轴方向相隔既定间隔(彼此分离地)排列。

图5显示+Y侧的X框架42x及对应此的读头单元72。于固定于X框架42x上的多个标尺板46的各个形成有X标尺48x与Y标尺48y。X标尺48x形成于标尺板46的－Y侧的一半区域，Y标尺48y形成于标尺板46的+Y侧的一半区域。X标尺48x具有反射型X绕射格子，Y标尺48y具有反射型Y绕射格子。此外，图5中为了容易理解，形成X标尺48x、Y标尺48y的复数条格子线间的间隔(节距)图示成较实际宽。

读头单元72，如图4所示具备Y线性致动器74、藉由该Y线性致动器74而相对投影光学系统16(参照图1)被往Y轴方向以既定行程驱动的Y滑件76、以及固定于Y滑件76的多个测量读头(X编码器读头78x,80x、Y编码器读头78y,80y)。除了在图1及图4中构成为纸面左右对称这点除外，一对读头单元72为相同构成。另外，分别固定于一对X框架42x上的多个标尺板46，亦在图1及图4中构成为左右对称。

Y线性致动器74固定于装置本体18所具有的上架台部18a的下面。Y线性致动器74，具备将Y滑件76往Y轴方向直进导引的线性导件与对Y滑件76赋予推力的驱动系统。线性导件的种类虽无特别限定，但较佳为重复再现性高的空气轴承。另外，驱动系统的种类亦无特别限定，能使用例如线性马达、皮带(或金属线)驱动装置等。

Y线性致动器74由主控制装置50(参照图7)控制。Y线性致动器74所致的Y滑件76往Y轴方向的行程量，设定为与基板P(基板载具40)往Y轴方向的行程量同等。

读头单元72，如图5所示具备一对X编码器读头78x(以下称为“X读头78x”)及一对Y编码器读头78y(以下称为“Y读头78y”)。一对X读头78x、一对Y读头78y，分别在X轴方向相隔既定距离分离配置。

X读头78x及Y读头78y例如是美国专利申请公开第2008/0094592号说明书所开示的所谓绕射干涉方式的编码器读头，对对应的标尺(X标尺48x、Y标尺48y)朝下(－Z方向)照射测量光束，并接收来自该标尺的光束(返回光)，藉此将基板载具40的位移量信息供给至主控制装置50(参照图7)。

亦即，水平面内位置测量系统70(参照图7)，构成用以藉由一对读头单元72所具有的合计例如四个X读头78x、对向于该X读头78x的X标尺48x来求出基板载具40在X轴方向的位置信息的例如四个X线性编码器系统。同样地，构成用以藉由一对读头单元72所具有的合计例如四个Y读头78y、对向于该Y读头78y的Y标尺48y来求出基板载具40在Y轴方向的位置信息的例如四个Y线性编码器系统。

此处，读头单元72所具有的一对X读头78x及一对Y读头78y各自在X轴方向的间隔设定为较相邻的标尺板46间的间隔宽。藉此，X编码器系统及Y编码器系统，不论基板载具40的X轴方向的位置为何，一对X读头78x中始终有至少一方对向于X标尺48x且一对Y读头78y中有至少一方始终对向于Y标尺48y。

具体而言，主控制装置50(参照图7)，在一对X读头78x均对向于X标尺48x的状态下，根据该一对X读头78x的输出的平均值求出基板载具40的X位置信息。另外，主控制装置50，在仅一对X读头78x的一方对向于X标尺48x的状态下，仅根据该一方的X读头78x的输出求出基板载具40的X位置信息。是以，X编码器系统，能将基板载具40的位置信息不中断地供给至主控制装置50。关于Y编码器系统亦相同。

此处，如上所述，本实施方式的基板载具40，由于亦能在Y轴方向以既定长行程移动，因此主控制装置50(参照图7)，以维持X读头78x、Y读头78y的各个与对应的标尺48x,48y的对向状态的方式，与基板载具40在Y轴方向的位置相应地将一对读头单元72各自的Y滑件76(参照图4)以追随基板载具40的方式透过Y线性致动器74(参照4)驱动于Y轴方向。主控制装置50，将Y滑件76(亦即各读头78x,78y)在Y轴方向的位移量(位置信息)与来自各读头78x,78y的输出合并，综合地求出基板载具40的水平面内的位置信息。

Y滑件76(参照图4)在水平面内的位置(位移量)信息，藉由与使用了上述X读头78x、Y读头78y的编码器系统同等的测量精度的编码器系统96来求出。Y滑件76，如从图4及图5可知，具有一对X编码器读头80x(以下称为“X读头80x”)及一对Y编码器读头80y(以下称为“Y读头80y”)。一对X读头80x及一对Y读头80y，分别在Y轴方向相隔既定距离分离配置。

主控制装置50(参照图7)，使用固定于装置本体18的上架台部18a(分别参照图1)下面的多个标尺板82，求出Y滑件76在水平面内的位置信息。标尺板82，由延伸于Y轴方向的俯视带状的构件所构成。本实施方式中，于一对读头单元72各自的上方，在Y轴方向相隔既定间隔(彼此分离地)配置有例如两片标尺板82。

