CN107799557B - 显示装置 - Google Patents
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Abstract
提供了一种显示装置,所述显示装置包括:基底,包括第一塑料层、位于第一塑料层上的第二塑料层以及位于第一塑料层与第二塑料层之间的黑色有机层;缓冲层,位于基底上;薄膜晶体管,位于缓冲层上;以及多个显示元件,所述多个显示元件中的至少一个电连接到薄膜晶体管,所述多个显示元件分别布置在多个像素中。
Description
于2016年9月6日在韩国知识产权局提交的名为“Display Device(显示装置)”的第10-2016-0114451号韩国专利申请通过引用全部包含于此。
技术领域
一个或更多个实施例涉及一种显示装置。
背景技术
有机发光显示装置具有自发光特性,并且可以在没有单独的光源的情况下使用。因此,有机发光显示装置可以具有减小的厚度和重量。此外,有机发光显示装置可以显示出高质量特性,诸如低功耗、高亮度、高响应速度等。
发明内容
实施例涉及一种显示装置,所述显示装置包括:基底,包括第一塑料层、位于第一塑料层上的第二塑料层以及位于第一塑料层与第二塑料层之间的黑色有机层;缓冲层,位于基底上;薄膜晶体管,位于缓冲层上;以及多个显示元件,多个显示元件中的至少一个电连接到薄膜晶体管,多个显示元件分别布置在多个像素中。
第一塑料层和第二塑料层可以是柔性的。
基底还可以包括位于第一塑料层与第二塑料层之间的无机层。
无机层可以包括非晶硅、氧化硅和氮化硅中的至少一种。
黑色有机层可以接触第一塑料层和第二塑料层中的至少一个。
黑色有机层的厚度可以小于第一塑料层的厚度和第二塑料层的厚度。
黑色有机层可以具有约5μm或更小的厚度。
显示装置还可以包括位于多个显示元件上的光屏蔽件。
光屏蔽件可以布置在多个像素中的相邻像素之间。
显示装置还可以包括包含至少一个有机层和至少一个无机层的包封层,包封层位于多个显示元件与光屏蔽件之间。
显示装置还可以包括位于光屏蔽件之间的滤色器。
黑色有机层可以是一体的并且可以与多个像素对应。
缓冲层可以包括无机材料。
薄膜晶体管可以包括半导体层和与半导体层的沟道区域叠置的栅电极。
半导体层和栅电极中的一个可以直接位于缓冲层上。
多个显示元件中的每个可以包括:像素电极,电连接到薄膜晶体管;中间层,位于像素电极上,并且包括发射层;以及对电极,位于中间层上。
多个显示元件可以包括第一颜色的第一显示元件和第二颜色的第二显示元件,第一显示元件的像素电极和对电极之间的距离可以与第二显示元件的像素电极和对电极之间的距离不同。
显示装置还可以包括:覆盖层,位于对电极上;以及防反射辅助层,位于对电极上,其中,覆盖层设置在防反射辅助层与对电极之间。
防反射辅助层可以包括Ti、Mo和Mn中的至少一种。
由对电极反射的光可以与由防反射辅助层反射的光相消干涉。
附图说明
通过参照附图详细描述示例性实施例,特征对于本领域技术人员来说将变得明显,在附图中:
图1示出了根据实施例的显示装置的平面图;
图2示出了沿着图1的线II-II截取的显示装置的剖视图;
图3A和图3B示出了根据实施例的电路元件层、中间层和对电极的剖视图,并对应于图2的显示装置的部分III;
图4至图6示出了根据另一实施例的显示装置的基底的剖视图;
图7示出了根据另一实施例的显示装置的剖视图;以及
图8和图9示出了根据另一实施例的显示装置的剖视图。
具体实施方式
现在将在下文中参照附图更充分地描述示例实施例;然而,示例实施例可以以不同的形式实施,并且不应被解释为受限于这里所阐述的实施例。相反,这些实施例被提供为使得本公开将是彻底的和完整的,并且将把示例性实施方式充分传达给本领域技术人员。在附图中,为了示出的清楚,可以夸大层和区域的尺寸。同样的附图标记始终指示同样的元件。
如这里所使用的,术语“和/或”包括一个或更多个相关所列项的任意组合和所有组合。
将理解的是,尽管在这里可使用术语“第一”、“第二”等来描述各种组件,但是这些组件不应受这些术语的限制。这些术语仅用来将一个组件与另一个组件区分开。
如这里所使用的,除非上下文清楚地另有指明,否则单数形式“一个(种)”和“所述(该)”意图也包括复数形式。
还将理解的是,在这里使用的术语“包含”和/或其变型说明存在陈述的特征或组件,但不排除存在或附加一个或更多个其它特征或组件。
当可以不同地实施某个实施例时,可以不同于所描述的顺序执行特定的工艺顺序。例如,可以基本上同时执行两个连续描述的工艺或者以与所描述的顺序相反的顺序执行两个连续描述的工艺。
将理解的是,当层、区域或组件被称作“连接”到另一层、区域或组件时,该层、区域或组件可以“直接连接”到所述另一层、区域或组件,或者可以“间接连接”到所述另一层、区域或组件,其中,其它层、区域或组件置于该层、区域或组件与所述另一层、区域或组件之间。例如,将理解的是,当层、区域或组件被称作“电连接”到另一层、区域或组件时,该层、区域或组件可以“直接电连接”到所述另一层、区域或组件,或者可以“间接电连接”到所述另一层、区域或组件,其中,又一层、区域或组件置于该层、区域或组件与所述另一层、区域或组件之间。
图1是根据实施例的显示装置1的平面图。
参照图1,显示装置1包括显示区域DA以及作为不提供图像的非显示区域的外围区域PA。具有显示元件(诸如有机发光二极管(OLED))的像素P位于显示区域DA中并且提供预定图像。外围区域PA可以包括传输将被施加到显示区域DA的像素P的电信号和电力的诸如扫描驱动器和数据驱动器的驱动器、诸如扫描线和数据线的信号线以及提供电力的诸如驱动电压ELVDD线和公共电压ELVSS线的电力线。
图2是沿着图1的线II-II截取的显示装置1的剖视图,图3A和图3B是根据实施例的电路元件层、中间层和对电极的剖视图,并对应于图2的显示装置1的部分III。
参照图2,显示装置1的基底100A具有柔性特性,使得其可以例如折叠或卷起。根据本示例实施例,基底100A包括柔性的第一塑料层111A和第二塑料层115A以及它们之间的黑色有机层113A。
第一塑料层111A和第二塑料层115A可以包括例如聚酰亚胺(PI)、聚醚砜(PES)、聚丙烯酸酯(PAR)、聚醚酰亚胺(PEI)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚苯硫醚(PPS)、聚芳酯、聚碳酸酯(PC)、三乙酸纤维素(TAC)、乙酸丙酸纤维素(CAP)、环烯烃聚合物、环烯烃共聚物等。
第一塑料层111A和第二塑料层115A可以是具有预定厚度的板状层并且具有柔性特性。第一塑料层111A和第二塑料层115A可以具有从例如约3μm至约50μm范围的厚度。在示例实施例中,第一塑料层111A和第二塑料层115A可以具有从例如约3μm至约20μm范围的厚度。在示例实施例中,第一塑料层111A和第二塑料层115A可以具有从约5μm至约10μm范围的厚度。在第一塑料层111A和第二塑料层115A具有偏离上述范围的最小值的厚度的情况下,基底100A的可靠性会降低。此外,在第一塑料层111A和第二塑料层115A具有偏离上述范围的最大值的厚度的情况下,柔性特性会降低,黑色有机层113A中吸收的光的量会减少。
可以在上述范围内不同地选择第一塑料层111A和第二塑料层115A的厚度。第一塑料层111A和第二塑料层115A的厚度可以是可选择的相同或不同的厚度。通过考虑从外部入射到显示装置1并穿过第二塑料层115A的光在黑色有机层113A中被吸收的吸收率,第二塑料层115A可以具有小于第一塑料层111A的厚度的厚度。
根据本示例实施例,黑色有机层113A包括具有光吸收特性的有机材料。黑色有机层113A可以包括例如其中混合有炭黑或黑色染料的有机材料。例如,黑色有机层113A可以包括炭黑或黑色染料,或者颜料、粘合剂树脂、聚合物单体、光聚合引发剂等。
黑色有机层113A可以是一体的,例如,与多个像素P对应的单个连续体。在示例实施例中,黑色有机层113A可以不包括在x方向上不连续的多个区域,但是可以在x方向上连续,以覆盖多个像素P。黑色有机层113A吸收从外部入射的光。
