CN108054116A - 工艺设备及其工作方法 - Google Patents
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Abstract
一种工艺设备及其工作方法,工艺设备包括:传送腔,所述传送腔的侧壁中具有若干第一阀门;位于传送腔周围的若干工艺腔组,各工艺腔组分别包括一个或多个工艺腔,各工艺腔的侧壁中分别具有第二阀门,不同工艺腔组中第二阀门的中心具有高度差,当工艺腔组包括多个工艺腔时,同一工艺腔组中第二阀门的中心的高度相同,第二阀门分别和第一阀门相对设置;位于传送腔中的传送臂组;传送臂组包括若干传送臂单元,各传送臂单元沿着垂直于旋转工作平面的方向上排布,所述旋转工作平面垂直于工艺腔侧壁,传送臂单元的数量和工艺腔组的数量相同,每个传送臂单元通过相对设置的第一阀门和第二阀门对工艺腔取放晶圆。所述工艺设备的工作效率提高。
Description
技术领域
本发明涉及半导体制造领域,尤其涉及一种工艺设备及其工作方法。
背景技术
刻蚀工艺和沉积工艺均为重要的半导体工艺技术。刻蚀工艺和沉积工艺在工艺设备中进行。
工艺设备通常包括传送腔和位于传送腔周围的若干工艺腔。传送腔中具有机械手臂,机械手臂能将晶圆传送至工艺腔中,待晶圆在工艺腔中进行完相应的工艺处理后,机械手臂将晶圆从工艺腔中取出。
然而,现有的工艺设备的工作效率较低。
发明内容
本发明解决的问题是提供一种工艺设备及其工作方法,以提高工艺设备的工作效率。
为解决上述问题,本发明提供一种工艺设备,包括:传送腔,所述传送腔的侧壁中具有若干第一阀门;位于传送腔周围的若干工艺腔组,各工艺腔组分别包括一个或多个工艺腔,各工艺腔的侧壁中分别具有第二阀门,不同工艺腔组中第二阀门的中心具有高度差,当工艺腔组包括多个工艺腔时,同一工艺腔组中第二阀门的中心的高度相同,第二阀门分别和第一阀门相对设置;位于传送腔中的传送臂组;传送臂组包括若干传送臂单元,各传送臂单元沿着垂直于旋转工作平面的方向上排布,所述旋转工作平面垂直于工艺腔侧壁,传送臂单元的数量和工艺腔组的数量相同,每个传送臂单元通过相对设置的第一阀门和第二阀门对工艺腔取放晶圆。
可选的,各传送臂单元包括第一传送臂和第二传送臂,第二传送臂在垂直于旋转工作平面的方向上位于第一传送臂的顶部。
可选的,所述传送臂组还包括垂直于旋转工作平面的传送轴;传送臂单元与传送轴连接,传送臂单元能围绕传送轴进行旋转。
可选的,第一传送臂包括第一伸缩部和第一固定部,第一伸缩部的一端与传送轴连接,第一伸缩部的另一端与第一固定部连接,第一伸缩部用于朝向工艺腔进行伸缩运动;第二传送臂包括第二伸缩部和第二固定部,第二伸缩部的一端与传送轴连接,第二伸缩部的另一端与第二固定部连接,第二伸缩部用于朝向工艺腔进行伸缩运动。
可选的,各工艺腔组中工艺腔的数量相同;或者,各工艺腔组中工艺腔的数量不同。
可选的,所述工艺腔用于对晶圆进行工艺处理;各工艺腔对晶圆进行的工艺处理的工艺相同;或者,当工艺腔组包括多个工艺腔时,同一工艺腔组中至少有两个工艺腔进行的工艺处理的工艺不同。
可选的,若干工艺腔组包括第一工艺腔组和第二工艺腔组,第一工艺腔组包括一个或多个工艺腔,第一工艺腔组中第二阀门的中心的高度相同,第二工艺腔组包括一个或多个工艺腔,第二工艺腔组中第二阀门的中心的高度相同,第二工艺腔组中第二阀门的中心高于第一工艺腔组中第二阀门的中心;若干传送臂单元包括第一传送臂单元和第二传送臂单元,第二传送臂单元在垂直于旋转工作平面的方向上位于第一传送臂单元顶部,第一传送臂单元通过相对设置的第一阀门和第二阀门对第一工艺腔组中的工艺腔取放晶圆,第二传送臂单元通过相对设置的第一阀门和第二阀门对第二工艺腔组中的工艺腔取放晶圆。
