CN107992234A - 一种智能穿戴触摸屏及其半透ito膜层制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种智能穿戴触摸屏及其半透ITO膜层制作方法,包括从上到下依次设置的玻璃盖板层和显示层,所述显示层包括透光率为49~59%的半透ITO膜层,所述半透ITO膜层下层依次设置有高折射率膜层和低折射率膜层,所述半透ITO膜层的材质为氧化铟锡,所述高折射率膜层的材质为二氧化钛,所述低折射率膜层的材质二氧化硅,所述半透ITO膜层的厚度为0.1‑2.0mm。本发明具有工艺简单、加工难度低,生产成本低的优点。

Description

一种智能穿戴触摸屏及其半透ITO膜层制作方法
技术领域
本发明涉及显示屏领域,特别涉及一种智能穿戴触摸屏及其半透ITO膜层制作方法。
背景技术
目前智能穿戴触摸屏为了达到半透效果,通常的做法是:一、是在玻璃盖板表面蒸镀二层饮氧化物,但是该方法会大幅降低玻璃盖板的抗冲击强度;二、是在玻璃盖板上面丝印一层半透黑色油墨,但此方法工艺复杂,加工难度高,生产成本。
发明内容
本发明的目的是提供一种智能穿戴触摸屏及其半透ITO膜层制作方法,以解决现有技术中为了使得手表屏幕达到半透效果,而导致玻璃盖板的抗冲击强度变弱,或者是工艺复杂,加工难度高,生产成本的问题。
为了实现上述目的,本发明提供如下技术方案:
一种智能穿戴触摸屏,包括从上到下依次设置的玻璃盖板层和显示层,所述显示层包括透光率为49~59%的半透ITO膜层,所述半透ITO膜层下层依次设置有高折射率膜层和低折射率膜层,所述半透ITO膜层的材质为氧化铟锡,所述高折射率膜层的材质为二氧化钛,所述低折射率膜层的材质二氧化硅,所述半透ITO膜层的厚度为0.1-2.0mm。
进一步地,所述半透ITO膜层的厚度为0.175mm。
进一步地,所述高折射率膜层的厚度为0.01mm。
进一步地,所述低折射率膜层的厚度为0.03mm。
一种半透ITO膜层的制作方法,包括以下步骤 :
(1)将锡的无机盐前驱物溶于乙醇,将铟的无机盐前驱物溶于乙酰丙酮,控制锡和铟的摩尔比为 1 ∶ 10 ;将两种溶液混合后,加入与前面两种混合溶液浓度比为10%的黑色粉,在62到64℃下搅拌回流 2.5个小时,得到均一半透明的淡黑色溶胶 ;
(2)以石英玻璃为基体,对上述半透明的淡黑色溶胶进行提拉镀膜,提拉速度为200mm/min ;再将溶胶膜在 100℃下预热处理 10 分钟,之后在 550℃下退火处理1小时,得到1层的ITO 膜;重复以上步骤,得到多层的 ITO 膜 ;
(3)将前述多层的 ITO 膜置于紫外光源下经紫外光照射处理 1 ~ 10 分钟,得到具有半透效果的 ITO 膜。
本发明的有益效果为:
本发明通过在ITO膜层加入色粉,使ITO膜层达到半透效果,从而解决了现有技术中为了使得手表屏幕达到半透效果,而导致玻璃盖板的抗冲击强度变弱,或者是工艺复杂,加工难度高,生产成本的问题,而且在所述半透ITO膜层下层依次设置有高折射率膜层和低折射率膜层,有效的提升了产品显示效果。本发明具有工艺简单、加工难度低,生产成本低的优点。
附图说明
图1是本发明的结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图对本发明进行进一步说明:
如图1所示的,一种智能穿戴触摸屏,包括从上到下依次设置的玻璃盖板层1和显示层,所述显示层包括透光率为49~59%的半透ITO膜层2,所述半透ITO膜层2下层依次设置有高折射率膜层3和低折射率膜层4,所述半透ITO膜层2的材质为氧化铟锡,所述高折射率膜层3的材质为二氧化钛,所述低折射率膜层4的材质二氧化硅,所述半透ITO膜层2的厚度为0.1-2.0mm。
进一步地,所述半透ITO膜层2的厚度为0.175mm。
进一步地,所述高折射率膜层3的厚度为0.01mm。
进一步地,所述低折射率膜层4的厚度为0.03mm。
一种半透ITO膜层的制作方法,包括以下步骤 :
(1)将锡的无机盐前驱物溶于乙醇,将铟的无机盐前驱物溶于乙酰丙酮,控制锡和铟的摩尔比为 1 ∶ 10 ;将两种溶液混合后,加入与前面两种混合溶液浓度比为10%的黑色粉,在62到64℃下搅拌回流 2.5个小时,得到均一半透明的淡黑色溶胶 ;
(2)以石英玻璃为基体,对上述半透明的淡黑色溶胶进行提拉镀膜,提拉速度为200mm/min ;再将溶胶膜在 100℃下预热处理 10 分钟,之后在 550℃下退火处理1小时,得到1层的ITO 膜;重复以上步骤,得到多层的 ITO 膜 ;
(3)将前述多层的 ITO 膜置于紫外光源下经紫外光照射处理 1 ~ 10 分钟,得到具有半透效果的 ITO 膜。
本发明首次采用在ITO膜层加入色粉,使ITO膜层达到半透效果,从而解决了现有技术中为了使得手表屏幕达到半透效果,而导致玻璃盖板的抗冲击强度变弱,或者是工艺复杂,加工难度高,生产成本的问题,而且在所述半透ITO膜层下层依次设置有高折射率膜层和低折射率膜层,有效的提升了产品显示效果。本发明具有工艺简单、加工难度低,生产成本低的优点。
以上所述并非对本发明的技术范围作任何限制,凡依据本发明技术实质对以上的实施例所作的任何修改、等同变化与修饰,均仍属于本发明的技术方案的范围内。

Claims (5)

1.一种智能穿戴触摸屏,其特征在于:包括从上到下依次设置的玻璃盖板层和显示层,所述显示层包括透光率为49~59%的半透ITO膜层,所述半透ITO膜层下层依次设置有高折射率膜层和低折射率膜层,所述半透ITO膜层的材质为氧化铟锡,所述高折射率膜层的材质为二氧化钛,所述低折射率膜层的材质二氧化硅,所述半透ITO膜层的厚度为0.1-2.0mm。
2.根据权利要求1所述的一种智能穿戴触摸屏,其特征在于:所述半透ITO膜层的厚度为0.175mm。
3.根据权利要求1所述的一种智能穿戴触摸屏,其特征在于:所述高折射率膜层的厚度为0.01mm。
4.根据权利要求1所述的一种智能穿戴触摸屏,其特征在于:所述低折射率膜层的厚度为0.03mm。
5.一种半透ITO膜层的制作方法,其特征在于:包括以下步骤 :
(1)将锡的无机盐前驱物溶于乙醇,将铟的无机盐前驱物溶于乙酰丙酮,控制锡和铟的摩尔比为 1 ∶ 10 ;将两种溶液混合后,加入与前面两种混合溶液浓度比为10%的黑色粉,在62到64℃下搅拌回流 2.5个小时,得到均一半透明的淡黑色溶胶 ;
(2)以石英玻璃为基体,对上述半透明的淡黑色溶胶进行提拉镀膜,提拉速度为200mm/min ;再将溶胶膜在 100℃下预热处理 10 分钟,之后在 550℃下退火处理1小时,得到1层的ITO 膜;重复以上步骤,得到多层的 ITO 膜 ;
(3)将前述多层的 ITO 膜置于紫外光源下经紫外光照射处理 1 ~ 10 分钟,得到具有半透效果的 ITO 膜。
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