CN107815652B - 一种可旋转靶材装夹装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种可旋转靶材装夹装置,包括底座,所述底座的上表面的中部固定连接有第一转轴,且底座的上表面的外围均匀开设有转盘卡槽,所述第一转轴的外表面的中部套接有转盘,所述转盘的下表面的外围均匀固定连接有转盘卡销,且转盘的上表面的左部和右部均固定连接有支架,所述支架的外表面套接有滑动套管,通过抬起转盘,从转盘卡槽中抽出转盘卡销,然后控制装夹装置水平旋转,通过抽出两个卡销后,可以垂直旋转装夹装置,通过两个旋转机构使得靶材可以朝向任何需要的方向,不需要因改变朝向再重新装夹,当靶材受热时,防滑胶层回融化,将装夹板和靶材外表面粘连在一起,结构紧固。

Description

一种可旋转靶材装夹装置
技术领域
本发明涉及靶材技术领域,具体为一种可旋转靶材装夹装置。
背景技术
靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。简单说的话,靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料,用于高能激光武器中,不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时,会产生不同的杀伤破坏效应,但现在应用的大多数靶材支架是固定的,不能自由改变测试角度,每次更换测试角度都要进行重新装夹。
发明内容
本发明的目的在于提供一种可旋转靶材装夹装置,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种可旋转靶材装夹装置,包括底座,所述底座的上表面的中部固定连接有第一转轴,且底座的上表面的外围均匀开设有转盘卡槽,所述第一转轴的外表面的中部套接有转盘,所述转盘的下表面的外围均匀固定连接有转盘卡销,且转盘的上表面的左部和右部均固定连接有支架,所述支架的外表面套接有滑动套管,所述滑动套管的前表面螺接有紧固螺栓,且滑动套管的右侧壁的外表面固定连接有第二转轴,所述第二转轴的外表面套接有转动套管,所述转动套管的上侧壁的内表面卡接有卡销,且转动套管的内部开设有弹簧卡槽,所述卡销的左侧壁和右侧壁中部均固定连接有弹簧底座,所述弹簧底座的上表面固定连接有复位弹簧的一端,所述复位弹簧的另一端与弹簧卡槽的上表面固定连接,所述第二转轴的外表面均匀开设有变档卡槽,所述转动套管的左侧壁的左侧面固定连接有环形装夹器,所述环形装夹器的内表面均匀固定连接有弹簧套管,所述弹簧套管的下表面固定连接有装夹板,且弹簧套管的外表面套接有装夹弹簧。
优选的,所述第一转轴的上表面固定连接有拉抬限制盖。
优选的,所述卡销的外表面的上部开设有支撑杆插孔。
优选的,所述第二转轴的外表面开设变档卡槽的间距最小为变档卡槽的直径。
优选的,所述转盘的下表面与底座的上表面之间的间距在1.5cm~3cm。
优选的,所述装夹板的下表面固定连接有防滑胶层。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:一种可旋转靶材装夹装置,通过抬起转盘,从转盘卡槽中抽出转盘卡销,然后控制装夹装置水平旋转,通过抽出两个卡销后,可以垂直旋转装夹装置,通过两个旋转机构使得靶材可以朝向任何需要的方向,不需要因改变朝向再重新装夹,当靶材受热时,防滑胶层回融化,将装夹板和靶材外表面粘连在一起,结构紧固。
附图说明
图1为本发明的整体结构示意图;
图2为本发明的转动套管的剖面图。
图中:1底座、2第一转轴、3转盘卡槽、4转盘、5转盘卡销、6拉抬限制盖、7支架、8滑动套管、9紧固螺栓、10第二转轴、11卡销、12转动套管、13弹簧套管、14装甲弹簧、15装夹板、16防滑胶层、17变档卡槽、18支撑杆插孔、19弹簧卡槽、20弹簧底座、21复位弹簧、22环形装夹器。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
请参阅图1-2,本发明提供一种技术方案:一种可旋转靶材装夹装置,包括底座1,所述底座1的上表面的中部固定连接有第一转轴2,且底座1的上表面的外围均匀开设有转盘卡槽3,所述第一转轴2的外表面的中部套接有转盘4,所述转盘4的下表面的外围均匀固定连接有转盘卡销5,且转盘4的上表面的左部和右部均固定连接有支架7,所述支架7的外表面套接有滑动套管8,所述滑动套管8的前表面螺接有紧固螺栓9,且滑动套管8的右侧壁的外表面固定连接有第二转轴10,所述第二转轴10的外表面套接有转动套管12,所述转动套管12的上侧壁的内表面卡接有卡销11,且转动套管12的内部开设有弹簧卡槽19,所述卡销11的左侧壁和右侧壁中部均固定连接有弹簧底座20,所述弹簧底座20的上表面固定连接有复位弹簧21的一端,所述复位弹簧21的另一端与弹簧卡槽19的上表面固定连接,所述第二转轴10的外表面均匀开设有变档卡槽17,所述转动套管12的左侧壁的左侧面固定连接有环形装夹器22,所述环形装夹器22的内表面均匀固定连接有弹簧套管13,所述弹簧套管13的下表面固定连接有装夹板15,且弹簧套管13的外表面套接有装夹弹簧14,通过抬起转盘4,从转盘卡槽3中抽出转盘卡销5,然后控制装夹装置水平旋转,通过抽出两个卡销11后,可以垂直旋转装夹装置,通过两个旋转机构使得靶材可以朝向任何需要的方向,不需要因改变朝向再重新装夹,当靶材受热时,防滑胶层16回融化,将装夹板15和靶材外表面粘连在一起,结构紧固。
具体而言,为了防止装夹装置水平转动时转盘拉起过高脱扣,所述第一转轴2的上表面固定连接有拉抬限制盖6。
具体而言,为了方便同时拉起两根卡销,所述卡销11的外表面的上部开设有支撑杆插孔18。
具体而言,为了让变档卡槽能够能够承受一定的应力,所述第二转轴10的外表面开设变档卡槽17的间距最小为变档卡槽17的直径。
具体而言,为了抬起转盘时方便拉抬结构嵌入,所述转盘4的下表面与底座1的上表面之间的间距在1.5cm~3cm。
具体而言,为了防止金属面之间摩擦力不足,所述装夹板15的下表面固定连接有防滑胶层16。
工作原理:当本发明在使用时,通过抬起转盘4,从转盘卡槽3中抽出转盘卡销5,然后控制装夹装置水平旋转,通过抽出两个卡销11后,可以垂直旋转装夹装置,通过两个旋转机构使得靶材可以朝向任何需要的方向,不需要因改变朝向再重新装夹,装夹板15的下表面固定连接有防滑胶层16,当靶材受热时,防滑胶层16回融化,将装夹板15和靶材外表面粘连在一起,结构紧固,转盘4的下表面与底座1的上表面之间的间距在1.5cm~3cm,在抬起转盘4时方便拉抬结构嵌入,为了使变档卡槽17能够承受一定的冲击力且不发生形变,第二转轴10的外表面开设变档卡槽17的间距最小为变档卡槽17的直径,卡销11的外表面的上部开设有支撑杆插孔18,在卡销11拔起时可在支撑杆插孔18内插入牙签之类的细杆,方便同时拔起两个卡销11,第一转轴2的上表面固定连接有拉抬限制盖6,限制了转盘4抬起是的最大抬起高度,使其不会因为抬起过高脱扣。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (6)

1.一种可旋转靶材装夹装置,包括底座(1),其特征在于:所述底座(1)的上表面的中部固定连接有第一转轴(2),且底座(1)的上表面的外围均匀开设有转盘卡槽(3),所述第一转轴(2)的外表面的中部套接有转盘(4),所述转盘(4)的下表面的外围均匀固定连接有转盘卡销(5),且转盘(4)的上表面的左部和右部均固定连接有支架(7),所述支架(7)的外表面套接有滑动套管(8),所述滑动套管(8)的前表面螺接有紧固螺栓(9),第二转轴(10)的两端分别与左、右两个支架(7)上的滑动套筒(8)连接,所述第二转轴(10)的外表面套接有转动套管(12),所述转动套管(12)的上侧壁的内表面卡接有卡销(11),且转动套管(12)的内部开设有弹簧卡槽(19),所述卡销(11)的左侧壁和右侧壁中部均固定连接有弹簧底座(20),所述弹簧底座(20)的上表面固定连接有复位弹簧(21)的一端,所述复位弹簧(21)的另一端与弹簧卡槽(19)的上表面固定连接,所述第二转轴(10)的外表面均匀开设有变档卡槽(17),所述转动套管(12)的外周面上固定连接有环形装夹器(22),所述环形装夹器(22)的内表面均匀固定连接有弹簧套管(13),所述弹簧套管(13)的下表面固定连接有装夹板(15),且弹簧套管(13)的外表面套接有装夹弹簧(14)。
2.根据权利要求1所述的一种可旋转靶材装夹装置,其特征在于:所述第一转轴(2)的上表面固定连接有拉抬限制盖(6)。
3.根据权利要求1所述的一种可旋转靶材装夹装置,其特征在于:所述卡销(11)的外表面的上部开设有支撑杆插孔(18)。
4.根据权利要求1所述的一种可旋转靶材装夹装置,其特征在于:所述第二转轴(10)的外表面开设变档卡槽(17)的间距最小为变档卡槽(17)的直径。
5.根据权利要求1所述的一种可旋转靶材装夹装置,其特征在于:所述转盘(4)的下表面与底座(1)的上表面之间的间距在1.5cm-3cm。
6.根据权利要求1所述的一种可旋转靶材装夹装置,其特征在于:所述装夹板(15)的下表面固定连接有防滑胶层(16)。
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109014978A (zh) * 2018-08-08 2018-12-18 芜湖易测自动化设备有限公司 一种工件加工用夹持旋转工作台
CN113322435B (zh) * 2021-08-02 2021-10-22 江苏拓创新材料科技有限公司 一种导电氧化锆旋转靶材制造装置
CN115930059A (zh) * 2022-09-30 2023-04-07 湖南兆丰信息技术有限公司 一种信息系统集成优化平台

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19508406A1 (de) * 1995-03-09 1996-09-12 Leybold Ag Kathodenanordnung für eine Vorrichtung zum Zerstäuben eines Target-Paares
US6375815B1 (en) * 2001-02-17 2002-04-23 David Mark Lynn Cylindrical magnetron target and apparatus for affixing the target to a rotatable spindle assembly
DE502005006841D1 (de) * 2005-12-22 2009-04-23 Applied Materials Gmbh & Co Kg Zerstäubungsvorrichtung mit einer Rohrkathode und Verfahren zum Betreiben dieser Zerstäubungsvorrichtung
EP2276870A4 (en) * 2008-04-14 2012-07-25 Angstrom Sciences Inc CYLINDRICAL MAGNETRON
CN102108490B (zh) * 2009-12-29 2012-10-03 中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司 一种磁控溅射靶
CN201626979U (zh) * 2010-01-29 2010-11-10 东莞宏威数码机械有限公司 精准定位溅镀装置
CN102796990A (zh) * 2011-05-26 2012-11-28 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 镀膜承载架
CN205046192U (zh) * 2015-10-15 2016-02-24 广东耐信镀膜科技有限公司 一种新型免维护高效靶材机构

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