可选的,若干工艺腔组还包括第三工艺腔组,第三工艺腔组包括一个或多个工艺腔,第三工艺腔组中第二阀门的中心的高度相同,第三工艺腔组中第二阀门的中心高于第二工艺腔组中第二阀门的中心;若干传送臂单元还包括第三传送臂单元,第三传送臂单元在垂直于旋转工作平面的方向上位于第二传送臂单元顶部,第三传送臂单元通过相对设置的第一阀门和第二阀门对第三工艺腔组中的工艺腔取放晶圆。
本发明还提供一种工艺设备的工作方法,包括:提供若干待处理的晶圆;传送臂单元将待处理的晶圆通过相对设置的第一阀门和第二阀门传送至工艺腔内,一个传送臂单元传送待处理的晶圆至同一工艺腔组中的工艺腔内;所述工艺腔对传送至工艺腔内的待处理的晶圆进行工艺处理;传送臂单元通过相对设置的第一阀门和第二阀门从工艺腔内取出经过工艺处理后的晶圆,一个传送臂单元从同一工艺腔组中的工艺腔内取出经过工艺处理后的晶圆;重复上述传送晶圆至工艺腔内、进行工艺处理以及取出工艺处理后的晶圆的步骤,直至将若干经过工艺处理后的晶圆均从工艺腔内取出。
可选的,各传送臂单元包括第一传送臂和第二传送臂,第二传送臂在垂直于旋转工作平面的方向上位于第一传送臂的顶部;所述第一传送臂通过相对设置的第一阀门和第二阀门从工艺腔内取出经过工艺处理后的晶圆,所述第二传送臂将待处理的晶圆通过相对设置的第一阀门和第二阀门传送至工艺腔内;或者,所述第二传送臂通过相对设置的第一阀门和第二阀门从工艺腔内取出经过工艺处理后的晶圆,所述第一传送臂将待处理的晶圆通过相对设置的第一阀门和第二阀门传送至工艺腔内。
与现有技术相比,本发明的技术方案具有以下优点:
本发明技术方案提供的工艺设备中,同一工艺腔组中的多个第二阀门的中心的高度相同,不同工艺腔组中第二阀门的中心具有高度差。对于各工艺腔组,均有对应的传送臂单元通过相对设置的第一阀门和第二阀门传送晶圆至工艺腔内或从工艺腔内取出晶圆。这样,若干传送臂单元能够分别针对不同工艺腔组中的工艺腔同时作业,若干传送臂单元能分别从不同工艺腔组中的工艺腔内取出晶圆,若干传送臂单元也能分别将晶圆传送至不同工艺腔组中的工艺腔内。综上,提高了工艺设备的工作效率。
附图说明
图1和图2是一种工艺设备的结构示意图;
图3是本发明一实施例中工艺设备的俯视图;
图4是图3中工艺腔的高度位置示意图;
图5是图3中传送臂组的俯视结构示意图;
图6是沿图5中切割线M-N的剖面示意图。
具体实施方式
正如背景技术所述,现有技术形成的工艺设备的工作效率较差。
一种工艺设备,结合参考图1和图2,包括:传送腔100,所述传送腔100的侧壁中具有沿传送腔100周向分布的若干第一阀门;位于传送腔100周围的若干工艺腔110,工艺腔110用于对晶圆进行工艺处理,各工艺腔110的侧壁中具有第二阀门120,不同工艺腔110中第二阀门120的中心的高度相同,第二阀门120分别和第一阀门相对设置;位于传送腔100中的一个传送臂单元130,传送臂单元130用于将晶圆传送至工艺腔110内或从工艺腔110内取出晶圆,所述传送臂单元130通过相对设置的第一阀门和第二阀门120取放晶圆。
传送腔100周围具有若干工艺腔110,若干工艺腔110能够同步对多个晶圆进行工艺处理。传送臂单元130具有旋转工作平面,旋转工作平面垂直于各工艺腔110的侧壁。传送臂单元130包括两个沿垂直于旋转工作平面分布的传送臂。其中,一个传送臂用于将经过工艺处理的晶圆从工艺腔110中取出,另一个晶圆随即将一片待处理的晶圆传送至工艺腔110内。
为了使各传送腔100中晶圆取放均能采用该传送臂单元130进行,因此若干第二阀门120的中心的高度需要一致。
