CN108060410B - 用于平板式pecvd的进气管道保护结构 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及管道保护结构,旨在提供一种用于平板式PECVD的进气管道保护结构。该种用于平板式PECVD的进气管道保护结构,包括进气座、防尘罩拨板、防尘罩、螺杆、挂钩和重锤。本发明采用纯机械机构设计,结构简单稳定,后期维护成本低廉;本发明能有效解决金属软管在经过多次弯折后易出现裂纹的缺陷,减少因气体泄露而导致设备停机的时间,间接给企业降低生产及维护的成本;本发明可大大减少企业的库存配件,直接给企业降低生产成本。

Description

用于平板式PECVD的进气管道保护结构
技术领域
本发明是关于管道保护结构领域,特别涉及用于平板式PECVD的进气管道保护结构。
背景技术
PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)即等离子体增强化学气相沉积技术,是指借助微波或射频使含有薄膜组成原子的气体发生电离在局部形成等离子体,借助等离子体活泼易反应的化学特性在基片上沉积出所期望的薄膜。该技术被广泛应用于晶体硅太阳能电池的生产中。
现有的平板式PECVD上镀膜进气的方式一般采用在腔室侧边法兰上焊接进气管道,腔室内部则通过金属软管与腔体盖板上的进气管道进行连接。在对腔体内部进行清理维护检查等操作过程中,需打开盖板;在镀膜生产前,则需关闭盖板,保证腔体内部的真空密封。这样连接方式导致在长时间使用后,出现在盖板多次开合的状态下,金属软管的发生弯折。一旦弯折处发生泄漏,则进入沉积罩的反应气体就会无法得到控制,设备镀膜均匀性无法得到保证。由于镀膜是连续性生产的,所以会造成一批次镀膜硅片报废,给生产企业直接带来较大的经济损失。特别是在泄漏发生后设备维护需要花费大量的人力和时间,间接给生产企业带来巨大的经济损失。
发明内容
本发明的主要目的在于克服现有技术中的不足,提供一种用于平板式PECVD的进气管道保护结构。为解决上述技术问题,本发明的解决方案是:
提供一种用于平板式PECVD的进气管道保护结构,包括进气座、防尘罩拨板、防尘罩、螺杆、挂钩和重锤;
所述进气座包括上进气组件和下进气组件,进气座内至少安装三个进气活塞(因一般需进三种不同的特气,故各进气座内都安装有三个进气活塞,但也可根据进气需要,调整进气活塞数量),每个进气活塞包括上进气组件中的上进气活塞和下进气组件中的下进气活塞;
所述上进气组件包括上进气座、上进气活塞、上压缩弹簧;上进气座通过螺栓固定安装于平板式PECVD的腔体盖板上,使上进气组件固定在腔体盖板内壁前端;上进气活塞通过上压缩弹簧固定在上进气座上:上压缩弹簧的一端通过弹性形变将上进气活塞压在上进气座内,另一端压在腔体盖板上;上进气活塞内设有气孔,用于平板式PECVD设备工艺气体的输送;上进气座固定在腔体盖板上,当腔体盖板闭合时,上进气活塞气孔的下端与下进气活塞内气孔对接;