如图5所示，于标尺板82下面中的+X侧区域，与上述一对X读头80x对向地形成有X标尺84x，于标尺板82下面中的－X侧区域，与上述一对Y读头80y对向地形成有Y标尺84y。X标尺84x,Y标尺84y，是与形成于上述标尺板46的X标尺48x,Y标尺48y实质上相同构成的光反射型绕射格子。另外，X读头80x、Y读头80y亦为与上述X读头78x、Y读头78y(朝下读头)相同构成的绕射干涉方式的编码器读头。

一对X读头80x及一对Y读头80y，对对应的标尺(X标尺84x、Y标尺84y)朝上方(+Z方向)照射测量光束，并接收来自该标尺的光束，藉此将Y滑件76(参照图4)在水平面内的位移量信息供给至主控制装置50(参照图7)。一对X读头80x及一对Y读头80y各自在Y轴方向的间隔设定为较相邻的标尺板82间的间隔宽。藉此，不论Y滑件76的Y轴方向的位置为何，一对X读头80x中始终有至少一方对向于X标尺84x且一对Y读头80y中有至少一方始终对向于Y标尺84y。是以，能将Y滑件76的位置信息不中断地供给至主控制装置50(参照图7)。

对准测量系统90如图7所示，具备在基板P(参照图1)对基板载台装置20(参照图1)的装载(搬入)动作后检测基板P端部的位置的预对准传感器92,94、以及检测形成于基板P的对准标记的精密对准传感器96(以下单称为“对准传感器96”)。

如图6(a)所示，预对准传感器92，在使非接触保持具32及基板载具40位于既定装载位置(基板交换位置)的状态下，于能检测出基板P的+X侧端部的位置配置有例如一个。另外，预对准传感器94，在能检测出上述装载位置中的基板P的+Y侧端部的位置在X轴方向分离配置有例如两个。

预对准传感器92是公知的边缘传感器，如图6(b)所示具备光源92a、受光部92b。光源92a，藉由固定于例如装置本体18(参照图1)而配置于基板P的上方，受光部92b，隔着基板P(于基板P下方)与光源92a对向配置。从光源92a照射的测量光的与光轴正交的剖面是延伸于X轴方向的线状(参照图6(a))，受光部92b，藉由接收该测量光而检测出基板P的+X侧端部。预对准传感器94，是除了测量光的与光轴正交的剖面为延伸于Y轴方向的线状(参照图6(a))这点以外，其余与预对准传感器92相同构成(光源94a及受光部94b)的边缘传感器。此外，图6(a)为了容易理解，仅图示从光源92a,94a照射的测量光，对该测量光赋予与预对准传感器92,94相同符号。

主控制装置50(参照图7)，根据例如一个预对准传感器92的受光部92b及例如两个预对准传感器94各自的受光部94b的输出，进行基板P在水平面内3自由度方向的大致的(粗略的)位置测量。基板P，由于会有藉由例如未图标装载装置搬送至基板载台装置20上时旋转于θz方向的情形，因此主控制装置50在该旋转量超过既定临限值时即进行基板P的预装载(搬入动作的重新进行)。另外，只要基板P的旋转量在上述临限值内，则藉由基板载具40保持基板P。另外，根据需要，使保持有基板P的基板载具40旋转于θz方向以进行基板P的位置的微调整。

对准传感器96如图6(b)所示，在投影光学系统16的+X侧且在Y轴方向以既定间隔设有例如六个(图1、图2中未图示)。另外，于基板P上，如图6(a)所示形成有多个对准标记Mk(以下单称为“标记Mk”)。具体而言，于基板P上，在X轴方向以既定间隔，形成有例如四列在Y轴方向彼此分离的例如六个标记Mk(亦即合计为24个标记Mk)所构成的标记列。另外，如后所述，本实施方式中，于基板P设定有例如四个照射区域(矩形区划区域)S1～S4，标记Mk于一个照射区域内形成有例如六个。更详细说明之，于一个照射区域内，在+X侧的端部近旁形成有例如三个标记Mk，且于－X侧的端部近旁形成有例如三个标记Mk。

此外，标记Mk的数目及配置，可视例如照射区域的数目等而适当变更。另外，图6(a)等的俯视图中虽标记Mk以白圆圈显示，但实际的标记形状不限定于此，亦能适当变更。另外，在图6(a)等，为了容易理解，标记Mk图标成较实际大很多。另外，标记Mk亦可形成于相邻的照射区域间的区域(亦即照射区域的外侧)。

上述的例如六个对准传感器96在Y轴方向的间隔，设定成与形成上述标记列的例如六个标记Mk在Y轴方向的间隔大致相同。藉此，例如六个对准传感器96在X轴方向的位置相同，能同时检测出例如六个对准标记Mk。此外，本实施方式中，由于六个对准传感器96同时检测六个标记Mk，因此在图6(a)等的俯视图中，对例如六个对准传感器96的检测区域(延伸于Y轴方向的带状区域)赋予与对准传感器96相同的符号。

