CN108121157B - 一种紫外线固化装置 - Google Patents
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- 238000007711 solidification Methods 0.000 claims abstract description 8
- 230000008023 solidification Effects 0.000 claims abstract description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 28
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 14
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 14
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 6
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 4
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims description 3
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000009833 condensation Methods 0.000 claims description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 claims description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 208000027418 Wounds and injury Diseases 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 208000014674 injury Diseases 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000001127 nanoimprint lithography Methods 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000012634 optical imaging Methods 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 1
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
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Abstract
一种紫外线固化装置，包括基底，所述的基底上设置有压印基板，所述的基底四周设置有固化用框体，所述的固化用框体的外侧环绕设置有紫外光源，所述的基底上方设置有遮光板，所述的固化用框体上沿紫外光源向所述压印基板表面方向设置有聚光腔。本发明通过设置封闭的照射空间配合聚光装置提升紫外线的固化效率以及消除了操作人员的健康危险。
Description
技术领域
本发明涉及纳米压印技术领域，具体涉及一种紫外线固化装置。
背景技术
纳米压印技术为将一具有纳米图案的模版以机械力在涂有高分子材料的硅基板上等比例压印复制纳米图案，其加工分辨力只与模版图案的尺寸有关，而不受光学光刻的最短曝光波长的物理限制，目前NIL技术已经可以制作线宽在5nm以下的图案。由于省去了光学光刻掩模版和使用光学成像设备的成本。因此NIL技术具有低成本、高产出的经济优势。此外，NIL技术可应用的范围相当广泛，涵盖纳米电子元件、生物或化学的硅片实验室、微流道装置，超高存储密度磁盘、微光学元件等领域。现有的纳米压印技术的固化过程存在几个问题，首先是紫外线照射过程中需要用到专用照射室，这样成本过大；其次是紫外线照射需要用到多个大功率紫外线灯，这样才能保证照射过程中没有暗角，保证固化效果，但是这样做久导致成本进一步增大，同时由于照射室空间过大，干扰因素过大以至于效果很难保证；再则紫外线照射范围过大，容易对操作人员造成健康伤害。
发明内容
本发明的目的是提供一种紫外线固化装置，本发明通过设置封闭的照射空间配合聚光装置提升紫外线的固化效率以及消除了操作人员的健康危险。
本发明的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：一种紫外线固化装置，包括基底，所述的基底上设置有压印基板，所述的基底四周设置有固化用框体，所述的固化用框体的外侧环绕设置有紫外光源，所述的基底上方设置有遮光板，所述的固化用框体上沿紫外光源向所述压印基板表面方向设置有聚光腔。
作为本发明的优选，所述的聚光腔包括由所述紫外光源向所述压印基板方向依次设置的第一聚光部、平行通道部、第二聚光部，所述的第一聚光部的聚光角度大于所述第二聚光部的聚光角度，所述的第一聚光部、所述的平行通道部、所述的第二聚光部的长度依次减小。
作为本发明的优选，所述的第二聚光部的出光端设置有准直镜。
作为本发明的优选，所述的准直镜上镀有增透膜，所述的聚光腔内镀有增反膜。
作为本发明的优选，所述的基底与所述压印基板接触侧的下方设置有加热装置。
作为本发明的优选，所述的遮光板朝向所述基底的一侧侧面上设置有反光面，所述反光面上镀有增反膜。
作为本发明的优选，所述的紫外光源设置于一光源基座上，所述的光源基座的出光端设置有碗型反光罩。
作为本发明的优选，所述的紫外光源为紫外LED，所述的紫外光源波长为320nm～350nm。
作为本发明的优选，所述固化用框体为石英材质，所述固化用框体表面涂覆有遮光涂料层。
作为本发明的优选，所述的遮光涂料包括直接涂覆在所述固化用框体表面的镀银涂层，所述镀银涂层表面涂覆有油墨涂层，所述油墨涂层表面涂覆有UV光油。
综上所述，本发明具有如下有益效果：
本发明拥有固化效率高、固化效率好的优点。
附图说明
图1是本发明实施例的结构示意图；
图2是图1的A处放大结构示意图；
图中：
1-基底；2-压印基板；3-固化用框体；4-紫外光源；5-遮光板；6-聚光腔；6-1-第一聚光部；6-2-平行通道部；6-3-第二聚光部；7-准直镜；8-反光面；9-碗型反光罩；10-光源基座；11-加热装置。
具体实施方式
以下结合附图对本发明作进一步详细说明。
如图1所示，本发明实施例包括用于安放压印基板2的基底1，基底1上设置有压印基板2，基底1四周设置有固化用框体3，固化用框体3的外侧环绕设置有紫外光源4，基底1上方设置有遮光板5，固化用框体3上沿紫外光源4向压印基板2表面方向设置有聚光腔6。基底1与压印基板2接触侧的下方设置有加热装置11，加热装置11采用电阻式加热装置11。遮光板5朝向基底1的一侧侧面上设置有反光面8，反光面8上镀有增反膜。紫外光源4设置于一光源基座10上，光源基座10的出光端设置有碗型反光罩9。紫外光源4为紫外LED，紫外光源4波长为320nm～350nm。固化用框体3为石英材质，固化用框体3表面涂覆有遮光涂料层。遮光涂料包括直接涂覆在固化用框体3表面的镀银涂层，镀银涂层表面涂覆有油墨涂层，油墨涂层表面涂覆有UV光油。
如图2所示，本发明实施例聚光腔6包括由紫外光源4向压印基板2方向依次设置的第一聚光部6-1、平行通道部6-2、第二聚光部6-3，第一聚光部6-1的聚光角度大于第二聚光部6-3的聚光角度，第一聚光部6-1、平行通道部6-2、第二聚光部6-3的长度依次减小。第二聚光部6-3的出光端设置有准直镜7。准直镜7上镀有增透膜，聚光腔6内镀有增反膜。
本具体实施例仅仅是对本发明的解释，其并不是对本发明的限制，本领域技术人员在阅读完本说明书后可以根据需要对本实施例做出没有创造性贡献的修改，但只要在本发明的权利要求范围内都受到专利法的保护。
Claims (7)
1.一种紫外线固化装置，其特征在于：包括基底(1)，所述的基底(1)上设置有压印基板(2)，所述的基底(1)四周设置有固化用框体(3)，所述的固化用框体(3)的外侧环绕设置有紫外光源(4)，所述的基底(1)上方设置有遮光板(5)，所述的固化用框体(3)上沿紫外光源(4)向所述压印基板(2)表面方向设置有聚光腔(6)；所述的遮光板(5)朝向所述基底(1)的一侧侧面上设置有反光面(8)，所述反光面(8)上镀有增反膜；所述的紫外光源(4)设置于一光源基座(10)上，所述的光源基座(10)的出光端设置有碗型反光罩(9)；所述的紫外光源(4)为紫外LED，所述的紫外光源(4)波长为320nm～350nm。
2.根据权利要求1所述的一种紫外线固化装置，其特征在于：所述的聚光腔(6)包括由所述紫外光源(4)向所述压印基板(2)方向依次设置的第一聚光部(6-1)、平行通道部(6-2)、第二聚光部(6-3)，所述的第一聚光部(6-1)的聚光角度大于所述第二聚光部(6-3)的聚光角度，所述的第一聚光部(6-1)、所述的平行通道部(6-2)、所述的第二聚光部(6-3)的长度依次减小。
3.根据权利要求2所述的一种紫外线固化装置，其特征在于：所述的第二聚光部(6-3)的出光端设置有准直镜(7)。
4.根据权利要求3所述的一种紫外线固化装置，其特征在于：所述的准直镜(7)上镀有增透膜，所述的聚光腔(6)内镀有增反膜。
5.根据权利要求1所述的一种紫外线固化装置，其特征在于：所述的基底(1)与所述压印基板(2)接触侧的下方设置有加热装置(11)。
6.根据权利要求1所述的一种紫外线固化装置，其特征在于：所述固化用框体(3)为石英材质，所述固化用框体(3)表面涂覆有遮光涂料层。
7.根据权利要求6所述的一种紫外线固化装置，其特征在于：所述的遮光涂料包括直接涂覆在所述固化用框体(3)表面的镀银涂层，所述镀银涂层表面涂覆有油墨涂层，所述油墨涂层表面涂覆有UV光油。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201810046180.5A CN108121157B (zh) | 2018-01-17 | 2018-01-17 | 一种紫外线固化装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201810046180.5A CN108121157B (zh) | 2018-01-17 | 2018-01-17 | 一种紫外线固化装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN108121157A CN108121157A (zh) | 2018-06-05 |
| CN108121157B true CN108121157B (zh) | 2020-05-15 |
Family
ID=62233148
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201810046180.5A Expired - Fee Related CN108121157B (zh) | 2018-01-17 | 2018-01-17 | 一种紫外线固化装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN108121157B (zh) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111912932B (zh) * | 2019-12-09 | 2022-05-17 | 南开大学 | 一种测量水中化学需氧量的方法和系统 |
| CN111912933B (zh) * | 2019-12-09 | 2022-05-03 | 南开大学 | 一种测量水中总有机碳的方法及系统 |
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| CN102566262A (zh) * | 2012-02-29 | 2012-07-11 | 青岛理工大学 | 一种适用于非平整衬底晶圆级纳米压印的装置和方法 |
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| CN204953276U (zh) * | 2015-08-26 | 2016-01-13 | 安徽锋德兴泰电子科技有限公司 | 一种uv固化炉 |
| CN105739247A (zh) * | 2016-02-25 | 2016-07-06 | 中国科学技术大学 | 一种纳米压印设备 |
| CN205768025U (zh) * | 2016-06-22 | 2016-12-07 | 四川瑞和昌天包装制品有限公司 | 光固机 |
| CN205816141U (zh) * | 2016-06-08 | 2016-12-21 | 宜兴市富胜机械有限公司 | 一种反照单箱uv固化机 |
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| CN205816141U (zh) * | 2016-06-08 | 2016-12-21 | 宜兴市富胜机械有限公司 | 一种反照单箱uv固化机 |
| CN205768025U (zh) * | 2016-06-22 | 2016-12-07 | 四川瑞和昌天包装制品有限公司 | 光固机 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN108121157A (zh) | 2018-06-05 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
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