CN107976328B - 防溅射分子沉骨架 - Google Patents

防溅射分子沉骨架 Download PDF

Info

Publication number
CN107976328B
CN107976328B CN201810030582.6A CN201810030582A CN107976328B CN 107976328 B CN107976328 B CN 107976328B CN 201810030582 A CN201810030582 A CN 201810030582A CN 107976328 B CN107976328 B CN 107976328B
Authority
CN
China
Prior art keywords
pipe
tube
cooling
skeleton
inlet
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201810030582.6A
Other languages
English (en)
Other versions
CN107976328A (zh
Inventor
蔡国飙
郑鸿儒
刘立辉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Beihang University
Original Assignee
Beihang University
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Beihang University filed Critical Beihang University
Priority to CN201810030582.6A priority Critical patent/CN107976328B/zh
Publication of CN107976328A publication Critical patent/CN107976328A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN107976328B publication Critical patent/CN107976328B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01MTESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01M99/00Subject matter not provided for in other groups of this subclass
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F28HEAT EXCHANGE IN GENERAL
    • F28DHEAT-EXCHANGE APPARATUS, NOT PROVIDED FOR IN ANOTHER SUBCLASS, IN WHICH THE HEAT-EXCHANGE MEDIA DO NOT COME INTO DIRECT CONTACT
    • F28D21/00Heat-exchange apparatus not covered by any of the groups F28D1/00 - F28D20/00
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F28HEAT EXCHANGE IN GENERAL
    • F28DHEAT-EXCHANGE APPARATUS, NOT PROVIDED FOR IN ANOTHER SUBCLASS, IN WHICH THE HEAT-EXCHANGE MEDIA DO NOT COME INTO DIRECT CONTACT
    • F28D21/00Heat-exchange apparatus not covered by any of the groups F28D1/00 - F28D20/00
    • F28D2021/0019Other heat exchangers for particular applications; Heat exchange systems not otherwise provided for
    • F28D2021/0021Other heat exchangers for particular applications; Heat exchange systems not otherwise provided for for aircrafts or cosmonautics

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本发明涉及一种用于地面电推进试验等离子空间环境模拟设备中的防溅射系统技术领域,尤其涉及一种防溅射分子沉骨架。防溅射分子沉骨架包括圆筒形防溅射靶骨架主体和底端防溅射靶骨架主体;圆筒形防溅射靶骨架主体包括第一管、第二管和第一冷却管;底端防溅射靶骨架主体包括第三管、第四管和第二冷却管;第三管上连接有第二进液口,第四管上连接有第二出液口;还包括连接管;第二进液口和第二出液口均和连接管连通;连接管通过第一管和第二管与第一冷却管连通。本发明的在于提供一种防溅射分子沉骨架,以解决现有技术中存在的防溅射靶对溅射产物及返流污染物的降低效果不佳的技术问题。