另外，以六个对准传感器96形成的检测区域(参照图6(a)的符号96)在Y轴方向的中心，以与以投影光学系统16(参照图6(b))形成于基板P上的曝光区域IA在Y轴方向的中心大致一致的方式，设定例如六个对准传感器96的安装位置。另外，X导杆28(亦即非接触保持具32)在Y轴方向的中心位置，与曝光区域IA在Y轴方向的中心位置大致一致。因此，例如六个对准传感器96，在以基板P的大致全部被非接触保持具32支承的方式定位基板载具40的Y位置的状态下，同时检测检测对象的例如六个对准标记Mk。例如六个对准传感器96的输出被供给至主控制装置50(参照图7)。关于根据对准传感器96而由主控制装置50进行的精密对准动作，留待后述。

图7是显示表示以液晶曝光装置10(参照图1)的控制系统为中心构成且统筹控制构成各部的主控制装置50的输出入关系的方块图。主控制装置50包含工作站(或微电脑)等，统筹控制液晶曝光装置10的构成各部。

其次，使用图8(a)～图15(b)说明使用本实施方式的液晶曝光装置10的曝光动作。此处，以下说明中，虽说明于一片基板P上设定有四个照射区域的情形(所谓撷取4面的情形)，但设定于一片基板P上的照射区域的数目及配置能适当变更。另外，本实施方式中，曝光处理，作为一例，说明从设定在基板P的－Y侧且+X侧的第1照射区域S1开始进行。另外，为了避免图式过于复杂，图8(a)～图10(b)中省略了基板载台装置20所具有的要素的一部分。另外，本实施方式中，于基板P上，藉由迭合转印多个光罩图案来形成多个层(阶层)，以下说明中，说明形成第2层以后的图案的情形，亦即于已形成有至少一次图案(及多个标记Mk)的基板P重迭形成图案的情形。

液晶曝光装置10(参照图1)，在主控制装置50(参照图7)的管理下，藉由未图示的光罩装载器对光罩载台14上进行光罩M的装载，且藉由未图示的基板装载器进行基板P对基板载台装置20(基板载具40及非接触保持具32)上的装载。主控制装置50在基板P对基板载台装置20的装载后，即进行使用前述预对准传感器92,94(参照图6(a)及图6(b))的预对准动作。

预对准动作后，主控制装置50(参照图7)进行使用了多个对准传感器96的精密对准动作。如上所述，由于本实施方式中，从设定在基板P的－Y侧且+X侧的第1照射区域S1(参照图6(a))开始扫描曝光，因此主控制装置50在该第1照射区域S1的曝光动作前，进行形成于基板P的+X侧的一半的例如12个标记Mk的检测。

主控制装置50(参照图7)如图8(a)所示，以形成于基板P上的例如四个标记列中从+X侧起算第二个标记列位于多个对准传感器96的正下方近处的方式，控制板载台装置20进行基板P的定位，在此状态下，如图8(b)所示，多个对准传感器96测量定位于正下方近处的标记Mk(图8(b)中未图示。参照图8(a)中涂黑的标记Mk)在XY平面内的位置。

其次，主控制装置50(参照图7)如图9(a)所示，控制基板载台装置20，以形成于基板P上的例如四个标记列中形成在最靠+X侧的标记列位于多个对准传感器96的正下方近处的方式，进行基板P的定位，在此状态下，如图9(b)所示，多个对准传感器96测量定位于正下方近处的标记Mk(图9(b)中未图示。参照图9(a)中涂黑的标记Mk)在XY平面内的位置。

主控制装置50(参照图7)，根据经上述两次的对准标记Mk的测量动作而求出的合计12个标记Mk的位置信息，藉由公知的加强型全晶圆对准(EGA)方式，算出第1照射区域S1(参照图6(a))的排列信息(包含关于区划区域的位置(坐标值)、形状等信息)。此外，本实施方式中，为了抑制往次一步骤的第1照射区域S1的曝光动作移行时的基板载台装置20的移动量，最初虽在检测从+X侧算起第二列的标记列后，检测最靠+X侧的标记列，但上述检测的顺序亦可为相反。

如上所述，标记列的检测动作，在Y轴方向使非接触保持具32的中心与曝光区域IA的中心在大致一致的状态下进行。因此，主控制装置50(参照图7)，在第1照射区域S1的排列信息的算出后，为了进行该第1照射区域S1的扫描曝光动作而如图10(a)所示，使基板载具40相对非接触保持具32往+Y方向以既定(基板P在Y轴方向的长度的一半程度)的行程驱动，藉此于既定曝光开始位置定位基板P。此时，虽基板P的+Y侧的端部近旁由于会从非接触保持具32脱离而不进行平面矫正，但包含曝光对象的第1照射区域S1(参照图6(a))的区域，由于会维持已进行平面矫正的状态，因此不会对曝光精度造成影响。另外，以曝光区域IA位于基板P外侧(+X侧)的方式，非接触保持具32、一对辅助平台34、及基板载具40一体地被往－X方向驱动。

此后，如图11(a)及图11(b)所示，非接触保持具32、一对辅助平台34、及基板载具40一体地被往+X方向驱动(加速、等速移动、减速)(参照图11(a)的黑箭头)。投影光学系统16，对等速移动的基板P投射通过光罩M(参照图1)的照明光IL(图11(a)中未图示)。此时，主控制装置50(参照图7)，根据未图示的光罩对准系统的输出与上述排列信息的算出结果，一边进行基板载具40在水平面内3自由度方向的微幅定位(参照图11(a)的白色箭头及θz方向)，一边将基板P相对照明光IL(曝光区域IA)往+X方向移动。另外，液晶曝光装置10(参照图1)，与上述精密对准动作并行地，事前进行使用了未图示自动聚焦传感器(基板P的面位置测量系统)的聚焦映像(focus mapping)，在上述扫描曝光动作时，主控制装置50依据该聚焦映射的结果，将非接触保持具32往Z倾斜方向适当地微幅驱动。此外，图11(a)及图11(b)显示在对第1照射区域S1的扫描曝光动作结束后一刻的基板载台装置20。此外，虽说明液晶曝光装置10是在事前进行用以定位基板P的Z方向位置的聚焦映像，但亦可不事前进行，而是一边进行扫描曝光动作，一边在扫描曝光前一刻随时进行聚焦映射。

其次，主控制装置50(参照图7)，为了进行对设定在第1照射区域S1的+Y侧的第2照射区域S2(参照图6(a))的曝光动作，而如图12(a)及图12(b)所示，将基板载具40相对非接触保持具32往－Y方向驱动。

主控制装置50(参照图7)，从图12(a)所示的状态，如图13(a)及图13(b)所示，一边将基板载具40及非接触保持具32往－X方向驱动，一边对基板P投射照明光IL，而于第2照射区域S2转印光罩图案。此时，虽基板P的－Y侧的端部近旁亦往非接触保持具32的外侧突出，但由于第2照射区域S2已藉由非接触保持具32进行平面矫正，因此不会影响曝光精度。

此处，主控制装置50(参照图7)，根据藉由对上述第1照射区域S1的曝光动作前所进行的对准测量动作(图8(a)～参照图9(b))而求出的12个标记Mk的位置信息，求出第2照射区域S2的排列信息，并一边根据该排列信息将基板P微幅定位于3自由度方向一边进行第2照射区域S2的扫描曝光。亦即，本实施方式中，由于藉由多个(本实施方式中为例如六个)对准传感器96将对准测量区域跨第1及第2照射区域S1、S2形成，因此主控制装置50，能藉由两次标记检测动作，检测形成于第1及第2照射区域S1、S2的所有标记Mk。接着，主控制装置50，在第1及第2照射区域S1、S2的扫描曝光动作前检测形成于该第1及第2照射区域S1、S2的所有标记Mk。是以，主控制装置50，即在第2照射区域S2的曝光动作前不再度检测该第2照射区域S2内的标记Mk(仅进行排列信息的算出)，而将第1及及第2照射区域S1、S2连续曝光。

在第2照射区域S2的扫描曝光动作结束后，主控制装置50(参照图7)，为了进行对第3及第4照射区域S3、S4(分别参照图6(a))的扫描曝光，而进行形成于该第3及第4照射区域S3、S4内的标记Mk的检测动作。主控制装置50，与上述第1及第2照射区域S1、S2内的标记检测动作时同样地，如图14(a)及图14(b)所示，将基板载具40往+Y方向驱动，以基板P的大致整体被非接触保持具32支承(平面矫正)的方式进行基板P的定位。

主控制装置50(参照图7)，将非接触保持具32、一对辅助平台34、以及基板载具40一体地往+X方向驱动，以形成于基板P上的例如四个标记列中从+X侧观看时第3列标记列位于多个对准传感器96的正下方近处的方式，进行基板P的定位，在此状态下，如图14(b)所示，多个对准传感器96测量定位在正下方近处的标记Mk(图14(b)中未图示。参照图14(a)中涂黑的标记Mk)在XY平面内的位置。

其次，主控制装置50(参照图7)如图15(a)所示，控制基板载台装置20，以形成于基板P上的例如四个标记列中形成于最靠－X侧的标记列位于多个对准传感器96的正下方近处的方式，进行基板P的定位，在此状态下，如图15(b)所示，多个对准传感器96测量定位在正下方近处的标记Mk(图15(b)中未图示。参照图15(a)中涂黑的标记Mk)在XY平面内的位置。主控制装置50，根据藉由上述两次对准标记Mk的测量动作求出的合计例如12个标记Mk的位置信息，透过EGA方式算出第3及第4照射区域S3、S4(参照图6(a))的排列信息。

以下，未图标的主控制装置50(参照图7)，与对上述第1及第2照射区域S1、S2的扫描曝光动作(图10(a)～图13(b))同样地，一边根据上述排列信息适当控制基板载台装置20，一边依序进行对第3及第4照射区域S3、S4的扫描曝光动作。

根据以上说明的本实施方式的液晶曝光装置10，包含例如六个对准传感器96的精密对准测量系统，由于能同时检测跨多个照射区域(在上述实施方式中为第1及第2照射区域S1、S2或第3及第4照射区域S3、S4)的多个标记Mk，因此与假使就各照射区域进行标记检测动作的情形相较，能缩短标记测量时间。是以，整体的产能提升。

另外，非接触保持具32，由于具有将基板P大致全面予以平面矫正的大小，因此如上所述，即使是进行跨多个照射区域的标记Mk的同时位置测量的情形，亦能使该多个照射区域成为平面矫正后的状态。是以，能切实地求出多个标记Mk的位置信息。

《第2实施方式》

其次，使用图16(a)及图16(b)说明第2实施方式。第2实施方式的液晶曝光装置的构成中，用以将基板P相对投影光学系统16(参照图1)高精度定位的基板载台装置120的构成与上述第1实施方式相异。以下，针对本第2实施方式，仅就与上述第1实施方式的相异点进行说明，对具有与上述第1实施方式相同构成及功能的要素，赋予与上述第1实施方式相同符号而省略其说明。

上述第1实施方式中，保持基板P的框状(画框状)的基板载具40能相对非接触保持具32往非扫描方向(Y轴方向)独立地以既定行程移动(参照图1等)，相较于此，图16(a)及图16(b)所示的本第2实施方式中的基板载台装置120中，基板载具140分别在扫描方向(X轴方向)及非扫描方向与非接触保持具32一体地以既定长行程移动，此点相异。基板载具140能相对非接触保持具32往水平面内3自由度方向以微幅行程移动这点，则与上述第1实施方式的基板载台装置20相同。

更详细说明之，本第2实施方式中，粗动载台124构成为能往X轴及Y轴方向以既定长行程移动。用以使粗动载台124往Y轴方向以长行程移动的构成虽无特别限定，但能使用例如美国专利申请公开第2012/0057140号说明书等所揭示的公知的门型XY载台装置。另外，重量消除装置26，以与粗动载台124一体地往X轴及Y轴方向以既定长行程移动的方式连接于粗动载台124。另外，X导杆28(参照图1等)亦能往Y轴方向以既定长行程移动。用以使X导杆28往Y轴方向以长行程移动的构成虽无特别限定，但例如可机械式地连接于上述XY载台装置中的Y载台。粗动载台124与基板平台30透过多个连接装置30b(挠曲装置)机械式地(不过以可微幅移动于Z倾斜方向的状态)连接这点与上述第1实施方式相同。藉此，基板平台30及非接触保持具32，与粗动载台124一体地往X轴及Y轴方向以既定长行程移动。

基板载具140具有形成为俯视时为矩形的框状的本体部142与固定于该本体部142上面的吸附部144。吸附部144亦与本体部142同样地，形成为俯视时为矩形的框状。基板P被吸附部144例如真空吸附保持。上述非接触保持具32，以相对吸附部144的内壁面形成有既定间隙的状态插入于该吸附部144所具有的开口内。非接触保持具32于基板P作用荷重(预装载)而以非接触予以平面矫正这点与上述第1实施方式相同。

另外，从基板平台30的下面，有复数片(本实施方式中例如四片)导板148沿水平面延伸成放射状。基板载具140，与上述多个导板148对应地具有包含空气轴承的多个垫146，藉由从该空气轴承对导板148上面喷出的加压气体的静压，而以非接触状态载置于导板148上。由于在基板平台30被往Z倾斜方向微幅驱动的情形，上述多个导板148亦与基板平台30一体地移动于Z倾斜方向(姿势变化)，因此在基板平台30的姿势变化时，该基板平台30、非接触保持具32及基板载具140(亦即基板P)一体地变化姿势。

另外，基板载具140，透过包含该基板载具140所具有的可动件与基板平台30所具有的固定件的多个线性马达152(X音圈马达及Y音圈马达)相对基板平台30被往水平面内的3自由度方向微幅驱动。另外，在基板平台30沿XY平面以长行程移动时，以基板平台30与基板载具140一体地沿着XY平面以长行程移动的方式，藉由上述多个线性马达152对基板载具140赋予推力这点与上述第1实施方式相同。

于基板载具140上面中的+Y侧及－Y侧的端部近旁，与上述第1实施方式同样地分别固定有多个标尺板46。使用标尺板46求出基板载具140(亦即基板P)在水平面内3自由度方向的位置信息的手法，由于与上述第1实施方式相同，因此省略说明。

本第2实施方式亦同样地，于基板P上，在X轴方向以既定间隔形成有例如四列包含于Y轴方向以既定间隔配置的例如六个标记Mk的标记列，主控制装置50(参照图7)，以该标记列位于多个对准传感器96的检测视野内的方式，使非接触保持具32及基板载具140一体地往X轴方向。另外，上述第1实施方式中，虽在照射区域间移动(Y步进移动)时，基板载具40相对非接触保持具32往Y轴方向以长行程移动(参照图12(a)等)，但本第2实施方式中，在上述Y步进动作时，非接触保持具32及基板载具140一体地往Y轴方向移动。关于使用本第2实施方式的基板载台装置120的曝光动作，由于与使用习知XY载台的基板P的曝光动作相同，因此省略说明。本第2实施方式亦能得到与上述第1实施方式相同的效果。