其次,在工艺腔110对晶圆进行工艺处理的过程中,工艺处理产生的材料层或副产物会形成在第二阀门120的缝隙中。通常第二阀门120在垂直于旋转工作平面方向上的尺寸较小,这样减少第二阀门120的缝隙中聚积的材料层或副产物,便于后续对第二阀门120的清洁。而各传送臂在垂直于旋转工作平面方向上的尺寸不能过薄,否则传送臂容易弯曲,对晶圆的支撑能力较差。在此基础上,通常一个第二阀门120中最多能通过两个传送臂。
为了方便说明,若干工艺腔包括第一工艺腔和第二工艺腔。
在一个传送臂用于将第一工艺腔内的晶圆取出时,如果第二工艺腔也完成了对晶圆的工艺处理而需要将第二工艺腔中的晶圆取出,那么第二工艺腔中的晶圆需要等待传送臂将第一工艺腔内的晶圆取出后,才能利用传送臂传送出去。导致第二工艺腔中的晶圆无法及时传送出去,因此降低了工艺设备整体的工作效率。
在此基础上,本发明提供一种工艺设备,包括:传送腔,所述传送腔的侧壁中具有若干第一阀门;位于传送腔周围的若干工艺腔组,各工艺腔组分别包括一个或多个工艺腔,各工艺腔的侧壁中分别具有第二阀门,不同工艺腔组中第二阀门的中心具有高度差,同一工艺腔组中的多个第二阀门的中心的高度相同;位于传送腔中的传送臂组;传送臂组包括若干传送臂单元,每个传送臂单元通过相对设置的第一阀门和第二阀门对同一工艺腔组中的工艺腔取放晶圆。所述工艺设备工作效率提高。
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂,下面结合附图对本发明的具体实施例做详细的说明。
图3和图4是本发明一实施例中工艺设备的结构示意图。
工艺设备,结合参考图3和图4,包括:
传送腔200,所述传送腔200的侧壁中具有若干第一阀门(未图示);
位于传送腔200周围的若干工艺腔组,各工艺腔组分别包括一个或多个工艺腔210,各工艺腔210的侧壁中分别具有第二阀门211,不同工艺腔组中第二阀门211的中心具有高度差,当工艺腔组包括多个工艺腔210时,同一工艺腔组中第二阀门211的中心的高度相同,第二阀门211分别和第一阀门相对设置;
位于传送腔200中的传送臂组;
传送臂组包括若干传送臂单元,各传送臂单元沿着垂直于旋转工作平面的方向上排布,所述旋转工作平面垂直于工艺腔210侧壁,传送臂单元的数量和工艺腔组的数量相同,每个传送臂单元通过相对设置的第一阀门和第二阀门211对工艺腔210取放晶圆。
所述工艺腔210用于对晶圆进行工艺处理。
所述旋转工作平面垂直于各工艺腔210的侧壁。
本实施例中,若干工艺腔组包括第一工艺腔组A和第二工艺腔组B,第一工艺腔组A包括一个或多个工艺腔210,第一工艺腔组A中第二阀门211的中心的高度相同,第二工艺腔组B包括一个或多个工艺腔210,第二工艺腔组B中第二阀门211的中心的高度相同,第二工艺腔组B中第二阀门211的中心高于第一工艺腔组中第二阀门211的中心。
需要说明的是,在传送臂单元传送晶圆的过程中,当传送臂单元通过第一阀门和第二阀门211时,第一阀门和第二阀门211打开,当工艺腔210对晶圆进行工艺处理时,第一阀门和第二阀门211关闭。
本实施例中,通过调节不同工艺腔组中工艺腔210的中心至基准面的高度,来实现不同工艺腔组中对应第二阀门211的中心至基准面的高度。同一工艺腔组中对应的第二阀门211的中心至基准面的高度相同。所述基准面位于工艺设备底部。
本实施例中,以第一工艺腔组A包括两个工艺腔210,第二工艺腔组B包括两个工艺腔210为示例进行说明。
本实施例中,当若干工艺腔组包括第一工艺腔组A和第二工艺腔组B时,若干传送臂单元包括第一传送臂单元221和第二传送臂单元222,第二传送臂单元222在垂直于旋转工作平面的方向上位于第一传送臂单元221顶部。第一传送臂单元221通过相对设置的第一阀门和第二阀门211对第一工艺腔组A中的工艺腔210取放晶圆,第二传送臂单元222通过相对设置的第一阀门和第二阀门211对第二工艺腔组B中的工艺腔210取放晶圆。