所述下进气组件包括下进气座、下进气活塞、下压缩弹簧、下进气座盖板;下进气座通过螺栓固定安装于平板式PECVD的腔体内壁上;下进气活塞通过下压缩弹簧和下进气座盖板,安装在下进气座内:下进气活塞的下端安装有下压缩弹簧,下进气活塞的上端安装有下进气座盖板,下进气座盖板固定在下进气座上,通过下压缩弹簧的弹性形变,实现下进气活塞的上下运动;下进气活塞上设有凸台,下进气座盖板上设有孔,通过该凸台与孔的配合,实现下进气活塞的限位;下进气活塞内开有贯穿的气孔,气孔上端的外圆周上安装有O型密封圈,用于实现上进气活塞与下进气活塞之间的密封连接,气孔下端用于和进气管道连接,从而实现下进气组件的进气功能;
所述防尘罩通过销轴安装于下进气座上,用于防尘和保护下进气组件;防尘罩下方通过挂钩挂有重锤;螺杆插于防尘罩上,并利用螺母固定;
所述防尘罩拨板固定在上进气座的两侧,上进气组件固定在平板式PECVD的腔体盖板上,下进气组件固定在平板式PECVD的腔体内壁上,能够实现:在平板式PECVD的腔体盖板关闭的过程中,上进气组件随着腔体盖板靠近下进气组件,防尘罩拨板向下运动,当碰触到防尘罩上的螺杆时,带动防尘罩绕其销轴向下转动,防尘罩逐渐打开,平板式PECVD的腔体盖板关闭时,防尘罩完全打开,实现下进气活塞和上进气活塞的密封对接(上进气组件与下进气组件在O型密封圈面上压紧密封,实现上进气组件与下进气组件的对接及密封进气);当平板式PECVD的腔体盖板打开的过程中,上进气组件随着腔体盖板远离下进气组件,防尘罩拨板向上运动,防尘罩在重锤作用下,绕其销轴向上转动,防尘罩逐渐关闭,平板式PECVD的腔体盖板打开时,防尘罩关闭,实现对下进气活塞的保护(防尘罩关闭能防止灰尘和反应颗粒物堵塞气管,影响进气组件的正常进气;实现上进气组件与下进气组件断开)。
作为进一步的改进,所述进气座内安装有三个进气活塞,即对应设有三个上进气活塞和三个下进气活塞。
作为进一步的改进,所述上进气活塞上焊接的气管,通过密封垫片拧紧或卡套的方式,与腔体盖板上的进气管道进行密封性连接。
作为进一步的改进,所述下进气活塞的气孔下端,通过O型密封圈或卡套的方式,与进气管道进行密封性连接。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:
1、本发明采用纯机械机构设计,结构简单稳定,后期维护成本低廉。
2、本发明能有效解决金属软管在经过多次弯折后易出现裂纹的缺陷,减少因气体泄露而导致设备停机的时间,间接给企业降低生产及维护的成本。
3、本发明可大大减少企业的库存配件,直接给企业降低生产成本。
附图说明
图1为本发明中上下进气组件密封对接关系的示意图。
图2为本发明中上下进气组件装配关系的示意图。
图3为本发明中下进气组件的结构示意图。
图4为本发明中上进气组件的结构示意图。
图中的附图标记为:1上压缩弹簧;2上进气座;3上进气活塞;4防尘罩拨板;5防尘罩;6螺杆;7O型密封圈;8下进气座盖板;9下进气活塞;10下进气座;11下压缩弹簧;12挂钩;13重锤;14腔体盖板;15上进气组件;16腔体内壁;17下进气组件。
具体实施方式
下面结合附图与具体实施方式对本发明作进一步详细描述:
如图2所示的用于平板式PECVD的进气管道保护结构,包括进气座、防尘罩拨板4、防尘罩5、螺杆6、挂钩12和重锤13。
所述进气座包括上进气组件15和下进气组件17,因需进三种不同的特气,故进气座内安装有三个进气活塞,但也可根据进气需要,调整进气活塞数量;每个进气活塞包括上进气组件15中的上进气活塞3和下进气组件17中的下进气活塞9,即对应设有三个上进气活塞3和三个下进气活塞9。
如图3所示的上进气组件15包括上进气座2、上进气活塞3、上压缩弹簧1。上进气座2通过螺栓固定安装于平板式PECVD的腔体盖板14上,使上进气组件15固定在平板式PECVD的腔体盖板14内壁前端,可参考图1。上进气活塞3通过上压缩弹簧1固定在上进气座2上:上压缩弹簧1的一端通过弹性形变将上进气活塞3压在上进气座2内,另一端压在平板式PECVD的腔体盖板14上。上进气活塞3内设有气孔,用于平板式PECVD设备工艺气体的输送;上进气座2固定在平板式PECVD的腔体盖板14上,当平板式PECVD的腔体盖板14闭合时,上进气活塞3气孔的下端与下进气活塞9内气孔对接。
如图4所示的下进气组件17包括下进气座10、下进气活塞9、下压缩弹簧11、下进气座盖板8,下进气座10通过螺栓固定安装于平板式PECVD的腔体内壁16上,可参考图1。下进气活塞9通过下压缩弹簧11和下进气座盖板8,安装在下进气座10内:下进气活塞9的下端安装有下压缩弹簧11,上端安装有下进气座盖板8,下进气座盖板8固定在下进气座10上,通过下压缩弹簧11的弹性形变,可实现下进气活塞9的上下运动;下进气活塞9上设有凸台,下进气座盖板8上设有孔,通过该凸台与孔的配合,实现下进气活塞9的限位;下进气活塞9内开有贯穿的气孔,气孔上端的外圆周上安装有O型密封圈7,用于实现上进气活塞3与下进气活塞9之间的密封连接;气孔下端通过O型密封圈7或卡套的方式,与进气管道进行密封性连接,从而实现下进气组件17的进气功能。
所述防尘罩5通过销轴安装于下进气座10上,用于防尘和保护下进气组件17;防尘罩5下方通过挂钩12挂有重锤13;螺杆6插于防尘罩5上,并利用螺母固定。所述防尘罩拨板4固定在上进气座2的两侧。
该用于平板式PECVD的进气管道保护结构工作时,具体过程为:上进气组件15固定在平板式PECVD的腔体盖板14上,下进气组件17固定在平板式PECVD的腔体内壁16上,在平板式PECVD的腔体盖板14关闭的过程中,上进气组件15靠近下进气组件17,防尘罩拨板4向下运动,当碰触到防尘罩5上的螺杆6时,带动防尘罩5绕其销轴向下转动,防尘罩5逐渐打开,平板式PECVD的腔体盖板14关闭时,防尘罩5完全打开,实现下进气活塞9和上进气活塞3的密封对接,上进气组件15与下进气组件17在O型密封圈7面上压紧密封,实现上进气组件15与下进气组件17的对接及密封进气;当平板式PECVD的腔体盖板14打开的过程中,上进气组件15远离下进气组件17,防尘罩拨板4向上运动,防尘罩5在重锤13作用下,绕其销轴向上转动,防尘罩5逐渐关闭,平板式PECVD的腔体盖板14打开时,防尘罩5关闭,实现对下进气活塞9的保护,防尘罩5关闭能防止灰尘和反应颗粒物堵塞气管,影响进气组件的正常进气;实现上进气组件15与下进气组件17断开。
最后,需要注意的是,以上列举的仅是本发明的具体实施例。显然,本发明不限于以上实施例,还可以有很多变形。本领域的普通技术人员能从本发明公开的内容中直接导出或联想到的所有变形,均应认为是本发明的保护范围。

Claims (2)

1.一种用于平板式PECVD的进气管道保护结构,其特征在于,包括进气座、防尘罩拨板、防尘罩、螺杆、挂钩和重锤;
所述进气座包括上进气组件和下进气组件,进气座内至少安装三个进气活塞,每个进气活塞包括上进气组件中的上进气活塞和下进气组件中的下进气活塞;
所述上进气组件包括上进气座、上进气活塞、上压缩弹簧;上进气座通过螺栓固定安装于平板式PECVD的腔体盖板上,使上进气组件固定在腔体盖板内壁前端;上进气活塞通过上压缩弹簧固定在上进气座上:上压缩弹簧的一端通过弹性形变将上进气活塞压在上进气座内,另一端压在腔体盖板上;上进气活塞内设有气孔,用于平板式PECVD设备工艺气体的输送;上进气座固定在腔体盖板上,当腔体盖板闭合时,上进气活塞气孔的下端与下进气活塞内气孔对接;
所述下进气组件包括下进气座、下进气活塞、下压缩弹簧、下进气座盖板;下进气座通过螺栓固定安装于平板式PECVD的腔体内壁上;下进气活塞通过下压缩弹簧和下进气座盖板,安装在下进气座内:下进气活塞的下端安装有下压缩弹簧,下进气活塞的上端安装有下进气座盖板,下进气座盖板固定在下进气座上,通过下压缩弹簧的弹性形变,实现下进气活塞的上下运动;下进气活塞上设有凸台,下进气座盖板上设有孔,通过该凸台与孔的配合,实现下进气活塞的限位;下进气活塞内开有贯穿的气孔,气孔上端的外圆周上安装有O型密封圈,用于实现上进气活塞与下进气活塞之间的密封连接,气孔下端用于和进气管道连接,从而实现下进气组件的进气功能;
所述防尘罩通过销轴安装于下进气座上,用于防尘和保护下进气组件;防尘罩下方通过挂钩挂有重锤;螺杆插于防尘罩上,并利用螺母固定;
所述防尘罩拨板固定在上进气座的两侧,上进气组件固定在平板式PECVD的腔体盖板上,下进气组件固定在平板式PECVD的腔体内壁上,能够实现:在平板式PECVD的腔体盖板关闭的过程中,上进气组件随着腔体盖板靠近下进气组件,防尘罩拨板向下运动,当碰触到防尘罩上的螺杆时,带动防尘罩绕其销轴向下转动,防尘罩逐渐打开,平板式PECVD的腔体盖板关闭时,防尘罩完全打开,实现下进气活塞和上进气活塞的密封对接;当平板式PECVD的腔体盖板打开的过程中,上进气组件随着腔体盖板远离下进气组件,防尘罩拨板向上运动,防尘罩在重锤作用下,绕其销轴向上转动,防尘罩逐渐关闭,平板式PECVD的腔体盖板打开时,防尘罩关闭,实现对下进气活塞的保护;
在上进气活塞上焊接气管,并通过密封垫片拧紧或卡套的方式,与腔体盖板上的进气管道进行密封性连接;所述下进气活塞的气孔下端,通过O型密封圈或卡套的方式,与进气管道进行密封性连接。
2.根据权利要求1所述的一种用于平板式PECVD的进气管道保护结构,其特征在于,所述进气座内安装有三个进气活塞,即对应设有三个上进气活塞和三个下进气活塞。
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111748791A (zh) * 2019-03-29 2020-10-09 中国电子科技集团公司第四十八研究所 一种平板式pecvd设备进出料腔
CN111748795A (zh) * 2019-03-29 2020-10-09 中国电子科技集团公司第四十八研究所 一种平板式pecvd设备反应腔室特气耦合输送装置
CN110241399B (zh) * 2019-07-02 2023-10-20 江苏电子信息职业学院 一种金刚石涂层工具

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5488967A (en) * 1993-10-27 1996-02-06 Masako Kiyohara Method and apparatus for feeding gas into a chamber
WO2003035927A2 (en) * 2001-10-26 2003-05-01 Applied Materials, Inc. Gas delivery apparatus for atomic layer deposition
CN1563483A (zh) * 2004-04-01 2005-01-12 南昌大学 用于金属有机化学气相沉积设备的双层进气喷头
CN1774525A (zh) * 2001-10-26 2006-05-17 应用材料有限公司 用于原子层淀积的气体输送装置
KR101215511B1 (ko) * 2012-06-27 2012-12-26 (주)이노시티 프로세스 챔버 및 기판 처리 장치
TW201425831A (zh) * 2012-11-30 2014-07-01 Kateeva Inc 氣體包體總成及系統
DE102015110440A1 (de) * 2014-11-20 2016-05-25 Aixtron Se CVD- oder PVD-Reaktor zum Beschichten großflächiger Substrate
CN207646284U (zh) * 2017-12-15 2018-07-24 浙江晶盛机电股份有限公司 一种用于平板式pecvd的进气管道保护结构

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5488967A (en) * 1993-10-27 1996-02-06 Masako Kiyohara Method and apparatus for feeding gas into a chamber
WO2003035927A2 (en) * 2001-10-26 2003-05-01 Applied Materials, Inc. Gas delivery apparatus for atomic layer deposition
CN1774525A (zh) * 2001-10-26 2006-05-17 应用材料有限公司 用于原子层淀积的气体输送装置
CN1563483A (zh) * 2004-04-01 2005-01-12 南昌大学 用于金属有机化学气相沉积设备的双层进气喷头
KR101215511B1 (ko) * 2012-06-27 2012-12-26 (주)이노시티 프로세스 챔버 및 기판 처리 장치
TW201425831A (zh) * 2012-11-30 2014-07-01 Kateeva Inc 氣體包體總成及系統
DE102015110440A1 (de) * 2014-11-20 2016-05-25 Aixtron Se CVD- oder PVD-Reaktor zum Beschichten großflächiger Substrate
CN207646284U (zh) * 2017-12-15 2018-07-24 浙江晶盛机电股份有限公司 一种用于平板式pecvd的进气管道保护结构

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