经由光屏蔽件710以及滤色器721、722和723从外部透射并入射到显示装置1中的光会被显示装置1的层反射,因此,会对外部可见,这会降低显示质量。根据示例实施例,第一塑料层111A和第二塑料层115A之间的黑色有机层113A吸收入射到显示装置1中的光,使得朝向显示装置1的外部行进的光可以被减少或被阻挡,也就是说,可以降低显示装置1的外部光的反射率,并且可以改善显示质量。
黑色有机层113A可以直接接触第一塑料层111A和第二塑料层115A。例如,黑色有机层113A的一侧可以接触第一塑料层111A,黑色有机层113A的相对侧可以接触第二塑料层115A。第一塑料层111A和第二塑料层115A以及黑色有机层113A可以包括有机材料。因此,这些层之间的结合力可以比无机层与这些层中的每个之间的结合力强。因此,在显示装置1弯曲或卷曲的情况下,可以改善对施加到基底100A的应力的耐受度,并且可以改善显示装置1的耐久性。
在示例实施例中,黑色有机层113A可以具有小于第一塑料层111A和第二塑料层115A的厚度的厚度。黑色有机层113A的最大厚度可以为例如约5μm。在示例实施例中,黑色有机层113A可以具有从例如约1μm至约5μm范围的厚度,这可以有助于防止外部异物(例如,湿气)经由基底100A透入。
基底100A还可以包括位于第一塑料层111A与第二塑料层115A之间的导电材料层。导电材料层可以包括例如金属、导电聚合物或者诸如ITO、IZO、ZnO、In2O3、IGO或AZO的透明导电氧化物(TCO)层。导电材料层可以是包括上述材料的单层或多层。
电路元件层200可以在每个像素P中包括像素电极210。中间层310、320和330以及对电极400可以位于像素电极210上。
中间层310、320和330可以包括对于每个像素P发出不同颜色的光的发射层。例如,中间层310(在下文中,称为第一中间层)可以包括包含发出红光的有机材料的发射层。另外的中间层320(在下文中,称为第二中间层)可以包括包含发出绿光的有机材料的发射层。另外的中间层330(在下文中,称为第三中间层)可以包括包含发出蓝光的有机材料的发射层。除了发光的发射层之外,第一中间层310、第二中间层320和第三中间层330中的每个还可以包括空穴传输层(HTL)、空穴注入层(HIL)、电子传输层(ETL)和电子注入层(EIL)中的一个或更多个。
像素电极210、第一中间层310和对电极400可以形成一个OLED。当分别从像素电极210和对电极400注入的空穴和电子在第一中间层310(例如,发射层)中复合时,产生激子。激子从激发态跃迁到基态的同时,激子发出红光。类似地,像素电极210、第二中间层320和对电极400形成一个OLED并且发出绿光。像素电极210、第三中间层330和对电极400形成一个OLED并且发出蓝光。电路元件层200包括将信号和电压施加到上述OLED的电路。
参照图3A,电路元件层200可以包括驱动薄膜晶体管T1、开关薄膜晶体管T2、存储电容器Cst和与它们电连接的像素电极210。
驱动薄膜晶体管T1可以包括驱动半导体层A1、驱动栅电极G1、驱动源电极S1和驱动漏电极D1。开关薄膜晶体管T2可以包括开关半导体层A2、开关栅电极G2、开关源电极S2和开关漏电极D2。存储电容器Cst可以包括第一存储板CE1和第二存储板CE2。
缓冲层201可以位于第二塑料层115A与驱动半导体层A1和开关半导体层A2之间。栅极绝缘层203可以位于驱动半导体层A1和开关半导体层A2与驱动栅电极G1和开关栅电极G2之间。电介质层205可以位于第一存储板CE1与第二存储板CE2之间。层间绝缘层207可以位于驱动栅电极G1和开关栅电极G2与驱动源电极S1/漏电极D1和开关源电极S2/漏电极D2之间。绝缘层209可以位于像素电极210的下方。
缓冲层201和栅极绝缘层203可以是包括诸如SiNx和/或SiOx的无机材料的单层或多层。电介质层205和层间绝缘层207可以是包括诸如SiOx、SiNx和/或Al2O3的无机材料的单层或多层。绝缘层209可以包括例如有机材料,其中,所述有机材料包括诸如聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)或聚苯乙烯(PS)的通用聚合物、具有酚类基团的聚合物衍生物、丙烯酸类聚合物、酰亚胺类聚合物、芳基醚类聚合物、酰胺类聚合物、氟类聚合物、对二甲苯类聚合物、乙烯醇类聚合物、它们的混合物等。
像素电极210位于绝缘层209上,绝缘层209可以是平坦化层。像素电极210可以是例如TCO层或者包括Ag或Ag合金的金属薄层,或者可以是包括金属薄层上的TCO层的多层。在示例实施例中,像素电极210可以是依次具有约的厚度的ITO/Ag/ITO的三层。
像素限定层213可以在覆盖像素电极210的边缘的同时使像素电极210暴露。像素限定层213可以包括有机绝缘材料和无机绝缘材料,或者仅包括有机绝缘材料,或者仅包括无机绝缘材料。
第一中间层310的发射层302a可以包括发出红光的有机材料,并且可以与像素电极210的由像素限定层213暴露的部分叠置。第一中间功能层301和第二中间功能层303可以在发射层302a的下方和/或上方。
第一中间功能层301可以位于像素电极210与发射层302a之间。第一中间功能层301可以包括例如HTL和HIL。第二中间功能层303可以位于发射层302a与对电极400之间。第二中间功能层303可以包括例如ETL和EIL。
发射层302a以及第一中间功能层301和第二中间功能层303可以包括低分子有机材料或聚合物材料。在发射层302a以及第一中间功能层301和第二中间功能层303包括低分子有机材料的情况下,它们可以包括各种有机材料,诸如铜酞菁(CuPc)、N,N'-二(萘-1-基)-N,N'-二苯基联苯胺(NPB)和三-8-羟基喹啉铝(Alq3)。在它们包括聚合物材料的情况下,第一中间功能层301可以包括HTL。HTL可以包括例如PEDOT,发射层302a可以包括例如诸如聚芴类材料的聚合物材料。
对电极400可以是完全覆盖基底100A的一体。对电极400可以是例如半透射金属薄层,半透射金属薄层包括诸如Li、Ca、LiF/Ca、LiF/Al、Al、Mg、Ag、Ag和Mg的合金等的具有小的功函数的金属。在另一实施方式中,对电极400可以包括半透射金属薄层和位于半透射金属薄层上的诸如ITO、IZO、ZnO、In2O3、IGO或AZO的TCO层。
图3A示出了电路元件层200的存储电容器Cst与驱动薄膜晶体管T1和开关薄膜晶体管T2中的驱动薄膜晶体管T1叠置的结构。尽管图3A示出了驱动栅电极G1用作第一存储板CE1,但是可以使用其它构造。
参照图3B,存储电容器Cst可以不与驱动薄膜晶体管T1叠置。例如,第一存储板CE1和驱动栅电极G1可以包括相同的材料,第二存储板CE2可以包括与驱动源电极S1和驱动漏电极和D1的材料相同的材料,栅极绝缘层203可以位于第一存储板CE1与第二存储板CE2之间。
尽管参照图3A和图3B描述的实施例描述了驱动薄膜晶体管T1的驱动栅电极G1和开关薄膜晶体管T2的开关栅电极G2位于驱动半导体层A1和开关半导体层A2上方的情况,但是可以使用其它构造。在另一个实施例中,驱动栅电极G1和开关栅电极G2可以分别位于驱动半导体层A1和开关半导体层A2的下方。根据驱动栅电极G1和开关栅电极G2的位置,在其它实施例中,驱动半导体层A1和开关半导体层A2可以直接位于缓冲层201的上方,在其它实施例中,驱动栅电极G1和开关栅电极G2可以直接位于缓冲层201的上方。
尽管已经参照图3A和图3B主要描述了具有第一中间层310的像素P,但是具有第二中间层320和第三中间层330的像素P可以具有相同的结构。由于其描述与上述描述相同,因此,将省略重复的描述。
再次参照图2,包封层500位于对电极400的上方。包封层500可以包括至少一个无机层和至少一个有机层。例如,包封层500可以包括第一无机层510、第二无机层530和位于第一无机层510与第二无机层530之间的有机层520。
第一无机层510和第二无机层530可以包括例如AlN、Al2O3、TiN、TiO2、SiON、SiNx、SiOx等。第一无机层510和第二无机层530可以保护对电极400、第一中间层310、第二中间层320和第三中间层330免受湿气的影响。
有机层520可以包括聚合物类材料,诸如聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚碳酸酯(PC)、聚苯乙烯(PS)、丙烯酸类聚合物、环氧类聚合物、聚酰亚胺(PI)和聚乙烯(PE)。有机层520可以比第一无机层510和第二无机层530厚。有机层520可以缓解第一无机层510和第二无机层530的内部应力,补偿第一无机层510和第二无机层530的任何缺陷,并且使第一无机层510和第二无机层530平坦化。
功能层600可以位于包封层500上。功能层600可以是例如包括透镜和/或具有不同折射率的多个层的光学功能层。在另一实施方式中,功能层600可以是例如包括识别触摸输入的电极的触摸电极层。
光屏蔽件710可以位于包封层500上,例如,位于功能层600上。光屏蔽件710可以包括诸如炭黑的光吸收材料,并且可以设置在相邻像素P之间。光屏蔽件710可以吸收从显示装置1的内部反射但未到达黑色有机层113A的光,这可以有助于防止光行进到外部。因此,光屏蔽件710可以有助于降低外部光的反射率并改善对比度。
滤色器721、722和723可以布置在与光屏蔽件710之间的像素对应的位置处。一个滤色器721(在下文中,称为第一滤色器)可以是红色滤色器,另一滤色器722(在下文中,称为第二滤色器)可以是绿色滤色器,另一滤色器723(在下文中,称为第三滤色器)可以是蓝色滤色器。当光从外部入射到第一滤色器721、第二滤色器722和第三滤色器723时,入射光中只有非常少量的光可以被第一滤色器721、第二滤色器722和第三滤色器723反射。因此,可以改善可视性,并且可以改善清晰度。
在使用光屏蔽件710、第一滤色器721、第二滤色器722和第三滤色器723的情况下,对外部光的防反射性能可以等于或小于使用偏振板的情况。根据实施例,黑色有机层113A位于基底100A的第一塑料层111A与第二塑料层115A之间。因此,与使用偏振板的情况相比,可以进一步降低外部光的反射率。此外,在使用偏振板的情况下,会降低从第一中间层310、第二中间层320和第三中间层330发出的光的亮度。根据实施例,不会发生光的亮度的降低。
背侧膜800可以位于基底100A的背侧上,例如,电路元件层200的相对侧。背侧膜800可以包括例如背侧保护层810、黑色层820以及缓冲层830。背侧膜800可以通过使用粘合剂或粘合胶带等附着到基底100A的背侧。在示例实施例中,背侧保护层810可以包括PET。黑色层820可以包括黑色墨水。缓冲层830可以包括聚合物树脂材料。
图4至图6是根据另一实施例的显示装置的基底的剖视图。
参照图4,基底100B可以包括第一塑料层111B和第二塑料层115B以及位于第一塑料层111B与第二塑料层115B之间的黑色有机层113B和无机层117B。由于第一塑料层111B和第二塑料层115B以及黑色有机层113B与上述第一塑料层111A和第二塑料层115A以及黑色有机层113A相同,因此,下面主要描述差异。
无机层117B是无机阻挡层,并且可以防止诸如湿气的外来异物经由基底100B渗透。无机层117B可以是例如包括诸如SiNx和/或SiOx的无机材料的单层或多层。在示例实施例中,无机层117B可以具有例如约的厚度。在基底100B还包括无机层117B的情况下,黑色有机层113B可以具有比参照图2描述的厚度薄的厚度。
尽管图4示出了无机层117B位于黑色有机层113B与第二塑料层115B之间的情况,但是可以使用其它构造。
参照图5,基底100C可以包括第一塑料层111C和第二塑料层115C、位于第一塑料层111C与第二塑料层115C之间的黑色有机层113C和无机层117C以及附加无机层119C。由于第一塑料层111C和第二塑料层115C以及黑色有机层113C与上面描述的第一塑料层111A和第二塑料层115A以及黑色有机层113A相同,并且无机层117C与上面描述的无机层117B相同,所以下面主要描述差异。
无机层117C可以位于黑色有机层113C下方,例如,位于黑色有机层113C与第一塑料层111C之间。无机层117C可以是如上所述的包括SiNx和/或SiOx的单层或多层。在示例实施例中,无机层117C可以具有例如约的厚度。
附加无机层119C位于第一塑料层111C与无机层117C之间,并且可以改善它们之间的粘附力。附加无机层119C可以包括无机材料,诸如非晶硅。附加无机层119C可以具有例如从大约至大约/>的范围的厚度。在示例实施例中,附加无机层119C可以具有例如约的厚度。
尽管图4和图5示出了黑色有机层113B和113C是单层的情况,但是可以使用其它构造。
参照图6,基底100D可以包括第一塑料层111D和第二塑料层115D、位于第一塑料层111D与第二塑料层115D之间的黑色有机层113D和位于黑色有机层113D之间的无机层117D。由于第一塑料层111D和第二塑料层115D与上述第一塑料层111A和第二塑料层115A相同,所以下面主要描述差异。
黑色有机层113D可以分别位于第一塑料层111D的上方和第二塑料层115D的下方。黑色有机层113D包括与上述材料相同的材料。无机层117D可以位于黑色有机层113D之间。无机层117D是无机阻挡层,并且可以是如上所述的包括诸如SiNx和/或SiOx的无机材料的单层或多层。
黑色有机层113A、113B、113C和113D可以是单层或多层,并且可以设置到基底100A、100B、100C和100D。黑色有机层113A、113B、113C和113D可以改善形成基底100A、100B、100C和100D的层之间的结合力,并且同时防止如上所述的外部光的反射,并且可以接触第一塑料层111A、111B、111C、111D和第二塑料层115A、115B、115C、115D中的至少一个。
图7是根据另一实施例的显示装置2的剖视图。
参照图7,显示装置2可以包括基底100A、电路元件层200、中间层310、320和330、对电极400、包封层500、功能层600、光屏蔽件710和背侧膜800。显示装置2的基底100A、电路元件层200、中间层310、320和330、对电极400、包封层500、功能层600、光屏蔽件710和背侧膜800与上述相同,省略它们的描述,下面主要描述差异。
显示装置2的每个像素P的第一中间层310、第二中间层320和第三中间层330可以具有不同的厚度。第一中间层310、第二中间层320和第三中间层330的厚度可以由分别从第一中间层310、第二中间层320和第三中间层330发出的光的波长以及第一中间层310、第二中间层320和第三中间层330的折射率来确定。第一中间层310、第二中间层320和第三中间层330中的每个可以通过与对电极400形成微腔结构来执行对外部光的防反射功能。例如,如图7所示,从外部入射的光的一部分可以被对电极400反射,已经穿过对电极400的光可以穿过第三中间层330,并且可以被像素电极210反射。由于由对电极400反射的光La和由像素电极210反射的光Lb彼此相消干涉,所以可以减少对显示装置2的外部可见的光,也就是说,可以降低外部光的反射率。
由于上述微腔结构,外部光会经历相消干涉,而分别从第一中间层310、第二中间层320和第三中间层330发射的光会经历相长干涉并且可以改善显示装置2的光效率。
如上所述,入射到显示装置2的光中的入射到基底100A的光可以被黑色有机层113A吸收,并且由其它层反射的光可以被光屏蔽件710吸收。
尽管图7示出了基底100A包括第一塑料层111A和第二塑料层115A以及它们之间的黑色有机层113A,但是可以使用其它构造。如参照图4至图6描述的,显示装置2的基底100B、100C和100D可以具有各种结构。
图8是根据另一实施例的显示装置3的剖视图,图9是根据另一实施例的显示装置4的剖视图。
参照图8,显示装置3可以包括基底100A、电路元件层200、第一中间层310、第二中间层320、第三中间层330、对电极400、包封层500、功能层600、光屏蔽件710、滤色器721、722和723以及背侧膜800。显示装置3的基底100A、电路元件层200、第一中间层310、第二中间层320、第三中间层330、对电极400、包封层500、功能层600、光屏蔽件710、滤色器721、722和723以及背侧膜800与参照图2至图3B所述的对应元件相同。参照图9,显示装置4可以包括基底100A、电路元件层200、第一中间层310、第二中间层320、第三中间层330、对电极400、包封层500、功能层600、光屏蔽件710和背侧膜800。它们的结构与参照图7描述的显示装置2的结构相同。因此,它们的描述与上述相同,下面主要描述差异。
如图8所示,显示装置3还可以包括位于对电极400与包封层500之间的覆盖层410和防反射辅助层420。
覆盖层410可以保护覆盖层410下方的层,例如,对电极400、第一中间层310、第二中间层320和第三中间层330。覆盖层410可以是包括有机材料和/或无机材料的单层或多层,并且可以具有从约至约/>的厚度。
防反射辅助层420位于覆盖层410上。防反射辅助层420可以是例如可透射从第一中间层310、第二中间层320和第三中间层330发出的光并且反射外部光的半透射层。防反射辅助层420可以包括例如Ti、Mo和Mn中的一种。防反射辅助层420可以具有例如从约至约/>的范围的厚度。在示例实施例中,防反射辅助层420可以具有例如约/>的厚度。
从外部入射到显示装置3的光中的由对电极400反射的光Lc和由防反射辅助层420反射的光Ld会彼此相消干扰。因此,可以减少对显示装置3的外部可见的光,也就是说,可以降低外部光的反射率。
无机阻挡层430可以位于防反射辅助层420上。无机阻挡层430可以包括例如LiF。无机阻挡层430可以在形成包封层500的第一无机层510的工艺期间有助于防止防反射辅助层420等被损坏。
防反射辅助层420布置在对电极400上方且覆盖层410设置在其间的结构可以设置到具有微腔的显示装置4。如图9所示,覆盖层410、防反射辅助层420和无机阻挡层430可以顺序地堆叠在对电极400上。各个构造与上面参照图8描述的构造相同。
图9所示的显示装置4包括微腔结构和防反射辅助层420两者。因此,显示装置4可以显著降低外部光的反射率。还设置防反射辅助层420,因此,会或多或少地降低第一中间层310、第二中间层320和第三中间层330中的发光效率。根据实施例,每个像素P包括微腔结构,因此,可以改善从第一中间层310、第二中间层320和第三中间层330发出的光的光效率。
尽管图8和图9示出了基底100A包括第一塑料层111A、第二塑料层115A以及它们之间的黑色有机层113A,但是也可以使用其它构造。如参照图4至图6所描述的,显示装置3和4的基底100B、100C和100D可以具有各种结构。
通过总结和回顾,为了使得由有机发光显示装置产生的图像不仅在室内空间中可读而且在室外空间中(外面)可读,可以使用偏振板。偏振板会降低从显示装置发出的光的亮度。此外,厚的偏振板可以因此增加显示装置的整体厚度。
如上所述,实施例可以提供减少外部光的反射率的显示装置而不用偏振板。实施例可以通过降低外部光的反射率并且改善室外可视性来改善显示装置的显示质量。
在这里已经公开了示例实施例,尽管采用了特定术语,但是它们被使用并仅以一般和描述性的意义来解释,而不是出于限制的目的。在一些情况下,正如在从本申请提交时起对本领域普通技术人员将明显的是,除非另有具体说明,否则结合特定实施例描述的特征、特点和/或元件可以单独使用或与结合其它实施例描述的特征、特点和/或元件组合使用。因此,本领域技术人员将理解的是,在不脱离如所附权利要求所阐述的本公开的精神和范围的情况下,可以做出形式和细节上的各种改变。
Claims (19)
1.一种显示装置,所述显示装置包括:
基底,包括第一塑料层、位于所述第一塑料层上的第二塑料层以及位于所述第一塑料层与所述第二塑料层之间的黑色有机层;
缓冲层,位于所述基底的所述第二塑料层上;
薄膜晶体管,位于所述缓冲层上;以及
多个显示元件,所述多个显示元件中的至少一个电连接到所述薄膜晶体管,所述多个显示元件分别布置在多个像素中,
其中,第一塑料层和第二塑料层具有3μm至50μm范围的厚度并且所述第二塑料层的厚度小于所述第一塑料层的厚度,所述黑色有机层的厚度小于所述第一塑料层和所述第二塑料层中的每者的厚度。
2.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述第一塑料层和所述第二塑料层是柔性的。
3.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述基底还包括位于所述第一塑料层与所述第二塑料层之间的无机层。
4.根据权利要求3所述的显示装置,其中,所述无机层包括非晶硅、氧化硅和氮化硅中的至少一种。
5.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述黑色有机层接触所述第一塑料层和所述第二塑料层中的至少一个。
6.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述黑色有机层具有5μm或更小的厚度。
7.根据权利要求1所述的显示装置,所述显示装置还包括位于所述多个显示元件上的光屏蔽件。
8.根据权利要求7所述的显示装置,其中,所述光屏蔽件布置在所述多个像素中的相邻像素之间。
9.根据权利要求7所述的显示装置,所述显示装置还包括包含至少一个有机层和至少一个无机层的包封层,所述包封层位于所述多个显示元件与所述光屏蔽件之间。
10.根据权利要求7所述的显示装置,所述显示装置还包括位于多个光屏蔽件之间的滤色器。
11.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述黑色有机层是一体的并且与所述多个像素对应。
12.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述缓冲层包括无机材料。
13.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述薄膜晶体管包括半导体层和与所述半导体层的沟道区域叠置的栅电极。
14.根据权利要求13所述的显示装置,其中,所述半导体层和所述栅电极中的一个直接位于所述缓冲层上。
15.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述多个显示元件中的每个包括:
像素电极,电连接到所述薄膜晶体管;
中间层,位于所述像素电极上,并且包括发射层;以及
对电极,所述对电极是半透射层,并且位于所述中间层上。
16.根据权利要求15所述的显示装置,其中:
所述多个显示元件包括第一颜色的第一显示元件和第二颜色的第二显示元件,
所述第一显示元件的像素电极和对电极之间的距离与所述第二显示元件的像素电极和对电极之间的距离不同。
17.根据权利要求15所述的显示装置,所述显示装置还包括:
覆盖层,位于所述对电极上;以及
防反射辅助层,位于所述对电极上,其中,所述覆盖层设置在所述防反射辅助层与所述对电极之间。
18.根据权利要求17所述的显示装置,其中,所述防反射辅助层包括Ti、Mo和Mn中的至少一种。
19.根据权利要求17所述的显示装置,其中,由所述对电极反射的光与由所述防反射辅助层反射的光相消干涉。
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