此外，上述第1及第2各实施方式中所说明的构成能适当变更。例如上述各实施方式中，由于有可能产生因对第1及第2照射区域S1、S2的扫描曝光而导致基板P产生形状变化(扭曲等)，而在对第1及第2照射区域S1、S2的扫描曝光后才进行第3及第4照射区域S3、S4的对准测量动作，但并不限于此，亦可在例如第1照射区域S1的曝光动作前进行所有(第1～第4照射区域S1～S4内)标记Mk的检测动作，并根据该检测结果，连续进行所有照射区域S1～S4的曝光动作。此情形下，可提升产能。

另外，上述各实施方式中，虽藉由X轴方向的位置相同且在Y轴方向以既定间隔排列的例如六个对准传感器96所构成的传感器群，同时检测出基板P上的例如六个标记Mk，但对准传感器96的数目及配置并不限定于此，能适当变更。例如，亦可除了上述传感器群外再配置相同构成的例如六个对准传感器96所构成的另一传感器群。此情形下，可将上述两个传感器群在X轴方向的间隔设定成能同时检测在从+Y方向观看时的第一个与第二个标记列(及第三个与第四个标记列)，而能藉由一次标记检测动作进行第1及第2照射区域S1、S2(或第3及第4照射区域S3、S4)内的所有标记Mk的位置测量。

另外，上述各实施方式中，基板载具40等，虽藉由沿着基板P外周缘部(四边)的例如四支框架构件(第1实施方式中为一对X框架42x及一对Y框架42y)形成为矩形框状，但只要能确实地进行基板P的吸附保持，则并不限于此，基板载具40等亦可由沿着例如基板P的外周缘部中的一部分的框架构件来构成。具体而言，基板载具，亦可由沿着基板P的三边的例如三支框架构件而形成为俯视U字形，或者，亦可由沿着基板P的相邻两边的例如两支框架构件而形成为俯视L字形。另外，基板载具，亦可由沿着基板P的一边的例如仅一支框架构件来形成。另外，基板载具，亦可藉由保持基板P的彼此相异的部分且彼此独立地进行位置控制的多个构件来构成。

此外，Z倾斜位置测量系统58，虽如图2或图13所示，藉由设于基板平台30下面的雷射位移仪58a，对固定在重量消除装置26的壳体的靶58b照射测量光，并接收其反射光来取得基板平台30在Z轴方向的位移量信息，但不限定于此。亦可取代Z倾斜位置测量系统58，将Z传感器读头78z与X读头78x及Y读头78y一起配置于读头单元72。作为Z传感器读头78z，可使用例如雷射位移仪。于X框架42x中未配置有与X读头78x及Y读头78y对向的标尺的区域，藉由镜面加工形成反射面。Z传感器读头78z，藉由对反射面照射测量光束并接收来自其反射面的反射光束，来求出该测量光束的照射点中的基板载具40、440在Z轴方向的位移量信息。此外，Z读头78z额种类，只要能以所欲精度(解析能力)且以非接触方式测量以装置本体18(参照图1)作为基准的基板载具40、440(更详细而言为X框架42x)在Z轴方向的位移，则不特别限定。

另外，虽藉由X编码器读头78x及Y编码器读头78y求出基板P及Y滑件76各自在XY平面内的位置信息，但亦可使用例如能测量Z轴方向的位移量信息的二维编码器读头(XZ编码器读头或YZ编码器读头)，与基板P及Y滑件76各自在XY平面内的位置信息一并求出基板P及Y滑件76各自的Z倾斜位移量信息。此情形下，能省略用以求出基板P的Z倾斜位置信息的Z倾斜位置测量系统58或Z传感器读头78z。此外，此情形下，为了求出基板P的Z倾斜位置信息，由于必须随时有两个朝下的Z读头对向于标尺板46，因此较佳为藉由与X框架42x相同程度的长度的一片长条标尺板构成标尺板46、或者将上述二维编码器读头在X轴方向以既定间隔配置例如三个以上。

另外，上述各实施方式中，虽多个标尺板46在X轴方向以既定间隔配置，但并不限于此，亦可使用例如以与基板载具40等的X轴方向长度相同程度的长度形成的长条的一片标尺板。此情形下，由于随时维持标尺板与读头的对向状态，因此各读头单元72所具有的X读头78x、Y读头78y可分别为一个。关于标尺板82亦相同。在设置多个标尺板46的情形，各标尺板46的长度亦可互异。例如，藉由将延伸于X轴方向的标尺板的长度设定为较照射区域在X轴方向的长度长，即能避免扫描曝光动作时读头单元72跨不同标尺板46进行基板P的位置控制。另外，在(例如撷取4面的情形与撷取6面的情形)，可在配置于投影光学系统16的一侧额标尺与配置于另一侧的标尺使彼此长度相异。

另外，上述各实施方式中，基板载具40等的水平面内的位置测量虽使用编码器系统来进行，但不限于此，亦可于例如基板载具40安装分别延伸于X轴方向及Y轴方向的棒反射镜，并藉由使用了该棒反射镜的干涉仪系统，来进行基板载具40等的位置测量。另外，上述各实施方式的编码器系统，虽基板载具40等具有标尺板46(绕射格子)且读头单元72具有测量读头的构成，但不限于此，亦可是基板载具40等具有测量读头，与该测量读头同步移动的标尺板安装于装置本体18(与上述各实施方式为相反的配置)。

另外，上述各实施方式中，非接触保持具32虽以非接触方式支承基板P，但只要不阻碍基板P与非接触保持具32在与水平面平行的方向的相对移动，则并不限于此，亦可透过例如滚珠等滚动体来以接触状态支承。

另外，照明系统12所使用的光源及从该光源照射的照明光IL的波长并无特别限定，例如可为ArF准分子雷射光(波长193nm)、KrF准分子雷射光(波长248nm)等的紫外光、或F2雷射光(波长157nm)等的真空紫外光。

另外，上述各实施方式中，作为投影光学系统16虽使用等倍系统，但并不限于此，亦可使用缩小系统或放大系统。

另外，曝光装置的用途不限于将液晶显示组件图案转印至方型玻璃板片的液晶用曝光装置，亦能广泛的适用于有机EL(Electro-Luminescence)面板制造用的曝光装置、半导体制造用的曝光装置、用以制造薄膜磁头、微机器及DNA芯片等的曝光装置。此外，不仅仅是半导体组件等的微组件，为制造光曝光装置、EUV曝光装置、X线曝光装置及电子束曝光装置等所使用的光罩或标线片，而将电路图案转印至玻璃基板或硅晶圆等曝光装置，亦能适用。

另外，作为曝光对象的物体不限于玻璃板，亦可以是晶圆、陶瓷基板、薄膜构件、或光罩母板(空白光罩)等其他物体。此外，曝光对象物为平面显示器用基板的情形，该基板的厚度无特限定，亦包含薄膜状(具可挠性的片状构件)者。另外，本实施方式的曝光装置，在一边长度、或对角长500mm以上的基板为曝光对象物时尤其有效。另外，在曝光对象的基板为具有可挠性的片状时，该片体亦可形成为滚轴状。

液晶显示组件(或半导体组件)等的电子组件，是经由进行组件的功能性能设计的步骤、依据此设计步骤制作光罩(或标线片)的步骤、制作玻璃基板(或晶圆)的步骤、以上述各实施方式的曝光装置及其曝光方法将光罩(标线片)的图案转印至玻璃基板的微影步骤、对曝光后的玻璃基板进行显影的显影步骤、将残存抗蚀剂部分以外的部分的露出构件以蚀刻加以去除的蚀刻步骤、将蚀刻后不要的抗蚀剂去除的抗蚀剂除去步骤、以及组件组装步骤、检查步骤等而制造出。此情形，由于于微影步骤使用上述实施方式的曝光装置实施前述曝光方法，于玻璃基板上形成组件图案，因此能以良好的生产性制造高积体度的组件。

此外，援用与上述实施方式引用的曝光装置等相关的所有美国专利申请公开说明书及美国专利说明书的揭示作为本说明书记载的一部分。

产业上可利用性

如以上所说明，本发明的曝光装置及曝光方法，适于透过光学系统一边以照明光扫描物体一边进行曝光。另外，本发明的平面显示器的制造方法适于平面显示器的生产。另外，本发明的组件制造方法，适于微型组件的生产。

附图标记说明

10 液晶曝光装置

20 基板载台装置

32 非接触保持具

40 基板载具

50 主控制装置

90 对准测量系统

92、94 预对准传感器

96 精密对准传感器

P 基板。

Claims (25)

1.一种曝光装置，所述曝光装置经由光学系统将照明光照射于具有多个标记的物体，相对于前述照明光使前述物体相对移动并分别扫描曝光前述物体的多个区划区域，其中，所述曝光装置具备：

第1支承部，所述第1支承部能够以非接触方式支承在彼此交叉的第1方向及第2方向中的至少一方的方向排列配置的前述多个区划区域；

保持部，所述保持部保持被前述第1支承部以非接触方式支承的前述物体；

检测部，所述检测部对设在被前述第1支承部以非接触方式支承的前述多个区划区域的前述多个标记进行检测动作；以及

第1驱动部，所述第1驱动部以进行了前述检测动作的前述多个区划区域中的1个区划区域被前述第1支承部以非接触方式支承，其他区划区域的一部分从前述第1支承部脱离的方式相对于前述第1支承部使前述保持部向前述第1方向相对移动。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，

所述曝光装置还具备使前述第1支承部向前述第1方向及第2方向移动的第2驱动部，

前述第1驱动部及第2驱动部中的至少一方的驱动部以检测对象的前述多个标记位于前述检测部的检测区域内的方式使前述保持部相对于前述检测部移动，

前述第1驱动部及第2驱动部在前述扫描曝光中，使前述第1支承部及前述保持部向前述第2方向移动。

3.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，

前述检测部在设在前述物体的所有区划区域被前述第1支承部支承的状态下进行前述检测动作。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的曝光装置，其中，