各传送臂单元包括第一传送臂240(结合参考图5和图6)和第二传送臂250(结合参考图5和图6),第二传送臂250在垂直于旋转工作平面的方向上位于第一传送臂240的顶部。
所述第一传送臂240用于从工艺腔210内取出晶圆,所述第二传送臂250用于将晶圆传送至工艺腔210内;或者,所述第一传送臂240用于将晶圆传送至工艺腔210内,所述第二传送臂250用于从工艺腔210内取出晶圆。
第一传送臂240将经过工艺处理的晶圆从工艺腔210中取出,第二传送臂250随即将一片待处理的晶圆传送至工艺腔210内,之后,工艺腔210对第二传送臂250传送至工艺腔210的晶圆进行相应的工艺处理。或者,第二传送臂250将经过工艺处理的晶圆从工艺腔210中取出,第一传送臂240随即将一片待处理的晶圆传送至工艺腔210内,之后,工艺腔210对第一传送臂240传送至工艺腔210的晶圆进行相应的工艺处理。在上述情况下,第一阀门和第二阀门211打开一次,从工艺腔210内取出一片工艺处理完成后的晶圆,且将一片待处理的晶圆放置于工艺腔210内。
所述传送臂组还包括垂直于旋转工作平面的传送轴230(结合参考图5和图6);传送臂单元与传送轴230连接,传送臂单元能围绕传送轴230进行旋转。
第一传送臂240包括第一伸缩部241和第一固定部242,第一伸缩部241的一端与传送轴230连接,第一伸缩部241的另一端与第一固定部242连接,第一伸缩部用于朝向工艺腔210进行伸缩运动;第二传送臂250包括第二伸缩部251和第二固定部252,第二伸缩部251的一端与传送轴230连接,第二伸缩部251的另一端与第二伸缩部251连接,第二伸缩部251用于朝向工艺腔210进行伸缩运动。
本实施例中,在第一传送臂单元221对第一工艺腔组A中的工艺腔210进行作业的同时,第二传送臂单元222对第二工艺腔组B中的工艺腔210进行作业,提高了工艺设备的工作效率。
在其它实施例中,若干工艺腔组包括第一工艺腔组、第二工艺腔组和第三工艺腔组,第一工艺腔组包括一个或多个工艺腔,第一工艺腔组中第二阀门的中心的高度相同,第二工艺腔组包括一个或多个工艺腔,第二工艺腔组中第二阀门的中心的高度相同,第三工艺腔组包括一个或多个工艺腔,第三工艺腔组中第二阀门的中心的高度相同,第二工艺腔组中第二阀门的中心高于第一工艺腔组中第二阀门的中心,第三工艺腔组中第二阀门的中心高于第二工艺腔组中第二阀门的中心。相应的,若干传送臂单元包括第一传送臂单元、第二传送臂单元和第三传送臂单元,第二传送臂单元在垂直于旋转工作平面的方向上位于第一传送臂单元顶部,第三传送臂单元在垂直于旋转工作平面的方向上位于第二传送臂单元顶部。第一传送臂单元通过相对设置的第一阀门和第二阀门对第一工艺腔组中的工艺腔取放晶圆,第二传送臂单元通过相对设置的第一阀门和第二阀门对第二工艺腔组中的工艺腔取放晶圆,第三传送臂单元通过相对设置的第一阀门和第二阀门对第三工艺腔组中的工艺腔取放晶圆。
需要说明的是,在上述描述中,第一工艺腔组中第二阀门的中心的高度相同,第二工艺腔组中第二阀门的中心的高度相同,第三工艺腔组中第二阀门的中心的高度相同,是以第二阀门的中心至基准面的高度进行比较的;在上述描述中,第二工艺腔组中第二阀门的中心高于第一工艺腔组中第二阀门的中心、以及第三工艺腔组中第二阀门的中心高于第二工艺腔组中第二阀门的中心,是以第二阀门的中心至基准面的高度进行比较的。
在上述情况下,第一传送臂单元对第一工艺腔组中的工艺腔进行作业的同时,第二传送臂单元对第二工艺腔组中的工艺腔进行作业,第三传送臂单元对第三工艺腔组中的工艺腔进行作业,提高了工艺设备的工作效率。
在其它实施例中,若干工艺腔组的数量大于或者等于4。
本实施例中,各工艺腔组中工艺腔210的数量相同,好处包括:各传送臂单元等待作业的时间差较小,进一步提高了工艺设备的工作效率。
在其它实施例中,各工艺腔组中工艺腔的数量不同。
本实施例中,各工艺腔210对晶圆进行的工艺处理的工艺相同。
在其它实施例中,当工艺腔组包括多个工艺腔时,同一工艺腔组中至少有两个工艺腔进行的工艺处理的工艺不同,好处包括:当传送臂单元将晶圆从一个工艺腔中取出至传送腔,能够直接将该晶圆从传送腔传送至同一工艺腔组中的另一个所进行的工艺不同的工艺腔内,之后对晶圆进行不同的工艺处理。进一步提高了工艺设备的工作效率。
具体的,同一工艺腔组中一个工艺腔用于沉积第一材料层,另一个工艺腔用于沉积第二材料层,第二材料层和第一材料层不同;当晶圆在一个工艺腔内进行沉积第一材料层的工艺后,传送臂单元将晶圆从沉积第一材料层的工艺腔内取出至传送腔,之后,将直接将该晶圆从传送腔传送至沉积第二材料层的工艺腔内,在晶圆表面沉积第二材料层。
需要说明的是,同一工艺腔组中的工艺腔在位置上彼此相邻;或者,一组工艺腔组中的工艺腔之间排布有另一组工艺腔组中的工艺腔。
需要说明的是,本实施例中,第二阀门211分别和第一阀门相对设置,对于相对设置的第二阀门211和第一阀门,传送腔200中设置有第一阀门的侧壁与工艺腔210中设置有第二阀门211的侧壁相对,第二阀门211的中心轴和第一阀门的中心轴重合。
本实施例还提供一种上述工艺设备的工作方法,包括:提供若干待处理的晶圆;传送臂单元将待处理的晶圆通过相对设置的第一阀门和第二阀门211传送至工艺腔210内,一个传送臂单元传送待处理的晶圆至同一工艺腔组中的工艺腔210内;所述工艺腔210对传送至工艺腔210内的待处理的晶圆进行工艺处理;传送臂单元通过相对设置的第一阀门和第二阀门211从工艺腔210内取出经过工艺处理后的晶圆,一个传送臂单元从同一工艺腔组中的工艺腔210内取出经过工艺处理后的晶圆;重复上述传送晶圆至工艺腔210内、进行工艺处理以及取出工艺处理后的晶圆的步骤,直至将若干经过工艺处理后的晶圆均从工艺腔210内取出。
各传送臂单元包括第一传送臂240和第二传送臂250,第二传送臂250在垂直于旋转工作平面的方向上位于第一传送臂240的顶部。
所述第一传送臂240通过相对设置的第一阀门和第二阀门211从工艺腔210内取出经过工艺处理后的晶圆,所述第二传送臂250将待处理的晶圆通过相对设置的第一阀门和第二阀门211传送至工艺腔210内。
或者,所述第二传送臂250通过相对设置的第一阀门和第二阀门211从工艺腔210内取出经过工艺处理后的晶圆,所述第一传送臂240将待处理的晶圆通过相对设置的第一阀门和第二阀门211传送至工艺腔210内。
虽然本发明披露如上,但本发明并非限定于此。任何本领域技术人员,在不脱离本发明的精神和范围内,均可作各种更动与修改,因此本发明的保护范围应当以权利要求所限定的范围为准。
Claims (10)
1.一种工艺设备,其特征在于,包括:
传送腔,所述传送腔的侧壁中具有若干第一阀门;
位于传送腔周围的若干工艺腔组,各工艺腔组分别包括一个或多个工艺腔,各工艺腔的侧壁中分别具有第二阀门,不同工艺腔组中第二阀门的中心具有高度差,当工艺腔组包括多个工艺腔时,同一工艺腔组中第二阀门的中心的高度相同,第二阀门分别和第一阀门相对设置;
位于传送腔中的传送臂组;
传送臂组包括若干传送臂单元,各传送臂单元沿着垂直于旋转工作平面的方向上排布,所述旋转工作平面垂直于工艺腔侧壁,传送臂单元的数量和工艺腔组的数量相同,每个传送臂单元通过相对设置的第一阀门和第二阀门对工艺腔取放晶圆。
2.根据权利要求1所述的工艺设备,其特征在于,各传送臂单元包括第一传送臂和第二传送臂,第二传送臂在垂直于旋转工作平面的方向上位于第一传送臂的顶部。
3.根据权利要求2所述的工艺设备,其特征在于,所述传送臂组还包括垂直于旋转工作平面的传送轴;传送臂单元与传送轴连接,传送臂单元能围绕传送轴进行旋转。
