CN108106536B - 一种平面光栅干涉仪位移测量系统 - Google Patents
一种平面光栅干涉仪位移测量系统 Download PDFInfo
- Publication number
- CN108106536B CN108106536B CN201711116885.1A CN201711116885A CN108106536B CN 108106536 B CN108106536 B CN 108106536B CN 201711116885 A CN201711116885 A CN 201711116885A CN 108106536 B CN108106536 B CN 108106536B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- grating
- angle prism
- beam splitter
- grating interferometer
- transmitted
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000005259 measurement Methods 0.000 title claims abstract description 61
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 title claims abstract description 37
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims abstract description 41
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims abstract description 15
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims abstract description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 2
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 abstract description 14
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 8
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 abstract description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 4
- 230000035559 beat frequency Effects 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 11
- 238000011160 research Methods 0.000 description 5
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000005305 interferometry Methods 0.000 description 1
- 230000028161 membrane depolarization Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02015—Interferometers characterised by the beam path configuration
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02055—Reduction or prevention of errors; Testing; Calibration
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01D—MEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01D5/00—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable
- G01D5/26—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light
- G01D5/266—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light by interferometric means
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01D—MEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01D5/00—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable
- G01D5/26—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light
- G01D5/268—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light using optical fibres
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01D—MEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01D5/00—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable
- G01D5/26—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light
- G01D5/32—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light
- G01D5/34—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light the beams of light being detected by photocells
- G01D5/36—Forming the light into pulses
- G01D5/38—Forming the light into pulses by diffraction gratings
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
Abstract
一种平面光栅干涉仪位移测量系统，包括单频激光器、分束器、声光调制器、光栅干涉仪、平面光栅、接收器、电子信号处理部件、光纤耦合器和频率合成器；光栅干涉仪包括偏振分光镜、折光元件，直角棱镜和四分之一波片；该测量系统基于光栅衍射、光学多普勒效应和光学拍频原理实现位移测量。当光栅干涉仪与平面光栅做二自由度线性相对运动时，系统可输出二个线性位移。该测量系统能够实现亚纳米甚至更高分辨率及精度，且能够同时测量二个线性位移；该测量系统具有测量精度高、结构简单优点，作为光刻机超精密工件台位置测量系统可提升工件台综合性能。
Description
技术领域
本发明涉及一种平面光栅干涉仪位移测量系统，特别涉及一种用于光刻机工件台位移测量的平面光栅干涉仪位移测量系统。
背景技术
光栅测量系统作为一种典型的位移传感器广泛应用于众多机电设备。光栅测量系统的测量原理主要基于莫尔条纹原理和衍射干涉原理。基于莫尔条纹原理的光栅测量系统作为一种发展成熟的位移传感器以其测距长、成本低、易于装调等众多优点成为众多机电设备位移测量的首选，但精度通常在微米量级，常见于一般工业应用。
半导体制造装备中的光刻机是半导体芯片制作中的关键设备。超精密工件台是光刻机的核心子系统，用于承载掩模板和硅片完成高速超精密步进扫描运动。超精密工件台以其高速、高加速、大行程、超精密、多自由度等运动特点成为超精密运动系统中最具代表性的一类系统。为实现上述运动，超精密工件台通常采用双频激光干涉仪测量系统测量超精密工件台多自由度位移。然而随着测量精度、测量距离、测量速度等运动指标的不断提高，双频激光干涉仪以环境敏感性、测量速度难以提高、占用空间大、价格昂贵、测量目标工件台动态特性差等存在的一系列问题，从而难以满足更高的测量需求。
针对上述问题，世界上超精密测量领域的各大公司及研究机构展开了一系列的研究，研究主要集中于基于衍射干涉原理的光栅测量系统，研究成果在诸多专利论文中均有揭露。
美国专利文献公开号US2011/0255096A1(公开日2011年10月20日)公开了一种应用于光刻机超精密工件台的光栅测量系统，该测量系统采用一维或二维光栅配合特定的读数头实现位移测量，可同时进行水平向和垂向位移测量，但结构复杂；美国专利文献公开号US2011/0096334A1(公开日2011年4月28日)公开了一种外差干涉仪，该干涉仪中采用光栅作为目标镜，但该干涉仪仅能实现一维测量。美国专利文献公开号US2013/0114087Al(公开日2013年5月9日)公开了一种应用于光刻机超精密工件台的干涉测量系统，该测量系统采用一个光栅干涉仪和一个激光干涉仪结合的方式，但该方案结构过于复杂，光路长，对于集成小型化难度大。美国专利文献公开号US2016/0102999AL(公开日2016年4月12日)公开了一种应用于光刻机超精密工件台的光栅测量系统，该测量系统采用一维或二维光栅配合读数头实现位移测量，但干涉仪结构采用双频激光器以及双频共轴传光，极易出现偏振混叠现象，测量误差大。日本学者GAOWEI在研究论文“Design and construction of a two-degree-of-freedom linear encoder for nanometric measurement of stage positionand straightness.Precision Engineering 34(2010)145-155”中提出了一种利用衍射干涉原理的单频二维光栅测量系统，该光栅测量系统可同时实现水平和垂直向的位移测量，但由于采用单频激光，测量信号易受干扰，精度难以保证。中国专利文献申请号201210449244.9(申请日2012年11月09日)及201210448734.7(申请日2012年11月09日)分别公开了一种外差光栅干涉仪测量系统，两种干涉仪测量系统中的读数头结构中均采用了四分之一波片用于改变光束的偏振态，光学结构复杂，同时光学元件的非理想性将导致测量误差。
发明内容
考虑到上述技术方案的局限，本发明的目的是提供一种平面光栅干涉仪位移测量系统，使其不仅具有测量精度高、结构简单和便于小型化集成等优点，而且可实现亚纳米甚至更高分辨率及精度，且能够同时测量二个线性位移，进而可提升工件台综合性能。
本发明的技术方案如下：
一种平面光栅干涉仪位移测量系统，包括单频激光器、分束器、光栅干涉仪、平面光栅、声光调制器、接收器、电子信号处理部件、光纤耦合器和频率合成器；其特征在于；光栅干涉仪包括偏振分光镜、折光元件、第一直角棱镜、第二直角棱镜和第三直角棱镜、四分之一波片；其中第一直角棱镜位于偏振分光镜顶端，第二直角棱镜与第三直角棱镜并排放置在偏振分光镜的底端；单频激光器出射的单频激光经分束器分光后，分别经过由频率合成器供源的声光调制器进行调制,分别经两个分束器分光后，其中两束激光经光纤耦合器进行干涉后，作为补偿轴信号输入至接收器，处理后形成一路电信号输入至电子信号处理部件；另两束激光则入射至偏振分光镜后分光，两束反射光为参考光，两束透射光为测量光；
所述两束测量光第一次经四分之一波片和折光元件后以利特罗角入射至平面光栅，反射后第二次经折光元件和四分之一波片入射至偏振分光镜，反射后两束测量光分别经过第二直角棱镜和第三直角棱镜，回射至偏振分光镜，再次反射后经折光元件和四分之一波片后再次以利特罗角入射至平面光栅，反射后再次经折光元件和四分之一波片后入射至偏振分光镜，透射后两束测量光平行出射；
所述两束参考光经第一直角棱镜后回射至偏振分光镜，反射后两束参考光平行出射；
其中一束参考光和一束测量光干涉形成一路干涉光信号，另一束参考光和另一束测量光干涉形成另一路干涉光信号，两路干涉光信号分别经光纤传输至接收器进行处理分别形成两路测量电信号，两路测量电信号输入至电子信号处理部件进行处理；
上述技术方案中，所述的平面光栅采用二维反射型光栅，所述的折光元件采用截面为等腰梯形的折射镜，所述的第二直角棱镜和第三直角棱镜采用平行并列布置。
本发明另一技术方案是：所述的折光元件采用两个反射镜组成。
本发明另一技术方案是：所述的折光元件采用透镜。
本发明具有以下优点及突出性技术效果：该测量系统利用单频激光器和光纤分离传光，并且干涉仪采用了特殊的结构，因此抑制了偏振混叠误差，提高了测量精度；干涉仪采用直角棱镜后能实现大范围的转角测量，并且实现了光路对称；平面光栅采用二维反射型光栅，利用利特罗结构实现系统的二自由度测量及Z向运动不敏感；干涉仪结构使用光学器件少，结构简单，便于小型化集成。
附图说明
图1为本发明一种平面光栅干涉仪位移测量系统示意图。
图2为本发明光栅干涉仪光路图。
图3为本发明光栅干涉仪两路参考光光路图。
图4为本发明光栅干涉仪一路测量光光路图。
图5为本发明光栅干涉仪另一路测量光光路图。
图6为本发明第一种光栅干涉仪内部结构示意图。
图7为本发明第二种光栅干涉仪内部结构示意图。
图8为本发明第三种光栅干涉仪内部结构示意图。
图中，1—单频激光器，2a—第一分束器，2b—第二分束器；2c—第三分束器；3—光栅干涉仪，4—平面光栅，5a—第一声光调制器，5b—第二声光调制器；6—接收器；7—电子信号处理部件；31—偏振分光镜，32—折光元件；32a—折射镜；32b—反射镜；32c—透镜；33—第一直角棱镜；34—第二直角棱镜；35—第三直角棱镜；36—四分之一波片。
具体实施方式
下面结合附图对本发明的结构、原理和具体实施方式作进一步地详细描述。
请参考图1，该平面光栅干涉仪位移测量系统包括单频激光器1、分束器、光栅干涉仪3、平面光栅4、声光调制器、接收器6和电子信号处理部件7，平面光栅4为二维反射型光栅。
请参考图2，所述的光栅干涉仪3包括偏振分光镜31、折光元件32、第一直角棱镜33、第二直角棱镜34和第三直角棱镜35、四分之一波片36，折光元件32，其中第一直角棱镜33位于偏振分光镜顶端，第二直角棱镜34与第三直角棱镜35并排放置在偏振分光镜的底端。
请参考图1、图2，单频激光器1出射的单频激光经第一分束器2a分光后，分别经过由频率合成器9供源的第一声光调制器5a和第二声光调制器5b进行调制后,分别经第二分束器2b和第三分束器2c进行分光，其中，经第二分束器2b分出的一束激光和第三分束器2c分出的一束激光经光纤耦合器8进行干涉后，作为补偿轴信号输入至接收器6，处理后形成一路电信号输入至电子信号处理部件7；另外两束激光则入射至偏振分光镜31后分光，两束反射光为参考光，两束透射光为测量光；
请参考图2、图3，所述两束参考光经第一直角棱镜33后回射至偏振分光镜31，反射后两束参考光平行出射。
请参考图2、图4、图5，所述两束测量光第一次经四分之一波片36和折光元件32后以利特罗角入射至平面光栅4，反射后第二次经折光元件32和四分之一波片36入射至偏振分光镜31，反射后两束测量光分别经过第二直角棱镜34和第三直角棱镜35，回射至偏振分光镜31，再次反射后经折光元件32和四分之一波片36后再次以利特罗角入射至平面光栅4，反射后再次经折光元件32和四分之一波片36后入射至偏振分光镜31，透射后两束测量光平行出射。
其中一束参考光和一束测量光干涉形成一路干涉光信号，另一束参考光和另一束测量光干涉形成另一路干涉光信号，两路干涉光信号分别经光纤传输至接收器6进行处理分别形成两路测量电信号，两路测量电信号输入至电子信号处理部件7进行处理。
一般的双频激光干涉仪通常存在偏振混叠现象，其原因有双频激光器不理想导致的双频激光在光源处发生偏振混叠，以及在使用共轴光路传光时同样也可能发生偏振混叠。而该平面光栅干涉仪测量系统使用了单频激光器1，并用声光调制器5进行频率调制，这样就避免了光源处易产生偏振混叠，并且，该测量系统采用两个频率激光用光纤分离传光。在光栅干涉仪内部，参考图3，两束参考光为s偏振光，经第一直角棱镜33和偏振分光镜31后出射，自由空间光路中未出现偏振泄漏；参考图4和图5，两束测量光分别经第二直角棱镜34和第三直角棱镜35后，由于直角棱镜的退偏效应，在经过偏振分光镜3时，会产生部分偏振泄漏，但经过分析，该部分的偏振漏光造成的误差在皮米量级，可以认为该结构有效抑制了偏振混叠误差。综上所述，该平面光栅测量系统抑制了偏振混叠，有效降低了测量误差。
干涉仪结构中使用了三个直角棱镜，其中两路参考光经过第一直角棱镜33，两路测量光分别经过第二直角棱镜34和第三直角棱镜35，由于直角棱镜的后向反射特性，光栅转角偏差造成的光路夹角转变为光束分离，因此增大了转角测量范围，并且实现了光路的对称。
平面光栅4采用二维反射型光栅，利用利特罗结构使测量光两次从平面光栅4反射，基于光栅多普勒效应实现了二自由度位移测量及Z向运动不敏感。
当平面光栅4相对于光栅干涉仪3做水平向和垂向(其中垂向运动为微小运动，运动范围为±1mm)两个自由度的线性运动时，电子信号处理部件5将输出二自由度线性位移。二自由度运动位移的表达式为x＝p*(α+β)/8π,z＝(α-β)/16π*cosθ,式中α、β为电子信号处理卡的读数值，p为光栅常数，θ为光栅衍射角，取p＝0.833μm，，光栅干涉仪的x、z的测量分辨率分别为0.415nm、0.22nm。
请参考图6，图6为本发明第一种光栅干涉仪内部结构示意图。如图6所示，光栅干涉仪内部结构中的折光元件采用折射镜32a。
请参考图7，图7为本发明第二种光栅干涉仪内部结构示意图。如图7所示，光栅干涉仪内部结构中的折光元件采用两个反射镜32b组成。对比采用折射镜32a方案，该方案可消除折射镜折射率不均匀引起的光束误差，但反射镜的安装占据更大的空间。
请参考图8，图8为本发明第三种光栅干涉仪内部结构示意图。如图8所示，光栅干涉仪内部结构中的折光元件采用透镜32c实现光束偏转，对比反射镜32b，采用透镜32c，占用空间小，可使干涉仪结构更加紧凑、简洁、便于安装。
上述实施方式中给出的测量系统及结构方案能够实现二个线性自由度位移的同时测量；同时抑制了偏振混叠误差；实现大范围的转角测量，并且实现了光路对称；实现了二自由度测量及Z向运动不敏感；并且干涉仪结构简单，便于小型化集成。应用于光刻机超精密工件台的位移测量，对比激光干涉仪测量系统，在满足测量需求的基础上，可有效的降低工件台体积、质量，大大提高工件台的动态性能，使工件台整体性能综合提高。该平面光栅干涉仪位移测量系统还可应用于精密机床、三坐标测量机、半导体检测设备等的工件台多自由度位移的精密测量中。
Claims (6)
1.一种平面光栅干涉仪位移测量系统，包括单频激光器(1)、分束器(2a、2b、2c)、光栅干涉仪(3)、平面光栅(4)、声光调制器(5a、5b)、接收器(6)、电子信号处理部件(7)、光纤耦合器(8)和频率合成器(9)；其特征在于：光栅干涉仪(3)包括偏振分光镜(31)、折光元件(32)、第一直角棱镜(33)、第二直角棱镜(34)和第三直角棱镜(35)、四分之一波片(36)；其中第一直角棱镜(33)位于偏振分光镜(31)顶端，第二直角棱镜(34)与第三直角棱镜(35)并排放置在偏振分光镜(31)的底端；单频激光器(1)出射的单频激光经分束器(2a)分光后，分别经过由频率合成器(9)供源的第一声光调制器(5a)和第二声光调制器(5b)进行调制后,分别经第二分束器(2b)和第三分束器(2c)分光后，其中，经第二分束器(2b)分出的一束激光和第三分束器(2c)分出的一束激光经光纤耦合器(8)进行干涉后，作为补偿轴信号输入至接收器(6)，处理后形成一路电信号输入至电子信号处理部件(7)；另外两束激光则入射至偏振分光镜(31)后分光，两束反射光为参考光，两束透射光为测量光；
所述两束测量光第一次经四分之一波片(36)和折光元件(32)后以利特罗角入射至平面光栅(4)，反射后第二次经折光元件(32)和四分之一波片(36)入射至偏振分光镜(31)，反射后两束测量光分别经过第二直角棱镜(34)和第三直角棱镜(35)，回射至偏振分光镜(31)，再次反射后经折光元件(32)和四分之一波片(36)后再次以利特罗角入射至平面光栅(4)，反射后再次经折光元件(32)和四分之一波片(36)后入射至偏振分光镜，透射后两束测量光平行出射；
所述两束参考光经第一直角棱镜(33)后回射至偏振分光镜(31)，反射后两束参考光平行出射；
其中一束参考光和一束测量光干涉形成一路干涉光信号，另一束参考光和另一束测量光干涉形成另一路干涉光信号，两路干涉光信号分别经光纤传输至接收器(6)进行处理分别形成两路测量电信号，两路测量电信号输入至电子信号处理部件(7)进行处理。
2.根据权利要求1所述的一种平面光栅干涉仪位移测量系统，其特征在于：平面光栅(4)采用二维反射型光栅。
3.根据权利要求1所述的一种平面光栅干涉仪位移测量系统，其特征在于：折光元件采用截面为等腰梯形的折射镜(32a)。
4.根据权利要求1所述的一种平面光栅干涉仪位移测量系统，其特征在于：折光元件采用两个反射镜(32b)。
5.根据权利要求1所述的一种平面光栅干涉仪位移测量系统，其特征在于：折光元件采用透镜(32c)。
6.根据权利要求1所述的一种平面光栅干涉仪位移测量系统，其特征在于：第二直角棱镜(34)和第三直角棱镜(35)采用平行并列布置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201711116885.1A CN108106536B (zh) | 2017-11-13 | 2017-11-13 | 一种平面光栅干涉仪位移测量系统 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201711116885.1A CN108106536B (zh) | 2017-11-13 | 2017-11-13 | 一种平面光栅干涉仪位移测量系统 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN108106536A CN108106536A (zh) | 2018-06-01 |
| CN108106536B true CN108106536B (zh) | 2023-10-10 |
Family
ID=62206565
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201711116885.1A Active CN108106536B (zh) | 2017-11-13 | 2017-11-13 | 一种平面光栅干涉仪位移测量系统 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN108106536B (zh) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108627100B (zh) * | 2018-07-02 | 2020-03-20 | 清华大学 | 二自由度外差光栅干涉测量系统 |
| CN108627099B (zh) * | 2018-07-02 | 2020-03-20 | 清华大学 | 五自由度外差光栅干涉测量系统 |
| CN110686620B (zh) * | 2018-07-06 | 2021-05-04 | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 | 光栅集成精度的测量装置及方法、平面光栅尺测量系统 |
| CN109238148B (zh) | 2018-09-13 | 2020-10-27 | 清华大学 | 一种五自由度外差光栅干涉测量系统 |
| CN109916315B (zh) * | 2019-03-29 | 2024-02-23 | 华侨大学 | 一种基于分离式光栅的测量装置 |
| CN109990713B (zh) * | 2019-04-04 | 2020-08-18 | 清华大学 | 一种基于平面光栅激光干涉仪的高分辨率相位检测方法 |
| CN110095088B (zh) * | 2019-05-14 | 2020-11-20 | 哈尔滨理工大学 | 基于光栅辨别的曲面拼接区表面形貌特征检测方法及装置 |
| CN114877811B (zh) * | 2022-06-15 | 2023-06-20 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一维光栅位移测量装置 |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102937411A (zh) * | 2012-11-09 | 2013-02-20 | 清华大学 | 一种双频光栅干涉仪位移测量系统 |
| CN103309177A (zh) * | 2013-06-19 | 2013-09-18 | 清华大学 | 一种光刻机工件台系统 |
| CN103307986A (zh) * | 2013-06-19 | 2013-09-18 | 清华大学 | 一种二自由度外差光栅干涉仪位移测量系统 |
| CN103644849A (zh) * | 2013-12-12 | 2014-03-19 | 哈尔滨工业大学 | 一种可测竖直位移的三维光栅位移测量系统 |
| CN103759654A (zh) * | 2014-01-23 | 2014-04-30 | 清华大学 | 一种二自由度零差光栅干涉仪位移测量系统 |
| CN103759656A (zh) * | 2014-01-23 | 2014-04-30 | 清华大学 | 一种二自由度外差光栅干涉仪位移测量系统 |
| CN105004273A (zh) * | 2015-06-29 | 2015-10-28 | 华中科技大学 | 一种激光干涉位移测量系统 |
-
2017
- 2017-11-13 CN CN201711116885.1A patent/CN108106536B/zh active Active
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102937411A (zh) * | 2012-11-09 | 2013-02-20 | 清华大学 | 一种双频光栅干涉仪位移测量系统 |
| CN103309177A (zh) * | 2013-06-19 | 2013-09-18 | 清华大学 | 一种光刻机工件台系统 |
| CN103307986A (zh) * | 2013-06-19 | 2013-09-18 | 清华大学 | 一种二自由度外差光栅干涉仪位移测量系统 |
| CN103644849A (zh) * | 2013-12-12 | 2014-03-19 | 哈尔滨工业大学 | 一种可测竖直位移的三维光栅位移测量系统 |
| CN103759654A (zh) * | 2014-01-23 | 2014-04-30 | 清华大学 | 一种二自由度零差光栅干涉仪位移测量系统 |
| CN103759656A (zh) * | 2014-01-23 | 2014-04-30 | 清华大学 | 一种二自由度外差光栅干涉仪位移测量系统 |
| CN105004273A (zh) * | 2015-06-29 | 2015-10-28 | 华中科技大学 | 一种激光干涉位移测量系统 |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 衍射式光栅干涉测量系统发展现状及趋势;尚平 等;光学技术;第37卷(第03期);第313-316页 * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN108106536A (zh) | 2018-06-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN108106536B (zh) | 一种平面光栅干涉仪位移测量系统 | |
| TWI784265B (zh) | 位移測量裝置、位移測量方法及光刻設備 | |
| US11525673B2 (en) | Five-degree-of-freedom heterodyne grating interferometry system | |
| WO2014071807A1 (zh) | 一种外差光栅干涉仪位移测量系统 | |
| CN103307986B (zh) | 一种二自由度外差光栅干涉仪位移测量系统 | |
| CN102937411B (zh) | 一种双频光栅干涉仪位移测量系统 | |
| CN103322927B (zh) | 一种三自由度外差光栅干涉仪位移测量系统 | |
| CN107860318B (zh) | 一种平面光栅干涉仪位移测量系统 | |
| US11802757B2 (en) | Heterodyne grating interferometric method and system for two-degree-of-freedom with high alignment tolerance | |
| CN108627099A (zh) | 五自由度外差光栅干涉测量系统 | |
| WO2022062967A1 (zh) | 基于二次衍射的外差光栅干涉测量系统 | |
| JP2015501920A (ja) | エンコーダシステムを使用する低コヒーレンス干渉法 | |
| US20240319619A1 (en) | Phase measurement device for laser interference photolithography system, and method for using same | |
| CN117146870A (zh) | 一种二维光栅干涉测量装置以及测量方法 | |
| CN207487599U (zh) | 一种平面光栅干涉仪位移测量系统 | |
| CN103759657B (zh) | 基于光学倍程法的二自由度外差光栅干涉仪位移测量系统 | |
| CN109855530B (zh) | 干涉仪系统及其使用方法 | |
| CN116086310A (zh) | 基于kb镜纳米实验系统的高精度定位测量方法及装置 | |
| CN113701645A (zh) | 二自由度外差光栅干涉仪 | |
| CN207487600U (zh) | 一种平面光栅干涉仪位移测量系统 | |
| CN117948897B (zh) | 一种混合位移测量装置 | |
| AU2021104387A4 (en) | Two-dimensional measurement method and system of anti-optical aliasing of heterodyne grating interference | |
| CN118836774A (zh) | 干涉仪镜组及位移测量系统 | |
| CN118463858A (zh) | 电子制造装备直线运动精度的超精密光栅干涉在位检测系统 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| CB03 | Change of inventor or designer information |
Inventor after: Zhu Yu Inventor after: Jia Zhe Inventor after: Li Qingqing Inventor after: Wang Yuzhu Inventor after: Wang Leijie Inventor after: Zhang Ming Inventor after: Xia Ye Inventor after: Cheng Rong Inventor after: Ye Weinan Inventor after: Yang Kaiming Inventor after: Ni Chang Inventor after: Ding Siqi Inventor before: Zhu Yu Inventor before: Jia Zhe Inventor before: Li Qingqing Inventor before: Wang Yuzhu Inventor before: Wang Leijie Inventor before: Zhang Ming Inventor before: Xia Ye Inventor before: Cheng Rong Inventor before: Ye Weinan Inventor before: Yang Kaiming Inventor before: Ni Chang Inventor before: Ding Siqi |
|
| CB03 | Change of inventor or designer information | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |