CN108039336B - 一种石墨舟对中装置 - Google Patents

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Abstract

本发明是一种石墨舟对中装置，包括石墨舟盖板，石墨舟底盘，石墨舟盖板对中模块，石墨舟底盘对中模块和底座；其中，石墨舟盖板对中模块和石墨舟底盘对中模固定于底座上，石墨舟盖板盖于石墨舟底盘上，石墨舟底盘通过石墨舟盖板对中模块和石墨舟底盘对中模块对中于底座上。优点：1、在不增加机械手步骤降低产能的情况下完成石墨舟的对中。2、解决了由于设备老化、不稳定导致石墨舟位置变动导致的晶片报废的情况。3、提高了石墨舟在腔室内位置的稳定性。

Description

一种石墨舟对中装置
技术领域
本发明涉及一种石墨舟对中装置，属于半导体技术领域。
背景技术
在半导体晶圆制备中，器件与外部的连接需要具有欧姆接触的金属电极来完成，因此在金属蒸发后需要快速退火来改善金属与半导体欧姆接触。对于化合物晶片的制程一般要在200℃-900℃，而快速退火炉是进行金属电极合金化的核心设备。由于化合物半导体材料不能像硅片那样充分吸收光的能量，所以在化合物半导体退火工艺中，我们通常将晶片放置到石墨舟里，然后再将石墨舟放置腔室内进行工艺。
原有结构由于设备的使用与老化，机械手的传输不一定那么稳定，或者机械的水平、设备的水平发生问题的时候，不可避免的会发生石墨舟的盖板偏移、底盘偏移。这样会严重影响合金、退火晶片的均匀性，导致晶片报废。偏移更有甚者会导致盖板掉落破碎，或者压到晶片导致晶片破裂。通常做法会对晶片做一个对中，但是目前还未有对载具做对中的方案。
发明内容
本发明提出了一种石墨舟对中装置，旨在通过结构设计实现石墨舟底盘及盖板的自对中，减少晶片碎片，提高工艺稳定性。
本发明的技术方案：
一种石墨舟对中装置，其结构包括石墨舟盖板1，石墨舟底盘9，石墨舟盖板对中模块10，石墨舟底盘对中模块11和底座6；其中，石墨舟盖板对中模块10和石墨舟底盘对中模块11固定于底座6上，石墨舟盖板1盖于石墨舟底盘9上，石墨舟底盘9通过石墨舟盖板对中模块10和石墨舟底盘对中模块11对中于底座6上。
本发明的有益效果：
1、在不增加机械手步骤降低产能的情况下完成石墨舟的对中。
2、解决了由于设备老化、不稳定导致石墨舟位置变动导致的晶片报废的情况。
3、提高了石墨舟在腔室内位置的稳定性。
附图说明
图1是石墨舟对中装置结构的爆炸图。
图2是石墨舟对中装置结构的合成图。
图3是底盘的俯视图。
图4是石墨舟盖板对中模块的正视图。
图5是石墨舟底盘对中模块的正视图。
图中1是石墨舟盖板；2是晶片；6是底座； 9是石墨舟底盘；10是石墨舟盖板对中模块；11是石墨舟底盘对中模块；12是石墨舟盖板对中模块预留槽；13是石墨舟盖板取样槽；14是石墨舟盖板边槽；15是晶片边槽；16是取晶片预留槽；17是石墨舟盖板导轨槽；18是石墨舟盖板支撑面；19是晶片支撑片；20是石墨舟底盘下降导柱；21是石墨舟底盘下降对中斜面；22是石墨舟底盘支撑面。
具体实施方式
一种石墨舟对中装置，包括石墨舟盖板1，石墨舟底盘9，石墨舟盖板对中模块10，石墨舟底盘对中模块11和底座6；其中，石墨舟盖板对中模块10和石墨舟底盘对中模块11固定于底座6上，石墨舟盖板1盖于石墨舟底盘9上，石墨舟底盘9通过石墨舟盖板对中模块10和石墨舟底盘对中模块11对中于底座6上。