4.根据权利要求3所述的工艺设备,其特征在于,第一传送臂包括第一伸缩部和第一固定部,第一伸缩部的一端与传送轴连接,第一伸缩部的另一端与第一固定部连接,第一伸缩部用于朝向工艺腔进行伸缩运动;第二传送臂包括第二伸缩部和第二固定部,第二伸缩部的一端与传送轴连接,第二伸缩部的另一端与第二固定部连接,第二伸缩部用于朝向工艺腔进行伸缩运动。
5.根据权利要求1所述的工艺设备,其特征在于,各工艺腔组中工艺腔的数量相同;或者,各工艺腔组中工艺腔的数量不同。
6.根据权利要求1所述的工艺设备,其特征在于,所述工艺腔用于对晶圆进行工艺处理;各工艺腔对晶圆进行的工艺处理的工艺相同;或者,当工艺腔组包括多个工艺腔时,同一工艺腔组中至少有两个工艺腔进行的工艺处理的工艺不同。
7.根据权利要求1所述的工艺设备,其特征在于,若干工艺腔组包括第一工艺腔组和第二工艺腔组,第一工艺腔组包括一个或多个工艺腔,第一工艺腔组中第二阀门的中心的高度相同,第二工艺腔组包括一个或多个工艺腔,第二工艺腔组中第二阀门的中心的高度相同,第二工艺腔组中第二阀门的中心高于第一工艺腔组中第二阀门的中心;
若干传送臂单元包括第一传送臂单元和第二传送臂单元,第二传送臂单元在垂直于旋转工作平面的方向上位于第一传送臂单元顶部,第一传送臂单元通过相对设置的第一阀门和第二阀门对第一工艺腔组中的工艺腔取放晶圆,第二传送臂单元通过相对设置的第一阀门和第二阀门对第二工艺腔组中的工艺腔取放晶圆。
8.根据权利要求7所述的工艺设备,其特征在于,若干工艺腔组还包括第三工艺腔组,第三工艺腔组包括一个或多个工艺腔,第三工艺腔组中第二阀门的中心的高度相同,第三工艺腔组中第二阀门的中心高于第二工艺腔组中第二阀门的中心;
若干传送臂单元还包括第三传送臂单元,第三传送臂单元在垂直于旋转工作平面的方向上位于第二传送臂单元顶部,第三传送臂单元通过相对设置的第一阀门和第二阀门对第三工艺腔组中的工艺腔取放晶圆。
9.如权利要求1所述工艺设备的工作方法,其特征在于,包括:
提供若干待处理的晶圆;
传送臂单元将待处理的晶圆通过相对设置的第一阀门和第二阀门传送至工艺腔内,一个传送臂单元传送待处理的晶圆至同一工艺腔组中的工艺腔内;
所述工艺腔对传送至工艺腔内的待处理的晶圆进行工艺处理;
传送臂单元通过相对设置的第一阀门和第二阀门从工艺腔内取出经过工艺处理后的晶圆,一个传送臂单元从同一工艺腔组中的工艺腔内取出经过工艺处理后的晶圆;
重复上述传送晶圆至工艺腔内、进行工艺处理以及取出工艺处理后的晶圆的步骤,直至将若干经过工艺处理后的晶圆均从工艺腔内取出。
10.根据权利要求9所述的工作方法,其特征在于,各传送臂单元包括第一传送臂和第二传送臂,第二传送臂在垂直于旋转工作平面的方向上位于第一传送臂的顶部;
所述第一传送臂通过相对设置的第一阀门和第二阀门从工艺腔内取出经过工艺处理后的晶圆,所述第二传送臂将待处理的晶圆通过相对设置的第一阀门和第二阀门传送至工艺腔内;
或者,所述第二传送臂通过相对设置的第一阀门和第二阀门从工艺腔内取出经过工艺处理后的晶圆,所述第一传送臂将待处理的晶圆通过相对设置的第一阀门和第二阀门传送至工艺腔内。
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PB01 | Publication | ||
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20180518 |
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WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |