CN107974868A - 书画清洗装置及设备 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种书画清洗装置及设备，涉及书画清洗的技术领域，所述书画清洗装置，包括超临界二氧化碳源、清洗腔体和固定机构，所述固定机构用于将待清洗书画固定在清洗腔体内；所述清洗腔体的内壁上设置有进口和出口，所述超临界二氧化碳源与所述清洗腔体的进口连接；所述进口和出口分别位于所述待清洗书画的两侧，以使从所述进口射出的超临界二氧化碳穿透过所述待清洗书画后从所述出口排出。依靠超临界二氧化碳源对书画进行清理，避免了水对书画的损害，同时，剩余的二氧化碳成为气体后也不会对环境造成损害。
Description
技术领域
本发明涉及书画清洗的技术领域，尤其是涉及一种书画清洗装置及设备。
背景技术
书画、古籍是见证中华文明的瑰宝，为了使这些珍贵的书画艺术品再现昔日的风采，需要对其进行清洗。
目前国内外采用的古籍清洗方式主要采用溶液或乳胶法附着一层高分子，如丙烯酸类聚合物、淀粉、植物胶、壳聚糖等。
使用这种传统的清洗方式，配置的清洗液离不开水，虽然可以对纸张白度，pH值有所提高，但是水会严重损害纸张的抗拉强度和聚合度，对于书画文物的保护非常不利。而且会脏污环境、易伤及画心(对破损严重的画心影响更大)以及二次污染等问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种书画清洗装置及设备，以缓解了现有的书画清洗设备清洗依赖水，而水会对纸张的抗拉强度和聚合度造成损耗，同时对环境产生污染的技术问题。
本发明提供的书画清洗装置，包括超临界二氧化碳源、清洗腔体和固定机构，所述固定机构用于将待清洗书画固定在清洗腔体内；
所述清洗腔体的内壁上设置有进口和出口，所述超临界二氧化碳源与所述清洗腔体的进口连接；
所述进口和出口分别位于所述待清洗书画的两侧，以使从所述进口射出的超临界二氧化碳穿透过所述待清洗书画后从所述出口排出。
进一步的，所述清洗腔体包括主体，以及与所述主体滑动连接的封门。
进一步的，所述固定机构包括间隔设置的第一固定杆和第二固定杆，所述第一固定杆和第二固定杆均固定在封门朝向主体的一面上；
所述第一固定杆和第二固定杆之间固定有画心保护垫，所述画心保护垫用于固定支撑所述待清洗书画。
进一步的，所述第一固定杆和第二固定杆上均间隔设置有固定件，所述固定件用于固定连接所述画心保护垫的四角，防止所述画心保护垫发生沿第一固定杆或第二固定杆长度方向的滑动。
进一步的，所述封门朝向主体的一侧上设置有移动槽道，所述移动槽道的末端设置有移动滑轮；
所述主体朝向所述封门的内壁上设置有与所述移动滑轮对应的固定槽道，所述固定槽道末端设置有与所述移动槽道对应的固定滑轮。
进一步的，所述封门上设置有螺纹孔，所述第一固定杆和第二固定杆均与所述封门螺纹连接。
进一步的，所述书画清洗装置包括至少一个喷淋头，所述喷淋头的出口朝向待清洗书画，用于将所述超临界二氧化碳朝所述待清洗书画进行均匀喷淋。
进一步的，所述超临界二氧化碳源包括依次连接的罐体、加热装置和加压装置；所述罐体用于储备液态二氧化碳；所述加热装置和加压装置用于对通过的液态二氧化碳进行加热、加压，以形成超临界二氧化碳；所述加压装置与清洗腔体的入口连接。
进一步的，所述书画清洗装置包括循环系统，所述循环系统设置于所述清洗腔体的出口与罐体之间；所述循环系统包括依次连接的除杂装置和制冷装置，所述制冷装置用于将二氧化碳液化。
本发明提供的书画清洗设备，包括上述的书画清洗装置。
本发明提供的书画清洗装置，包括超临界二氧化碳源、清洗腔体和固定机构，固定机构用于将待清洗书画固定在清洗腔体内。清洗腔体的内壁上设置有进口和出口，所述超临界二氧化碳源与所述清洗腔体的进口连接，进口和出口分别位于所述待清洗书画的两侧。超临界二氧化碳通过进口进入清洗腔体内，超临界二氧化碳可以穿透书画的纸张，对待清洗书画进行清洗，然后从出口流出，完成清洗过程。依靠超临界二氧化碳源对书画进行清理，避免了水对书画的损害，同时，剩余的二氧化碳成为气体后也不会对环境造成损害。
本发明提供的书画清洗设备，包括上述的书画清洗装置。清洗过程依靠超临界二氧化碳源对书画进行清理，避免了水对书画的损害，同时，剩余的二氧化碳成为气体后也不会对环境造成损害。
附图说明
为了更清楚地说明本发明具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例1提供的书画清洗装置的示意图；
图2为本发明实施例1提供的书画清洗装置的清洗腔体正视方向的示意图；
图3为本发明实施例1提供的书画清洗装置的清洗腔体俯视方向的示意图；
图4为图3中A-A位置的截面图；
图5为本发明实施例2提供的书画清洗装置的封门朝向主体方向一面的示意图。
图标：100-清洗腔体；110-进口；120-出口；130-封门；210-第一固定杆；220-第二固定杆；230-画心保护垫；240-固定件；310-移动槽道；320-固定槽道；400-螺纹孔；500-喷淋头；610-罐体；620-加热装置；630-加压装置；710-除杂装置；720-制冷装置。
具体实施方式
下面将结合附图对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中，需要说明的是，如出现术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等，其指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，如出现术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
本发明提供了一种书画清洗装置，下面给出多个实施例对本发明提供的书画清洗装置的结构进行详细描述。
实施例1
如图1-4所示，本发明提供的书画清洗装置，包括超临界二氧化碳源、清洗腔体100和固定机构，固定机构用于将待清洗书画固定在清洗腔体100内。清洗腔体100的内壁上设置有进口110和出口120，所述超临界二氧化碳源与所述清洗腔体100的进口110连接，进口110和出口120分别位于所述待清洗书画的两侧。超临界二氧化碳通过进口110进入清洗腔体100内，超临界二氧化碳可以穿透书画的纸张，对待清洗书画进行清洗，然后从出口120流出，完成清洗过程。依靠超临界二氧化碳源对书画进行清理，避免了水对书画的损害，同时，剩余的二氧化碳成为气体后也不会对环境造成损害。
传统湿式清洗在清洗剂处理方面存在对于书画文物的损害，使纸张抗拉强度和聚合度下降，相较之下，超临界二氧化碳作为一种特殊清洗剂，不仅具有高溶解力、高扩散性、低黏度、低表面张力等特性，而且还是水性溶液和有机溶剂的绝佳绿色替代品。超临界二氧化碳可以将纸张中的微生物代谢产物、尘埃等有效物质清除。不仅提高了pH值，其碱性残留也有一定程度的增加，使得纸张的抗酸性增加。超临界二氧化碳清洗书画可以有效抑制墨迹的扩散，保护估计的原貌。清洗过程可整册清洗，无需打开书籍的装订。
清洗腔体100可以包括主体和封门130，且主体和封门130可以采用活动连接，例如滑动连接或者铰接，封门130关闭后，主体与封门130形成清理区域，对待清理书画进行清洗。
在一个可以实施的方案中，主体和封门130采用滑动连接，且固定机构固定连接在封门130上，将封门130拉出主体后，可以同时将固定机构拉出，这样的设置可以方便对书画的固定。
固定机构可以包括间隔设置的第一固定杆210和第二固定杆220，第一固定杆210和第二固定杆220均固定在封门130朝向主体的一面上，第一固定杆210和第二固定杆220之间可以固定有画心保护垫230，通过画心保护垫230可以固定支撑待清洗书画。
可以通过夹子将书画固定在画心保护垫230上。
其中，画心保护垫230具备以下特点：柔性好，韧性强，透水性强，比如制作湿巾所用的无纺布等。
画心保护垫230可以有效的保护待清理书画，防止在清洗的过程中，书画受到超临界二氧化碳的冲击而损坏。
因为待清理的书画固定在画心保护垫230上，为了防止清理的过程中，画心保护垫230在第一固定杆210和第二固定杆220上滑动，所述第一固定杆210和第二固定杆220上均可以间隔设置固定件240，固定件240可以为夹子或者皮套。固定件240用于固定连接所述画心保护垫230的四角，防止所述画心保护垫230发生沿第一固定杆210或第二固定杆220长度方向的滑动。
在一个可以实施的方案中，封门130包括向主体所在方向延伸的侧板，侧板的外侧设置有滑块，在主体的内壁上相对设置有与滑块对应的滑道，可以使封门130拉出或者伸入。
在一个可以实施的方案中，为了增加封门130的开启流畅性，封门130朝向主体的一侧上可以设置有移动槽道310，所述移动槽道310的末端设置有移动滑轮；对应的，主体朝向所述封门130的内壁上设置有与所述移动滑轮对应的固定槽道320，所述固定槽道320末端设置有与所述移动槽道310对应的固定滑轮。封门130拉出与推进，移动滑轮可以在固定槽道320内滚动，固定滑轮可以在移动槽道310内滚动。
为了增加装置的灵活性，封门130上可以设置有螺纹孔400，所述螺纹孔400的数量可以为2个，所述第一固定杆210和第二固定杆220上均设置有外螺纹，第一固定杆210和第二固定杆220可以与封门130可拆卸连接，这样可以方便画心保护垫230的固定。
所述书画清洗装置包括至少一个喷淋头500，多个喷淋头500可以呈矩阵排列，所述喷淋头500的出口120朝向待清洗书画，用于将所述超临界二氧化碳朝所述待清洗书画进行均匀喷淋。多个超临界二氧化碳喷淋头500，使得超临界二氧化碳流出更均匀，对书画保护效果更好，清洗效果更好。
封门130与主体之间可以对应设置有锁紧机构，用于将所述封门130锁紧固定在所述主体上。例如，在主体的开口位置上设置有沿周向向外延伸的边沿，封门130可以抵在边沿上，边沿上可以设置有螺纹孔，通过螺钉可以将封门130关闭于主体的开口上。
工作原理：清洗腔体100内部尺寸可以为800×400×80的长方体腔室。超临界二氧化碳通过超临界二氧化碳进口110及喷淋头500进入清洗腔体100内，对书画进行清洗，然后从超临界二氧化碳出口120流出，完成清洗过程。喷淋头500数量为多个，可以使超临界二氧化碳流体出流均匀且垂直透过画心，避免了流体对画心冲击力过大而损坏画心，也避免了二次污染的形成。
为了保护画心，其固定方式如下：清洗腔体100可以配有2根固定杆，固定杆底端刻有螺纹，可与封门130内侧的螺纹孔400形成配合。清洗前将封门130通过滚轮系统从主体内拉出，将固定杆通过螺纹安装到封门130上。然后将夹带有画心的画心保护垫230张紧固定到固定杆上，画心的正面应对准喷淋头500。为了防止夹带有画心的画心保护垫230在固定杆上滑动，每根杆配有2个皮套。固定好后，再次通过滚轮系统关闭封门130，并将封门130通过螺栓固定到主体上。
超临界二氧化碳源包括依次连接的罐体610、加热装置620和加压装置630。罐体610用于储备液态二氧化碳；所述加热装置620和加压装置630用于对通过的液态二氧化碳进行加热、加压，以形成超临界二氧化碳；所述加压装置630与清洗腔体100的入口连接。清洗时，液态二氧化碳从罐体610流出，先经过加热装置620后升温至临界温度，然后经过加压装置630增压至临界压力，进入到超临界状态，进入到清洗腔体100。
书画清洗装置包括循环系统，循环系统设置于所述清洗腔体100的出口120与罐体610之间；所述循环系统包括依次连接的除杂装置710和制冷装置720，所述制冷装置720用于将二氧化碳液化。循环系统中的真空泵可以驱动二氧化碳运动，带有杂质的二氧化碳先经过除杂后，然后进入到制冷装置720内，冷却液化的二氧化碳再次进入到罐体610内，完成循环。
实施例2
如图5所示，与实施例1不同之处，所述螺纹孔400的数量为多个，例如4、6、8或者10个，且多个所述螺纹孔400呈线性间隔排列，通过调整第一固定杆210和第二固定杆220的固定位置，可以可调二者之间的距离，从而可以适用于清洗不同大小的书画。
封门130与主体之间可以设置有密封环，密封环的材料可以为硅胶，用于增加装置的密封性。
实施例3
与实施例1不同之处在于，清洗腔体100可以包括盒体和盖体，进口110可以位于盖体上，出口120可以位于盒体的底板上，第一固定杆210和第二固定杆220可以固定在盒体的内侧壁上。盖体与主体之间可以采用铰接的方式。使用时，可以先将盖体向上翻，打开清洗腔体100，然后将待清洗书画固定连接到第一固定杆210和第二固定杆220之间的画心保护垫230上，然后将盖体扣回，完成对清洗腔体100的封闭。
综上所述，本发明提供的书画清洗装置，包括超临界二氧化碳源、清洗腔体100和固定机构，固定机构用于将待清洗书画固定在清洗腔体100内。清洗腔体100的内壁上设置有进口110和出口120，所述超临界二氧化碳源与所述清洗腔体100的进口110连接，进口110和出口120分别位于所述待清洗书画的两侧。超临界二氧化碳通过进口110进入清洗腔体100内，超临界二氧化碳可以穿透书画的纸张，对待清洗书画进行清洗，然后从出口120流出，完成清洗过程。书画清洗装置所使用的清洗剂为超临界二氧化碳，具有对人体和环境无毒、无害；对书画无损害，增加碱性残留从而增加书画的抗酸性。书画清洗装置装有多个超临界二氧化碳喷淋头500，使得超临界二氧化碳流出更均匀，对书画保护效果更好，清洗效果更好。装置中装有画心保护垫230，避免清洗过程对画心造成损害。清洗后残余的二氧化碳扩散到空气中对于环境和人体没有伤害。
本发明提供的书画清洗设备，包括上述的书画清洗装置。清洗过程依靠超临界二氧化碳源对书画进行清理，避免了水对书画的损害，同时，剩余的二氧化碳成为气体后也不会对环境造成损害。
该设备包括液态二氧化碳制备装置，用于向罐体610内补充液态二氧化碳。
最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。
Claims (10)
1.一种书画清洗装置，其特征在于，包括超临界二氧化碳源、清洗腔体和固定机构，所述固定机构用于将待清洗书画固定在清洗腔体内；
所述清洗腔体的内壁上设置有进口和出口，所述超临界二氧化碳源与所述清洗腔体的进口连接；
所述进口和出口分别位于所述待清洗书画的两侧，以使从所述进口射出的超临界二氧化碳穿透过所述待清洗书画后从所述出口排出。
2.根据权利要求1所述的书画清洗装置，其特征在于，所述清洗腔体包括主体，以及与所述主体滑动连接的封门。
3.根据权利要求2所述的书画清洗装置，其特征在于，所述固定机构包括间隔设置的第一固定杆和第二固定杆，所述第一固定杆和第二固定杆均固定在封门朝向主体的一面上；
所述第一固定杆和第二固定杆之间固定有画心保护垫，所述画心保护垫用于固定支撑所述待清洗书画。
4.根据权利要求3所述的书画清洗装置，其特征在于，所述第一固定杆和第二固定杆上均间隔设置有固定件，所述固定件用于固定连接所述画心保护垫的四角，防止所述画心保护垫发生沿第一固定杆或第二固定杆长度方向的滑动。
5.根据权利要求3所述的书画清洗装置，其特征在于，所述封门朝向主体的一侧上设置有移动槽道，所述移动槽道的末端设置有移动滑轮；
所述主体朝向所述封门的内壁上设置有与所述移动滑轮对应的固定槽道，所述固定槽道末端设置有与所述移动槽道对应的固定滑轮。
6.根据权利要求5所述的书画清洗装置，其特征在于，所述封门上设置有螺纹孔，所述第一固定杆和第二固定杆均与所述封门螺纹连接。
7.根据权利要求1所述的书画清洗装置，其特征在于，所述书画清洗装置包括至少一个喷淋头，所述喷淋头的出口朝向待清洗书画，用于将所述超临界二氧化碳朝所述待清洗书画进行均匀喷淋。
8.根据权利要求1所述的书画清洗装置，其特征在于，所述超临界二氧化碳源包括依次连接的罐体、加热装置和加压装置；所述罐体用于储备液态二氧化碳；所述加热装置和加压装置用于对通过的液态二氧化碳进行加热、加压，以形成超临界二氧化碳；所述加压装置与清洗腔体的入口连接。
9.根据权利要求8所述的书画清洗装置，其特征在于，所述书画清洗装置包括循环系统，所述循环系统设置于所述清洗腔体的出口与罐体之间；所述循环系统包括依次连接的除杂装置和制冷装置，所述制冷装置用于将二氧化碳液化。
10.一种书画清洗设备，其特征在于，包括权利要求1-9任意一项所述的书画清洗装置。
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2017
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