前述第1驱动部以支承有进行了前述检测动作的前述多个区划区域中的被扫描曝光的前述区划区域的前述第1支承部的支承位置变化的方式相对于前述第1支承部使前述保持部相对移动。

5.根据权利要求1至3中任一项所述的曝光装置，其中，

所述曝光装置还具备第2支承部，所述第2支承部支承前述物体中的被前述第1支承部支承的区域以外的区域。

6.根据权利要求5所述的曝光装置，其中，

前述第1驱动部以进行了前述检测动作的前述物体的一部分从前述第1支承部被支承至前述第2支承部的方式使前述保持部移动。

7.根据权利要求1至3中任一项所述的曝光装置，其中，

前述第1支承部及前述保持部设成彼此非接触。

8.根据权利要求1至3中任一项所述的曝光装置，其中，

前述第1支承部支承与前述保持部所保持的前述物体的保持区域不同的区域。

9.根据权利要求1至3中任一项所述的曝光装置，其中，

前述第1支承部具有向前述物体与前述第1支承部之间供给气体的第1供气孔。

10.根据权利要求9所述的曝光装置，其中，

前述第1支承部具有吸引前述物体与前述第1支承部之间的气体的吸气孔。

11.根据权利要求1至3中任一项所述的曝光装置，其中，

所述曝光装置具备第2支承部，所述第2支承部在前述第1方向设在前述第1支承部的一侧及另一侧并支承前述物体，

前述第1驱动部使被前述保持部支承的前述物体从前述第1支承部和前述第2支承部中的一方向另一方移动。

12.根据权利要求11所述的曝光装置，其中，

前述第2支承部具有向前述物体与前述第2支承部之间供给气体的第2供气孔。

13.根据权利要求1至3中任一项所述的曝光装置，其中，

所述曝光装置具备支承前述保持部的第3支承部，

前述第3支承部设于在上下方向低于前述第1支承部的位置。

14.根据权利要求1至3中任一项所述的曝光装置，其中，

所述曝光装置还具备求出前述保持部的位置信息的编码器系统，

构成前述编码器系统的读头及标尺中的至少一方设于前述保持部。

15.根据权利要求1至3中任一项所述的曝光装置，其中，

前述保持部包括支承前述物体的外周缘部的至少一部分的框状构件。

16.根据权利要求1至3中任一项所述的曝光装置，其中，

前述物体是用于平面显示器的基板。

17.根据权利要求16所述的曝光装置，其中，

前述基板的至少一边的长度或对角长为500mm以上。

18.一种平面显示器制造方法，其中，所述平面显示器制造方法包括如下动作：

使用权利要求1至17中任一项所述的曝光装置使前述物体曝光；以及

使曝光后的前述物体显影。

19.一种组件制造方法，其中，所述组件制造方法包括如下动作：

使用权利要求1至17中任一项所述的曝光装置使前述物体曝光；以及

使曝光后的前述物体显影。

20.一种曝光方法，所述曝光方法经由光学系统将照明光照射于具有多个标记的物体，相对于前述照明光使前述物体相对移动并分别扫描曝光前述物体的多个区划区域，其中，所述曝光方法包括如下动作：

利用第1支承部以非接触方式支承在彼此交叉的第1方向及第2方向中的至少一方的方向排列配置的前述多个区划区域；

利用保持部保持被前述第1支承部以非接触方式支承的前述物体；

利用检测部对设在被前述第1支承部以非接触方式支承的前述多个区划区域的前述多个标记进行检测动作；以及

以进行了前述检测动作的前述多个区划区域中的1个区划区域被前述第1支承部以非接触方式支承，其他区划区域的一部分从前述第1支承部脱离的方式使用第1驱动部相对于前述第1支承部使前述保持部向前述第1方向相对移动。

21.根据权利要求20所述的曝光方法，其中，

所述曝光方法还包括使用第2驱动部使前述第1支承部向前述第1方向及第2方向移动的动作，

使用前述第1驱动部及第2驱动部中的至少一方，以检测对象的前述多个标记位于前述检测部的检测区域内的方式使前述保持部相对于前述检测部移动，

使用前述第1驱动部及第2驱动部，使前述第1支承部及前述保持部向前述第2方向移动，扫描曝光被前述第1支承部以非接触方式支承的前述物体的前述多个区划区域中的一部分。

22.根据权利要求20所述的曝光方法，其中，

使用前述检测部在设在前述物体的所有区划区域被前述第1支承部支承的状态下进行前述检测动作。

23.根据权利要求20至22中任一项所述的曝光方法，其中，

使用前述第1驱动部，以支承有进行了前述检测动作的前述多个区划区域中的被扫描曝光的前述区划区域的前述第1支承部的支承位置变化的方式相对于前述第1支承部使前述保持部相对移动。

24.根据权利要求20至22中任一项所述的曝光方法，其中，

所述曝光方法还包括利用第2支承部支承前述物体中的被前述第1支承部支承的区域以外的区域的动作。

25.根据权利要求24所述的曝光方法，其中，

使用前述第1驱动部，以进行了前述检测动作的前述物体的一部分从前述第1支承部被支承至前述第2支承部的方式使前述保持部移动。

Images