所述石墨舟盖板对中模块10有3个。
所述石墨舟底盘对中模块11有3个。
所述石墨舟底盘9上有通孔8，对中模块预留槽12，石墨舟盖板取样槽13，石墨舟盖板边槽14，晶片边槽15和取晶片预留槽16；其中，石墨舟底盘9圆周上表面有石墨舟盖板边槽14，石墨舟盖板取样槽13位于石墨舟底盘9上表面，石墨舟盖板取样槽13连接石墨舟盖板边槽14和晶片边槽15，石墨舟底盘9中部上表面有晶片边槽15，取晶片预留槽16位于晶片边槽15上，对中模块预留槽12位于石墨舟底盘9圆周侧面，通孔8位于石墨舟底盘9中心上表面。
所述通孔8有3个。
所述对中模块预留槽12有3个。
所述石墨舟盖板对中模块10包括石墨舟盖板导轨槽17和石墨舟盖板支撑面18；石墨舟盖板导轨槽17和石墨舟盖板支撑面18相连，石墨舟盖板支撑面18固定于底座6上。
所述石墨舟底盘对中模块11包括晶片支撑片19、石墨舟底盘下降导柱20、石墨舟底盘下降对中斜面21和石墨舟底盘支撑面22；晶片支撑片19连接石墨舟底盘下降导柱20，石墨舟底盘下降导柱20连接石墨舟底盘下降对中斜面21，石墨舟底盘下降对中斜面21连接石墨舟底盘支撑面22，石墨舟底盘支撑面22固定于底座6上。
下面结合附图进一步说明本发明的技术方案。
如图1和图2所示，石墨舟对中装置，包括石墨舟盖板1，石墨舟底盘9，石墨舟盖板对中模块10，石墨舟底盘对中模块11和底座6；其中，石墨舟盖板对中模块10和石墨舟底盘对中模块11固定于底座6上，石墨舟盖板1盖于石墨舟底盘9上，石墨舟底盘9通过石墨舟盖板对中模块10和石墨舟底盘对中模块11对中于底座6上。
如图3所示，石墨舟底盘9上有3个通孔8，对中模块预留槽12，石墨舟盖板取样槽13，石墨舟盖板边槽14，晶片边槽15和取晶片预留槽16；石墨舟底盘9圆周上表面有石墨舟盖板边槽14，石墨舟盖板取样槽13位于石墨舟底盘9上表面，石墨舟盖板取样槽13连接石墨舟盖板边槽14和晶片边槽15，石墨舟底盘9中部上表面有晶片边槽15，取晶片预留槽16位于晶片边槽15上，对中模块预留槽12位于石墨舟底盘9圆周侧面，通孔8位于石墨舟底盘9中心上表面。
如图4所示，石墨舟盖板对中模块10包括石墨舟盖板导轨槽17和石墨舟盖板支撑面18；石墨舟盖板导轨槽17和石墨舟盖板支撑面18相连，石墨舟盖板支撑面18固定于底座6上。
如图5所示，石墨舟底盘对中模块11包括晶片支撑片19、石墨舟底盘下降导柱20、石墨舟底盘下降对中斜面21和石墨舟底盘支撑面22；晶片支撑片19连接石墨舟底盘下降导柱20，石墨舟底盘下降导柱20连接石墨舟底盘下降对中斜面21，石墨舟底盘下降对中斜面21连接石墨舟底盘支撑面22，石墨舟底盘支撑面22固定于底座6上。
实施例1
机械手将带有晶片的石墨舟自上往下放置的时候，石墨舟盖板对中模块10首先穿过石墨舟底盘9上的石墨舟盖板对中模块的预留槽12，如果石墨舟盖板1偏移则会沿着石墨舟盖板的导轨槽17向下运动，最终停留着石墨舟盖板支撑面18上。
机械手继续向下运动，石墨舟盖板会与底盘分离，石墨舟底盘对中模块11穿过石墨舟底盘9上石墨舟底盘短顶针的通孔8，在晶片的支撑片19处将晶片2顶出，竖直方向上固定。此时石墨舟底盘9与晶片2开始分离，紧接着石墨舟底盘9顺着石墨舟底盘下降导柱20向下运动，通过石墨舟底盘下降对中斜面21完成石墨盘的对中，最终落在石墨舟底盘支撑面22，完成对中过程。

Claims (5)

1.一种石墨舟对中装置，其特征是包括石墨舟盖板，石墨舟底盘，石墨舟盖板对中模块，石墨舟底盘对中模块和底座；其中，石墨舟盖板对中模块和石墨舟底盘对中模块固定于底座上，石墨舟盖板盖于石墨舟底盘上，石墨舟底盘通过石墨舟盖板对中模块和石墨舟底盘对中模块对中于底座的中央；
所述石墨舟底盘上有通孔，对中模块预留槽，石墨舟盖板取样槽，石墨舟盖板边槽，晶片边槽和取晶片预留槽；其中，石墨舟底盘的圆周上表面有石墨舟盖板边槽，石墨舟盖板取样槽位于石墨舟底盘上表面，石墨舟盖板取样槽连接石墨舟盖板边槽和晶片边槽，石墨舟底盘中部上表面有晶片边槽，取晶片预留槽位于晶片边槽上，对中模块预留槽位于石墨舟底盘圆周侧面，通孔位于石墨舟底盘中心上表面；
所述石墨舟盖板对中模块包括石墨舟盖板导轨槽和石墨舟盖板支撑面；其中，石墨舟盖板导轨槽和石墨舟盖板支撑面相连，石墨舟盖板支撑面固定于底座上；
所述石墨舟底盘对中模块包括晶片支撑片、石墨舟底盘下降导柱、石墨舟底盘下降对中斜面和石墨舟底盘支撑面；其中，晶片支撑片连接石墨舟底盘下降导柱，石墨舟底盘下降导柱连接石墨舟底盘下降对中斜面，石墨舟底盘下降对中斜面连接石墨舟底盘支撑面，石墨舟底盘支撑面固定于底座上。
2.根据权利要求1所述的一种石墨舟对中装置，其特征在于：所述石墨舟盖板对中模块有3个。
3.根据权利要求1所述的一种石墨舟对中装置，其特征在于：所述石墨舟底盘对中模块有3个。
4.根据权利要求1所述的一种石墨舟对中装置，其特征在于：所述通孔有3个。
5.根据权利要求1所述的一种石墨舟对中装置，其特征在于：所述对中模块预留槽有3个。
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN117174644B (zh) * 2023-11-01 2024-02-06 江苏邑文微电子科技有限公司 晶圆加热承载装置、晶圆加热生产线及晶圆加热方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR950015665U (ko) * 1993-11-26 1995-06-19 현대전자산업주식회사 웨이퍼 수직 장착이 가능한 보트 정렬장치
TW479843U (en) * 2001-01-12 2002-03-11 Global Testing Corp Support plate and platform cover assembly
CN1868830A (zh) * 2005-05-25 2006-11-29 未来儿株式会社 单片收纳容器及使用于其上的缓冲支撑部件
CN201918379U (zh) * 2011-01-11 2011-08-03 无锡绿波新能源设备有限公司 硅片固定用定位柱
CN102214592A (zh) * 2011-04-01 2011-10-12 石金精密科技（深圳）有限公司 石墨舟定位柱装配方法
WO2011139127A2 (ko) * 2010-05-07 2011-11-10 나노세미콘(주) 웨이퍼 처리 장치의 이중 보트 구조
KR20110136400A (ko) * 2010-06-15 2011-12-21 주식회사 씨엔디플러스 웨이퍼 지지장치

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN207705176U (zh) * 2017-11-23 2018-08-07 中国电子科技集团公司第五十五研究所 一种石墨舟对中装置

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR950015665U (ko) * 1993-11-26 1995-06-19 현대전자산업주식회사 웨이퍼 수직 장착이 가능한 보트 정렬장치
TW479843U (en) * 2001-01-12 2002-03-11 Global Testing Corp Support plate and platform cover assembly
CN1868830A (zh) * 2005-05-25 2006-11-29 未来儿株式会社 单片收纳容器及使用于其上的缓冲支撑部件
WO2011139127A2 (ko) * 2010-05-07 2011-11-10 나노세미콘(주) 웨이퍼 처리 장치의 이중 보트 구조
KR20110136400A (ko) * 2010-06-15 2011-12-21 주식회사 씨엔디플러스 웨이퍼 지지장치
CN201918379U (zh) * 2011-01-11 2011-08-03 无锡绿波新能源设备有限公司 硅片固定用定位柱
CN102214592A (zh) * 2011-04-01 2011-10-12 石金精密科技（深圳）有限公司 石墨舟定位柱装配方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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石墨舟上下料机的研制;岳军;;电子工艺技术(06);55-57+63页 *

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