Description

防溅射分子沉骨架
技术领域
本发明涉及一种用于地面电推进试验等离子空间环境模拟设备中的防溅射系统技术领域,尤其是涉及一种防溅射分子沉骨架。
背景技术
电推进羽流主要由气体电离形成的等离子体组成,包含束流等离子体和电荷交换等离子体,会对航天器产生溅射污染效应,既包括带电粒子和中性粒子的沉积污染,又有高速带电粒子对航天器表面溅射刻蚀造成的溅射污染。
在地面电推进试验中,当高能束流离子和电荷交换离子碰撞于真空舱舱壁材料表面时,只要离子能量大于被碰撞材料的溅射阈值就会产生溅射污染,从而影响真空舱内粒子分布情况,严重影响实验结果。因此,需要对防溅射分子沉进行合理设计。
国际上一些适用于电推进的大型真空舱的防溅射分子沉结构的设计结构主要有平板式,异形式两种。但是现有的的防溅射分子沉结构的防溅射靶的结构简单,且在进行长时间地面电推进实验以及沉积污染物成分、质量分析时,溅射产物的空间分布及返流污染物都会对实验结果造成影响。
因此,本申请针对上述问题提供一种新的防溅射分子沉骨架。
发明内容
本发明的目的在于提供一种防溅射分子沉骨架,以解决现有技术中存在的防溅射靶对溅射产物及返流污染物的降低效果不佳的技术问题。
基于上述目的,本发明提供一种防溅射分子沉骨架,包括圆筒形防溅射靶骨架主体和底端防溅射靶骨架主体;
所述圆筒形防溅射靶骨架主体包括第一管、第二管和第一冷却管;所述第一冷却管呈环形,且所述第一冷却管有多个,多个所述第一冷却管的轴线方向重合;多个所述第一冷却管通过所述第一管和所述第二管固定连接,形成圆筒形的侧部,且所述第一管、所述第二管和多个所述第一冷却管之间均相连通;所述第一管上连接有第一进液口,所述第二管上连接有第一出液口;
所述底端防溅射靶骨架主体包括第三管、第四管和第二冷却管;所述第三管上连接有第二进液口,所述第四管上连接有第二出液口;所述第二冷却管有多个,且多个所述第二冷却管沿垂直于长度方向间隔设置;多个所述第二冷却管通过所述第三管和所述第四管固定连接,且所述第三管、所述第四管和多个所述第二冷却管之间均相连通;
还包括连接管;所述连接管呈环形,所述第二进液口和所述第二出液口均和所述连接管连通;
所述连接管通过所述第一管和所述第二管与所述第一冷却管连通,且所述连接管的轴线方向与所述圆筒形的轴线方向重合,所述连接管令所述底端防溅射靶骨架主体形成所述圆筒形的底部。
在上述任一技术方案中,进一步地,本发明多个所述第一冷却管沿所述第一管的轴线方向均匀设置。
在上述任一技术方案中,进一步地,本发明所述第一管和所述第二管的轴线方向平行;
所述第一管和所述第二管分别连接于所述第一冷却管沿径向方向的两端,且所述第一管和所述第二管分别连接于所述连接管沿径向方向的两端。
在上述任一技术方案中,进一步地,本发明所述防溅射分子沉骨架为卧式结构,且所述第一管位于所述第二管的底端。
在上述任一技术方案中,进一步地,本发明所述第三管位于所述第四管的底端;
所述第二进液口位于所述第三管沿延伸方向的中间位置;和/或,所述第二出液口位于所述第四管沿延伸方向的中间位置。
在上述任一技术方案中,进一步地,本发明所述的防溅射分子沉骨架,还包括进液总管;
所述进液总管设置于所述第一管远离所述第二管的一侧,且所述进液总管的轴线方向与所述第一管的轴线方向平行;
沿所述圆筒形的轴线方向,所述圆筒形具有相对应的第一端和第二端,且所述底端防溅射靶骨架主体位于所述第二端;
多个所述第一冷却管中靠近所述第一端的第一冷却管为第一端管,所述连接管为第二端管;
所述第一管靠近所述第一端管的位置与所述进液总管连通,且所述第一管靠近所述第二端管的位置与所述进液总管连通;
所述进液总管上连接有所述第一进液口。
所述进液总管通过第一软管连通有进液管;
所述第二管通过第二软管连通有出液管;
所述进液管上设置有所述第一进液口;所述出液管上设置有第一出液口。
在上述任一技术方案中,进一步地,本发明所述第三管的中心线和所述第四管的中心线均呈圆弧状;
所述第三管的中心线和所述第四管的中心线共圆,且所述第三管和所述第四管对称设置于所共圆的圆形沿径向方向的两端;
所述第二冷却管沿延伸方向的两端分别连通所述第三管和所述第四管;
所述连接管的轴线方向和所述所共圆的圆形的轴线方向重合。
在上述任一技术方案中,进一步地,本发明所述第二冷却管包括冷却直管;
所述冷却直管沿轴线方向的一端通过第一连接弯管连通所述第三管,另一端通过第二连接弯管连通所述第四管;
且多个所述第二冷却管的冷却直管沿所述第三管的延伸方向均匀设置。
在上述任一技术方案中,进一步地,本发明所述第三管上还设置有缓冲管;
所述缓冲管与所述第二进液口连通。
采用上述技术方案,本发明具有如下有益效果:
使用时,通过在第一进液口和第一出液口之间连接冷却剂循环系统,以令冷却剂从第一进液口进入第一管,由于第一管、第二管、第一冷却管和连接管、第三管、第四管、第二冷却管之间连通,冷却剂继而经过第一冷却管,从第二管的第一出液口排出,以及第三管,冷却剂继而经过第二冷却管,从第四管的第二出液口排出至连接管,同样从第二管的第一出液口排出,完成了冷却剂的一次循环过程。冷却剂在循环过程中,令圆筒形的侧部和底部均具有较低温度。
使用时,在防溅射分子沉骨架上设置翅片组形成防溅射分子沉结构,以令圆筒形的侧部和底部封闭,因此,冷却剂在循环过程中,令翅片组也被传热降温。在地面电推进试验中,将防溅射分子沉结构放入真空舱内,且底端防溅射靶骨架主体与舱底对应,圆筒形防溅射靶骨架主体与舱壁相对应,也即,令圆筒形防溅射靶骨架主体形成的圆筒形的侧部与舱壁相对应,令底端防溅射靶骨架主体形成的圆筒形的底部与舱底对应,因此,实现了令圆筒形防溅射靶骨架主体上的翅片组与舱壁相对应,令底端防溅射靶骨架主体上的翅片组与舱底对应。真空舱内具有较高能量的粒子溅射至翅片组上,翅片组对粒子进行降温冷却作用,以降低粒子的能量,从而降低粒子的溅射速度,以降低对真空舱的破坏;另一方面,具有较低温度的翅片组能够在一定程度上对打在翅片组表面的粒子进行低温吸附,有效降低溅射产物的含量及分布范围。
综上所述,防溅射分子沉骨架通过具有圆筒形防溅射靶骨架主体和底端防溅射靶骨架主体,既能够防护真空舱的舱壁,又能够防护舱底,令对真空舱的防护作用更全面、可靠,降低了离子束对舱壁圆筒段和舱底的溅射,降低溅射产物中铁元素含量。同时能够对返流污染物进行低温吸附,降低返流污染物含量,保证试验效果。解决了现有技术中存在的防溅射靶对溅射产物及返流污染物的降低效果不佳的技术问题。
本发明的附加方面和优点将在下面的描述部分中变得明显,或通过本发明的实践了解到。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,应当理解,以下附图仅示出了本发明的某些实施例,因此不应被看作是对范围的限定,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
图1为本发明实施例提供的防溅射分子沉骨架的结构示意图;
图2为本发明实施例提供的防溅射分子沉骨架的底端防溅射靶骨架主体的结构示意图(显示有连接管的状态);
图3为本发明实施例提供的防溅射分子沉骨架的底端防溅射靶骨架主体的主视图;
图4为本发明实施例提供的防溅射分子沉骨架的底端防溅射靶骨架主体的侧视图;
图5为本发明实施例提供的防溅射分子沉骨架的底端防溅射靶骨架主体的俯视图。
图标:101-第一管;102-第二管;103-第一冷却管;111-进液总管; 112-弯头;113-直管;121-第一软管;122-第二软管;131-进液管;132- 出液管;201-第三管;202-第四管;203-第二冷却管;2031-冷却直管;2032- 第一连接弯管;2033-第二连接弯管;211-第二进液口;212-第二出液口; 221-缓冲管;241-连接管。
具体实施方式
下面将结合附图对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中,需要说明的是,术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。此外,术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本发明的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
实施例一
参见图1-图5所示,本实施例提供一种防溅射分子沉骨架,包括圆筒形防溅射靶骨架主体和底端防溅射靶骨架主体;
所述圆筒形防溅射靶骨架主体包括第一管101、第二管102和第一冷却管103;所述第一冷却管103呈环形,且所述第一冷却管103有多个,多个所述第一冷却管103的轴线方向重合;多个所述第一冷却管103通过所述第一管101和所述第二管102固定连接,形成圆筒形的侧部,且所述第一管101、所述第二管102和多个所述第一冷却管103之间均相连通;所述第一管上连接有第一进液口,所述第二管上连接有第一出液口;
所述底端防溅射靶骨架主体包括第三管201、第四管202和第二冷却管 203;所述第三管201上连接有第二进液口211,所述第四管202上连接有第二出液口212;所述第二冷却管203有多个,且多个所述第二冷却管203 沿垂直于长度方向间隔设置;多个所述第二冷却管203通过所述第三管201 和所述第四管202固定连接,且所述第三管、所述第四管和多个所述第二冷却管之间均相连通;
参见图2所示,防溅射分子沉骨架还包括连接管241;所述连接管241 呈环形,所述第二进液口211和所述第二出液口212均和所述连接管连通;
所述连接管通过所述第一管和所述第二管与所述第一冷却管连通,且所述连接管的轴线方向与所述圆筒形的轴线方向重合,所述连接管令所述底端防溅射靶骨架主体形成所述圆筒形的底部。
需要说明的是,第一冷却管103的轴线方向即圆筒形的轴线方向。
可选地,第一冷却管和第一管、第一冷却管和第二管之间通过焊接连接;第二冷却管和第三管、第二冷却管和第四管之间通过焊接连接。
使用时,通过在第一进液口和第一出液口之间连接冷却剂循环系统,以令冷却剂从第一进液口进入第一管,由于第一管、第二管、第一冷却管和连接管、第三管、第四管、第二冷却管之间连通,冷却剂继而经过第一冷却管,从第二管的第一出液口排出,以及第三管,冷却剂继而经过第二冷却管,从第四管的第二出液口排出至连接管,同样从第二管的第一出液口排出,完成了冷却剂的一次循环过程。冷却剂在循环过程中,令圆筒形的侧部和底部均具有较低温度。
使用时,在防溅射分子沉骨架上设置翅片组形成防溅射分子沉结构,以令圆筒形的侧部和底部封闭,因此,冷却剂在循环过程中,令翅片组也被传热降温。
在地面电推进试验中,将防溅射分子沉结构放入真空舱内,且底端防溅射靶骨架主体与舱底对应,圆筒形防溅射靶骨架主体与舱壁相对应,也即,令圆筒形防溅射靶骨架主体形成的圆筒形的侧部与舱壁相对应,令底端防溅射靶骨架主体形成的圆筒形的底部与舱底对应,因此,实现了令圆筒形防溅射靶骨架主体上的翅片组与舱壁相对应,令底端防溅射靶骨架主体上的翅片组与舱底对应。真空舱内具有较高能量的粒子溅射至翅片组上,翅片组对粒子进行降温冷却作用,以降低粒子的能量,从而降低粒子的溅射速度,以降低对真空舱的破坏;另一方面,具有较低温度的翅片组能够在一定程度上对打在翅片组表面的粒子进行低温吸附,有效降低溅射产物的含量及分布范围。
综上所述,防溅射分子沉骨架通过具有圆筒形防溅射靶骨架主体和底端防溅射靶骨架主体,既能够防护真空舱的舱壁,又能够防护舱底,令对真空舱的防护作用更全面、可靠,降低了离子束对舱壁圆筒段和舱底的溅射,降低溅射产物中铁元素含量。同时能够对返流污染物进行低温吸附,降低返流污染物含量,保证试验效果。解决了现有技术中存在的防溅射靶对溅射产物及返流污染物的降低效果不佳的技术问题。
优选地,多个所述第一冷却管沿所述第一管的轴线方向均匀设置。
以提高整个圆筒形防溅射靶骨架主体温度的均匀性。
优选地,参见图1所示,所述第一管101和所述第二管102的轴线方向平行;
所述第一管和所述第二管分别连接于所述第一冷却管沿径向方向的两端,且所述第一管和所述第二管分别连接于所述连接管沿径向方向的两端。
从而令从第一管进入的冷却剂能够经过整个第一冷却管和第二冷却管之后才能进入第二管,从而排出,以延长冷却剂在第一冷却管和第二冷却管中的流动路径,以增加在地面电推进试验中能够对粒子的冷却面积,从而增强对粒子的防溅射能力。
优选地,参见图1所示,所述防溅射分子沉骨架为卧式结构,且所述第一管位于所述第二管的底端。
所述防溅射分子沉骨架为卧式结构,即:使用时,圆筒形的轴线方向水平。
冷却剂从第一进液口进入,从第一出液口排出,也即,冷却剂为下进上出,冷却剂在圆筒形防溅射靶骨架主体和底端防溅射靶骨架主体内循环时,从第一管进入第一冷却管和第二冷却管,冷却剂在重力作用下,只有填满第一冷却管和第二冷却管的底端才会逐渐上涨,直至将第一冷却管和第二冷却管全部填满,才会从第二管排出,进一步增加了对粒子的降温、吸附面积,增强对粒子的防溅射能力。
优选地,参见图3所示,所述第三管位于所述第四管的底端;
所述第二进液口位于所述第三管沿延伸方向的中间位置;和/或,所述第二出液口位于所述第四管沿延伸方向的中间位置。
具体而言,所述第二进液口位于所述第三管沿延伸方向的中间位置;
或者,所述第二出液口位于所述第四管沿延伸方向的中间位置;
或者,所述第二进液口位于所述第三管沿延伸方向的中间位置;且,所述第二出液口位于所述第四管沿延伸方向的中间位置。
优选地,所述第二进液口位于所述第三管沿延伸方向的中间位置;
且,所述第二出液口位于所述第四管沿延伸方向的中间位置。
也即,底端防溅射靶骨架主体用于防护真空舱的舱底。
由于防溅射分子沉骨架为卧式结构,因此,所述底端防溅射靶骨架主体为立式结构,即:使用时,冷却直管的轴线方向竖直。
冷却剂从第二进液口进入,从第二出液口排出,也即,冷却剂为下进上出,冷却剂在底端防溅射靶骨架主体内循环时,从第三管进入第二冷却管,冷却剂在重力作用下,只有填满第二冷却管的底端才会逐渐上涨,直至将第二冷却管全部填满,才会从第四管排出;所述第二出液口位于所述第四管沿延伸方向的中间位置,只有第二冷却管内全部填满冷却剂,冷却剂才会从第二出液口排出。进一步增加了对粒子的降温、吸附面积,增强对粒子的防溅射能力。
优选地,本实施例所述的防溅射分子沉骨架,还包括进液总管111;
所述进液总管111设置于所述第一管101远离所述第二管102的一侧,且所述进液总管111的轴线方向与所述第一管101的轴线方向平行;
沿所述圆筒形的轴线方向,所述圆筒形具有相对应的第一端和第二端,且所述底端防溅射靶骨架主体位于所述第二端;
多个所述第一冷却管中靠近所述第一端的第一冷却管为第一端管,所述连接管为第二端管;
所述第一管靠近所述第一端管的位置与所述进液总管连通,且所述第一管靠近所述第二端管的位置与所述进液总管连通;
所述进液总管上连接有所述第一进液口。
也即,从第一进液口排入的冷却剂沿进液总管流动,且分别从第一管靠近第一端的位置、第一管靠近第二端的位置排入第一管,进而排入第一端管和第二端管,令冷却剂沿圆筒形沿轴线方向的两端向中间流动,令圆筒形防溅射靶骨架主体的两端温度均匀,以及令圆筒形防溅射靶骨架主体和底端防溅射靶骨架主体同时降温,且提高多个第一冷却管和第二冷却管的冷却剂的填满率,以及提高填满速度,实现快速降温,降低冷却剂汽化带来的影响。
可选地,沿进液总管的轴线方向,进液总管111包括相对应的第三端和第四端,第四端连接有所述第一进液口,第三端与所述第一管靠近所述第一端管的位置通过弯头112连通,进液总管位于第三端和第四端之间通过直管113与第一管靠近所述第二端管的位置连通。
需要说明的是,使用时,需要对第一管、第二管、第三管、第四管和进液总管中的多余的孔进行封堵,以保证试验正常进行。
优选地,所述进液总管111通过第一软管121连通有进液管131;
所述第二管102通过第二软管122连通有出液管132;
所述进液管131上设置有所述第一进液口;所述出液管132上设置有第一出液口。
使用时,进液管的第一进液口和出液管的第一出液口之间连接有所述冷却剂循环系统。
优选地,第一软管121和第二软管122为金属软管。
第一软管和第二软管用于补偿圆筒型防溅射靶骨架主体因热胀冷缩产生的轴向移动。
优选地,参见图3所示,所述第三管的中心线和所述第四管的中心线均呈圆弧状;
所述第三管的中心线和所述第四管的中心线共圆,且所述第三管和所述第四管对称设置于所共圆的圆形沿径向方向的两端;
所述第二冷却管沿延伸方向的两端分别连通所述第三管和所述第四管;
所述连接管的轴线方向和所述所共圆的圆形的轴线方向重合。
从而增大底端防溅射靶骨架主体的端面面积,进而增大对粒子来流的吸附、降温面积,以延长冷却剂的流动路径,以增加在地面电推进试验中能够对粒子的冷却面积,从而增强对粒子的防溅射能力。
优选地,参见图4和图5所示,所述第二冷却管203包括冷却直管2031;
所述冷却直管2031沿轴线方向的一端通过第一连接弯管2032连通所述第三管201,另一端通过第二连接弯管2033连通所述第四管202;
且多个所述第二冷却管的冷却直管沿所述第三管的延伸方向均匀设置;
以提高整个底端防溅射靶骨架主体温度的均匀性。
需要说明的是,多个冷却直管的长度不同,以适应第三管和第四管之间的距离。
优选地,参见图3所示,所述第三管201上还设置有缓冲管221;
所述缓冲管221与所述第二进液口211连通。
使用时,从第二进液口进入的冷却剂可能为汽液混合态,气态的冷却剂进入底端防溅射靶骨架主体会影响冷却温度和冷却均匀性,因此,当冷却剂从第二进液口输入时,气态冷却剂能够直接从缓冲管排出,以排除干扰。
最后应说明的是:以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案,而非对其限制;尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。
此外,本领域的技术人员能够理解,尽管在此所述的一些实施例包括其它实施例中所包括的某些特征而不是其它特征,但是不同实施例的特征的组合意味着处于本发明的范围之内并且形成不同的实施例。例如,在上面的权利要求书中,所要求保护的实施例的任意之一都可以以任意的组合方式来使用。公开于该背景技术部分的信息仅仅旨在加深对本实用新型的总体背景技术的理解,而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域技术人员所公知的现有技术。

Claims (10)

1.一种防溅射分子沉骨架,其特征在于,包括圆筒形防溅射靶骨架主体和底端防溅射靶骨架主体;
所述圆筒形防溅射靶骨架主体包括第一管、第二管和第一冷却管;所述第一冷却管呈环形,且所述第一冷却管有多个,多个所述第一冷却管的轴线方向重合;多个所述第一冷却管通过所述第一管和所述第二管固定连接,形成圆筒形的侧部,且所述第一管、所述第二管和多个所述第一冷却管之间均相连通;所述第一管上连接有第一进液口,所述第二管上连接有第一出液口;
所述底端防溅射靶骨架主体包括第三管、第四管和第二冷却管;所述第三管上连接有第二进液口,所述第四管上连接有第二出液口;所述第二冷却管有多个,且多个所述第二冷却管沿垂直于所述第二冷却管的长度方向间隔设置;多个所述第二冷却管通过所述第三管和所述第四管固定连接,且所述第三管、所述第四管和多个所述第二冷却管之间均相连通;
还包括连接管;所述连接管呈环形,所述第二进液口和所述第二出液口均和所述连接管连通;
所述连接管通过所述第一管和所述第二管与所述第一冷却管连通,且所述连接管的轴线方向与所述圆筒形的轴线方向重合,所述连接管令所述底端防溅射靶骨架主体形成所述圆筒形的底部。
2.根据权利要求1所述的防溅射分子沉骨架,其特征在于,多个所述第一冷却管沿所述第一管的轴线方向均匀设置。
3.根据权利要求1所述的防溅射分子沉骨架,其特征在于,所述第一管和所述第二管的轴线方向平行;
所述第一管和所述第二管分别连接于所述第一冷却管沿径向方向的两端,且所述第一管和所述第二管分别连接于所述连接管沿径向方向的两端。
4.根据权利要求3所述的防溅射分子沉骨架,其特征在于,所述防溅射分子沉骨架为卧式结构,且所述第一管位于所述第二管的底端。
5.根据权利要求4所述的防溅射分子沉骨架,其特征在于,所述第三管位于所述第四管的底端;
所述第二进液口位于所述第三管沿延伸方向的中间位置;和/或,所述第二出液口位于所述第四管沿延伸方向的中间位置。
6.根据权利要求1所述的防溅射分子沉骨架,其特征在于,还包括进液总管;
所述进液总管设置于所述第一管远离所述第二管的一侧,且所述进液总管的轴线方向与所述第一管的轴线方向平行;
沿所述圆筒形的轴线方向,所述圆筒形具有相对应的第一端和第二端,且所述底端防溅射靶骨架主体位于所述第二端;
多个所述第一冷却管中靠近所述第一端的第一冷却管为第一端管,所述连接管为第二端管;
所述第一管靠近所述第一端管的位置与所述进液总管连通,且所述第一管靠近所述第二端管的位置与所述进液总管连通;
所述进液总管上连接有所述第一进液口。
7.根据权利要求6所述的防溅射分子沉骨架,其特征在于,所述进液总管通过第一软管连通有进液管;
所述第二管通过第二软管连通有出液管;
所述进液管上设置有所述第一进液口;所述出液管上设置有第一出液口。
8.根据权利要求1所述的防溅射分子沉骨架,其特征在于,所述第三管的中心线和所述第四管的中心线均呈圆弧状;
所述第三管的中心线和所述第四管的中心线共圆,且所述第三管和所述第四管对称设置于所共圆的圆形沿径向方向的两端;
所述第二冷却管沿延伸方向的两端分别连通所述第三管和所述第四管;
所述连接管的轴线方向和所述所共圆的圆形的轴线方向重合。
9.根据权利要求8所述的防溅射分子沉骨架,其特征在于,所述第二冷却管包括冷却直管;
所述冷却直管沿轴线方向的一端通过第一连接弯管连通所述第三管,另一端通过第二连接弯管连通所述第四管;
且多个所述第二冷却管的冷却直管沿所述第三管的延伸方向均匀设置。
10.根据权利要求1-9任一项所述的防溅射分子沉骨架,其特征在于,所述第三管上还设置有缓冲管;
所述缓冲管与所述第二进液口连通。
CN201810030582.6A 2018-01-12 2018-01-12 防溅射分子沉骨架 Active CN107976328B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810030582.6A CN107976328B (zh) 2018-01-12 2018-01-12 防溅射分子沉骨架

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810030582.6A CN107976328B (zh) 2018-01-12 2018-01-12 防溅射分子沉骨架

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN107976328A CN107976328A (zh) 2018-05-01
CN107976328B true CN107976328B (zh) 2019-03-08

Family

ID=62005864

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201810030582.6A Active CN107976328B (zh) 2018-01-12 2018-01-12 防溅射分子沉骨架

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN107976328B (zh)

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7901552B2 (en) * 2007-10-05 2011-03-08 Applied Materials, Inc. Sputtering target with grooves and intersecting channels
CN201459233U (zh) * 2009-07-27 2010-05-12 昆山新莱洁净应用材料股份有限公司 一种溅射靶材的冷却装置
US9779920B2 (en) * 2013-08-14 2017-10-03 Applied Materials, Inc. Sputtering target with backside cooling grooves
CN206858650U (zh) * 2017-05-17 2018-01-09 欧钛鑫光电科技(苏州)有限公司 一种磁控溅射装置
CN107449312A (zh) * 2017-09-04 2017-12-08 海龙(张家港)实业有限公司 一种螺旋钛冷却管

Also Published As

Publication number Publication date
CN107976328A (zh) 2018-05-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2019516972A (ja) 改良された溶融燃料型反応炉の熱管理の構成
CN107976316B (zh) 电推进试验用氙泵集成式羽流防护装置
CN107123448B (zh) 一种可提高冷却剂利用率的安全壳冷却系统
CN106641697A (zh) 一种带有狭缝内翅式换热器冷屏的低温液体储存容器
CN107340139A (zh) 电推进航天器系统级点火试验溅射靶装置
CN107976328B (zh) 防溅射分子沉骨架
CN104209527B (zh) 铝合金及铝合金粉末的雾化生产系统
CN108216697A (zh) 圆筒形防溅射靶
CN108225810B (zh) 防溅射分子沉结构
CN108020434B (zh) 底端防溅射靶
CN106251918A (zh) 一种长时效非能动安全壳冷却系统
CN103785188B (zh) 一种液体闪蒸分配器
EP0422057B1 (en) Cold fusion process in dense boson plasma
CN108204902B (zh) 带筒体双层防溅射分子沉及其冷却方法
CN206618162U (zh) 一种牢固组装冷凝器盘管的结构
CN207663806U (zh) 一种带分段独立水箱的非能动双层安全壳
JP2012083251A (ja) エロージョン予測評価方法
Meier et al. Cryo-technical design aspects of the superconducting SIS100 quadrupole doublet modules
CN108216696A (zh) 地面电推进试验用的带筒体双层防溅射分子沉和冷却方法
CN108240910B (zh) 带筒体双层防溅射分子沉及其冷却方法
CN108051235B (zh) 地面电推进试验用的双层防溅射分子沉结构及其冷却方法
CN103234114A (zh) 一种喷淋式主动冷却装置
Kim et al. Design of Cryomoudles for RAON
CN216802057U (zh) 一种用于等离子切割机的冷却结构
JP2002207100A (ja) 冷中性子源装置の船底形減速材容器

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant