CN107858687A - 一种pcb刻蚀液杂质过滤装置 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及过滤装置技术领域，尤其涉及一种PCB刻蚀液杂质过滤装置，包括：沉淀池、过滤器、第一提升泵；所述第一提升泵位于沉淀池的顶部，且第一提升泵与沉淀池通过管道相连接；所述第一提升泵与沉淀池的连接处设置有过滤器；所述电解槽位于刻蚀液配置罐的下方，且电解槽与刻蚀液配置罐通过管道相连接；所述水阀设置在电解槽与刻蚀液配置罐的连接处；所述顶盖设置在电解槽的顶部，且槽体位于顶盖的下方；所述阴极室位于槽体的左侧，且阴极设置在阴极室的内部。本发明通过结构上的改进，具有过滤效果好，环保，污染较小，成本较低，过滤后的刻蚀液可重复利用等优点，从而有效的解决了现有装置中存在的问题和不足。

Description

一种PCB刻蚀液杂质过滤装置
技术领域
本发明涉及过滤装置技术领域，尤其涉及一种PCB刻蚀液杂质过滤装置。
背景技术
近年来我国电子工业的发展迅速，印刷电路板的生产逐渐在我国形成了规模产业，大小电路板生产有3500多家。
印刷电路板蚀刻过程产生大量的含铜蚀刻废液，平均日产废刻管液在6000吨以上，按120克升计，每日从废刻蚀液中回收铜600吨，全国每年从电路板刻蚀过程可回收铜20万吨，相当于10多个万吨铜厂的总产量，按日前的铜价计，总价值将近100亿人民币以上。
普通刻蚀废液处理通常采用化学处理铜盐沉淀法、刻蚀废液加臭氧(氧化剂)析出氧化铜方法、浓缩后电解再生或加阳离子铜络合物电解法等采用浓缩再电解处理的方法浓缩成本较大；采用化学铜盐沉淀或者析出氧化铜方法，废液成分发生变化，难以再生使用；络合电解法，在铜离子浓度低时电解效率不高，同时再生液中由于添加了铜络合离子，影响了刻蚀过程铜腐蚀速度。
发明内容
本发明的目的在于提供一种PCB刻蚀液杂质过滤装置，以解决背景技术中提出的普通刻蚀废液处理通常采用化学处理铜盐沉淀法、刻蚀废液加臭氧(氧化剂)析出氧化铜方法、浓缩后电解再生或加阳离子铜络合物电解法等采用浓缩再电解处理的方法浓缩成本较大；采用化学铜盐沉淀或者析出氧化铜方法，废液成分发生变化，难以再生使用；络合电解法，在铜离子浓度低时电解效率不高，同时再生液中由于添加了铜络合离子，影响了刻蚀过程铜腐蚀速度的问题和不足。
本发明的目的与功效，由以下具体技术方案所达成：
一种PCB刻蚀液杂质过滤装置，包括：沉淀池、过滤器、第一提升泵、刻蚀液配置罐、水阀、电解槽、鼓风机、氯气吸收塔、再生槽、第二提升泵、顶盖、槽体、阴极、阴极室、阳极室、阳极、阳离子隔膜；所述第一提升泵位于沉淀池的顶部，且第一提升泵与沉淀池通过管道相连接；所述第一提升泵与沉淀池的连接处设置有过滤器；所述电解槽位于刻蚀液配置罐的下方，且电解槽与刻蚀液配置罐通过管道相连接；所述水阀设置在电解槽与刻蚀液配置罐的连接处；所述顶盖设置在电解槽的顶部，且槽体位于顶盖的下方；所述阴极室位于槽体的左侧，且阴极设置在阴极室的内部；所述阳极室位于槽体的右侧，且阳极设置在阳极室的内部；所述阳离子隔膜设置在阴极室的内部；所述鼓风机设置在电解槽的顶部，且鼓风机的一端与氯气吸收塔相连接；所述第二提升泵位于电解槽的一侧，且第二提升泵与电解槽通过管道相连接；所述第二提升泵的另一端与再生槽通过管道相连接。
优选的，所述过滤器具体为砂石过滤器。
优选的，所述阴极、阳极的顶端与直流电源相连接。
优选的，所述阴极由一根纯铜柱与十二块纯铜板组合而成，且纯铜板在纯铜柱的外壁上呈环形阵列状分布。
优选的，所述阳极具体为不锈钢板。
由于上述技术方案的运用，本发明与现有技术相比具有下列优点：
1、本发明过滤器具体为砂石过滤器的设置，沉淀池内未完全沉淀的颗粒物在输送过程中容易损坏提升泵，而砂石过滤器的设置增强了装置的过滤效果，防止颗粒物对提升泵造成损坏。
2、本发明阴极、阳极的顶端与直流电源相连接的设置，利用电解的原理将刻蚀液内的铜离子向阴极聚集，在阴极析出纯铜，从而到达过滤刻蚀液内杂质的目的。
3、本发明阴极由一根纯铜柱与十二块纯铜板组合而成，且纯铜板在纯铜柱的外壁上呈环形阵列状分布的设置，增大了阴极的表面积，从而提高了阴极与电解液的接触面积，提高了电离效率，提高了装置的过滤效果。
4、本发明通过结构上的改进，具有过滤效果好，环保，污染较小，成本较低，过滤后的刻蚀液可重复利用等优点，从而有效的解决了现有装置中存在的问题和不足。
附图说明
图1为本发明的结构示意图。
图2为本发明的电解槽结构示意图。
图3为本发明的阴极俯视结构示意图。
图中：沉淀池1、过滤器2、第一提升泵3、刻蚀液配置罐4、水阀5、电解槽6、鼓风机7、氯气吸收塔8、再生槽9、第二提升泵10、顶盖601、槽体602、阴极603、阴极室604、阳极室605、阳极606、阳离子隔膜607。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
请参阅图1至图3，本发明提供一种技术方案：
一种PCB刻蚀液杂质过滤装置，包括：沉淀池1、过滤器2、第一提升泵3、刻蚀液配置罐4、水阀5、电解槽6、鼓风机7、氯气吸收塔8、再生槽9、第二提升泵10、顶盖601、槽体602、阴极603、阴极室604、阳极室605、阳极606、阳离子隔膜607；第一提升泵3位于沉淀池1的顶部，且第一提升泵3与沉淀池1通过管道相连接；第一提升泵3与沉淀池1的连接处设置有过滤器2；电解槽6位于刻蚀液配置罐4的下方，且电解槽6与刻蚀液配置罐4通过管道相连接；水阀5设置在电解槽6与刻蚀液配置罐4的连接处；顶盖601设置在电解槽6的顶部，且槽体602位于顶盖601的下方；阴极室604位于槽体602的左侧，且阴极603设置在阴极室604的内部；阳极室605位于槽体602的右侧，且阳极606设置在阳极室605的内部；阳离子隔膜607设置在阴极室604的内部；鼓风机7设置在电解槽6的顶部，且鼓风机7的一端与氯气吸收塔8相连接；第二提升泵10位于电解槽6的一侧，且第二提升泵10与电解槽6通过管道相连接；第二提升泵10的另一端与再生槽9通过管道相连接。
具体的，过滤器2具体为砂石过滤器，沉淀池1内未完全沉淀的颗粒物在输送过程中容易损坏提升泵，而砂石过滤器的设置增强了装置的过滤效果，防止颗粒物对提升泵造成损坏。
具体的，阴极603、阳极606的顶端与直流电源相连接，利用电解的原理将刻蚀液内的铜离子向阴极603聚集，在阴极603析出纯铜，从而到达过滤刻蚀液内杂质的目的。
具体的，阴极603由一根纯铜柱与十二块纯铜板组合而成，且纯铜板在纯铜柱的外壁上呈环形阵列状分布，增大了阴极603的表面积，从而提高了阴极603与电解液的接触面积，提高了电离效率，提高了装置的过滤效果。
具体的，阳极606具体为不锈钢板。
具体使用方法与作用：
目前酸性刻蚀是电路板刻蚀的发展趋势，当刻蚀过程中刻蚀液内铜含量达到140克/升以上就不能在使用，作为废液排放，本方案提供一种PCB刻蚀液杂质过滤装置，能够将刻蚀液内的杂质提取，降低刻蚀液内铜的含量，使刻蚀液能够返回系统再次使用，达到降低成本，减小污染的目的。
PCB刻蚀液首先进入沉淀池1内进行沉淀，将杂质及颗粒物沉淀到池底，沉淀后的刻蚀液通过第一提升泵3输送至刻蚀液配置罐4，第一提升泵3的前端设置有过滤器2，过滤器2具体为砂石过滤器，沉淀池1内未完全沉淀的颗粒物在输送过程中容易损坏提升泵，而砂石过滤器的设置增强了装置的过滤效果，防止颗粒物对提升泵造成损坏，刻蚀液进入刻蚀液配置罐4进行配置，调节刻蚀液的浓度，调节完毕后在通过水阀5将刻蚀液输送至电解槽6，阴极603、阳极606的顶端与直流电源相连接，利用电解的原理将刻蚀液内的铜离子向阴极603聚集，在阴极603析出纯铜，从而到达过滤刻蚀液内杂质的目的，电解的过程中会产生氯气，通过顶部的鼓风机7将氯气鼓入氯气吸收塔8，对氯气进行吸收与处理，减小对环境的污染，阳离子隔膜607设置在阴极室604的内部，由于刻蚀液中可能存在其他金属阳离子，通过阳离子隔膜607可对此类阳离子进行隔绝，提高了阴极603析出铜的纯度，过滤后的刻蚀液通过第二提升泵10输送至再生槽9留作备用。
综上所述：该一种PCB刻蚀液杂质过滤装置，通过过滤器具体为砂石过滤器的设置，沉淀池内未完全沉淀的颗粒物在输送过程中容易损坏提升泵，而砂石过滤器的设置增强了装置的过滤效果，防止颗粒物对提升泵造成损坏；通过阴极、阳极的顶端与直流电源相连接的设置，利用电解的原理将刻蚀液内的铜离子向阴极聚集，在阴极析出纯铜，从而到达过滤刻蚀液内杂质的目的；通过阴极由一根纯铜柱与十二块纯铜板组合而成，且纯铜板在纯铜柱的外壁上呈环形阵列状分布的设置，增大了阴极的表面积，从而提高了阴极与电解液的接触面积，提高了电离效率，提高了装置的过滤效果。本发明通过以上上的改进，具有过滤效果好，环保，污染较小，成本较低，过滤后的刻蚀液可重复利用等优点，从而有效的解决了现有装置中存在的问题和不足。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (5)

1.一种PCB刻蚀液杂质过滤装置，包括：沉淀池(1)、过滤器(2)、第一提升泵(3)、刻蚀液配置罐(4)、水阀(5)、电解槽(6)、鼓风机(7)、氯气吸收塔(8)、再生槽(9)、第二提升泵(10)、顶盖(601)、槽体(602)、阴极(603)、阴极室(604)、阳极室(605)、阳极(606)、阳离子隔膜(607)；其特征在于：所述第一提升泵(3)位于沉淀池(1)的顶部，且第一提升泵(3)与沉淀池(1)通过管道相连接；所述第一提升泵(3)与沉淀池(1)的连接处设置有过滤器(2)；所述电解槽(6)位于刻蚀液配置罐(4)的下方，且电解槽(6)与刻蚀液配置罐(4)通过管道相连接；所述水阀(5)设置在电解槽(6)与刻蚀液配置罐(4)的连接处；所述顶盖(601)设置在电解槽(6)的顶部，且槽体(602)位于顶盖(601)的下方；所述阴极室(604)位于槽体(602)的左侧，且阴极(603)设置在阴极室(604)的内部；所述阳极室(605)位于槽体(602)的右侧，且阳极(606)设置在阳极室(605)的内部；所述阳离子隔膜(607)设置在阴极室(604)的内部；所述鼓风机(7)设置在电解槽(6)的顶部，且鼓风机(7)的一端与氯气吸收塔(8)相连接；所述第二提升泵(10)位于电解槽(6)的一侧，且第二提升泵(10)与电解槽(6)通过管道相连接；所述第二提升泵(10)的另一端与再生槽(9)通过管道相连接。
2.根据权利要求1所述的一种PCB刻蚀液杂质过滤装置，其特征在于：所述过滤器(2)具体为砂石过滤器。
3.根据权利要求1所述的一种PCB刻蚀液杂质过滤装置，其特征在于：所述阴极(603)、阳极(606)的顶端与直流电源相连接。
4.根据权利要求1所述的一种PCB刻蚀液杂质过滤装置，其特征在于：所述阴极(603)由一根纯铜柱与十二块纯铜板组合而成，且纯铜板在纯铜柱的外壁上呈环形阵列状分布。
5.根据权利要求1所述的一种PCB刻蚀液杂质过滤装置，其特征在于：所述阳极(606)具体为不锈钢板。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114657566A (zh) * 2022-05-23 2022-06-24 江油星联电子科技有限公司 一种电路板生产用药水再生装置

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07331478A (ja) * 1994-06-10 1995-12-19 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 銅電解用カソードの処理方法
JPH09291389A (ja) * 1996-04-26 1997-11-11 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 湿式銅電解用の電解浴槽
CN104556498A (zh) * 2014-12-25 2015-04-29 成都虹华环保科技股份有限公司 一种低浓度含铜废水的处理系统
CN104726866A (zh) * 2013-12-24 2015-06-24 张逸 一种酸性蚀刻废液再生及铜回收装置
CN204570005U (zh) * 2015-05-01 2015-08-19 深圳市恒宝源环保科技有限公司 一种从微蚀液中回收铜的装置
CN205529064U (zh) * 2016-01-29 2016-08-31 江苏净拓环保科技有限公司 一种酸性蚀刻液再生回收铜装置
CN205821457U (zh) * 2016-06-20 2016-12-21 深圳市福田区环境技术研究所有限公司 一种线路板碱性废液处理装置
CN106929857A (zh) * 2017-04-01 2017-07-07 东莞市青玉环保设备科技有限公司 含铜酸性蚀刻液循环再生回用设备及方法
CN207685348U (zh) * 2017-12-21 2018-08-03 惠州大亚湾双益达电路板科技有限公司 一种pcb刻蚀液杂质过滤装置

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07331478A (ja) * 1994-06-10 1995-12-19 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 銅電解用カソードの処理方法
JPH09291389A (ja) * 1996-04-26 1997-11-11 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 湿式銅電解用の電解浴槽
CN104726866A (zh) * 2013-12-24 2015-06-24 张逸 一种酸性蚀刻废液再生及铜回收装置
CN104556498A (zh) * 2014-12-25 2015-04-29 成都虹华环保科技股份有限公司 一种低浓度含铜废水的处理系统
CN204570005U (zh) * 2015-05-01 2015-08-19 深圳市恒宝源环保科技有限公司 一种从微蚀液中回收铜的装置
CN205529064U (zh) * 2016-01-29 2016-08-31 江苏净拓环保科技有限公司 一种酸性蚀刻液再生回收铜装置
CN205821457U (zh) * 2016-06-20 2016-12-21 深圳市福田区环境技术研究所有限公司 一种线路板碱性废液处理装置
CN106929857A (zh) * 2017-04-01 2017-07-07 东莞市青玉环保设备科技有限公司 含铜酸性蚀刻液循环再生回用设备及方法
CN207685348U (zh) * 2017-12-21 2018-08-03 惠州大亚湾双益达电路板科技有限公司 一种pcb刻蚀液杂质过滤装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114657566A (zh) * 2022-05-23 2022-06-24 江油星联电子科技有限公司 一种电路板生产用药水再生装置
CN114657566B (zh) * 2022-05-23 2022-08-09 江油星联电子科技有限公司 一种电路板生产用药水再生装置

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